第一章集成電路制造工藝(已修改)
2025-03-15 22:31 本頁面
【正文】 微電子教研中心 集成電路設計原理 第一章 集成電路制造工藝 集成電路（ IC——Integrated Circuit） 制造工藝是集成電路實現的途徑，也是集成電路設計的基礎。 1 微電子教研中心 集成電路設計原理 集成電路制造工藝分類 1. 雙極型工藝（ bipolar） 2. MOS工藝 3. BiMOS工藝 2 微電子教研中心 集成電路設計原理 167。 11 雙極型集成電路工藝 (P1~5) 3 微電子教研中心 集成電路設計原理 思考題 ？ (mask)? ？ ？ ？ 4 微電子教研中心 集成電路設計原理 PN結隔離工藝流程 PSub 襯底準備（ P型） ?光刻 n+埋層區(qū) ?氧化 ?n+埋層擴散 ?清潔表面 5 微電子教研中心 集成電路設計原理 PSub PN結隔離工藝流程 （續(xù) 1） ?生長 n外延 ?隔離氧化 ?光刻 p+隔離區(qū) ?p+隔離擴散 ?p+隔離推進、氧化 N+ N+ N N 6 微電子教研中心 集成電路設計原理 PN結隔離工藝流程 （續(xù) 2） ?光刻硼擴散區(qū) PSub N+ N+ N N P+ P+ P+ ?硼擴散 ?氧化 7 微電子教研中心 集成電路設計原理 PN結隔離工藝流程 （續(xù) 3） ?光刻磷擴散區(qū) ?磷擴散 ?氧化 PSub N+ N+ N N P+ P+ P+ P P 8 微電子教研中心 集成電路設計原理 PN結隔離工藝流程 （續(xù) 4） ?光刻引線孔 ?清潔表面 PSub N+ N+ N N P+ P+ P+ P P 9 微電子教研中心 集成電路設計原理 PN結隔離工藝流程 （續(xù) 5） ?蒸鍍金屬 ?反刻金屬 PSub N+ N+ N N P+ P+ P+ P P 10 微電子教研中心 集成電路設計原理 PN結隔離工藝流程 （續(xù) 6） ?鈍化 PSub N+ N+ N N P+ P+ P+ P P ?光刻鈍化窗口 ?后工序 11
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