測(cè)試與分析ppt課件(已修改)
2025-05-16 04:17 本頁(yè)面
【正文】 第九章 現(xiàn)代測(cè)試分析技術(shù) 摩擦學(xué)研究所應(yīng)用的主要分析測(cè)試技術(shù)大體上可分為三類。 第一節(jié) 摩擦表面測(cè)試分析技術(shù) 一、固體的表面形態(tài)與結(jié)構(gòu)分析 固體表面形態(tài)與結(jié)構(gòu)分析主要是指對(duì)表面的微觀結(jié)構(gòu)、缺陷和原子排列等方面進(jìn)行觀察與分析，一般采用電子顯微分析技術(shù)和衍射分析技術(shù)。 電子顯微分析技術(shù)是采用透射式和掃描式電子顯微鏡進(jìn)行表面分析的一種顯微分析技術(shù)。 電子顯微鏡與光學(xué)顯微鏡的成像原理基本一樣，所不同的是前者用電子束作光源，用電磁場(chǎng)作透鏡。另外，由于電子束的穿透力很弱，因此用于電鏡的標(biāo)本須制成厚度約 50nm左右的超薄切片。這種切片需要用超薄切片機(jī)（ ultramicrotome）制作。電子顯微鏡的放大倍數(shù)最高可達(dá)近百萬(wàn)倍、由電子照明系統(tǒng)、電磁透鏡成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)等 5部分構(gòu)成。 電子顯微鏡發(fā)展 * 1873 Abbe 和 Helmholfz 分別提出解像力與照射光的波長(zhǎng)成反比。奠定了顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 1897 . Thmson 發(fā)現(xiàn)電子 ,1924 Louis de Broglie （ 1929 年諾貝爾物理獎(jiǎng)得主） 提出電子本身具有波動(dòng)的物理特性， 進(jìn)一步提供電子顯微鏡的理論基礎(chǔ)。 * 1926 Busch 發(fā)現(xiàn)電子可像光線經(jīng)過(guò)玻璃透鏡偏折一般， 由電磁場(chǎng)的改變而偏折。 1931 德國(guó)物理學(xué)家 Knoll 及 Ruska 首先發(fā)展出穿透式電子顯微鏡原型機(jī)。 1937 首部商業(yè)原型機(jī)制造成功（ Metropolitan Vickers 牌） 。 * 1938 第一部掃描電子顯微鏡由 Von Ardenne 發(fā)展成功。 1938～39 穿透式電子顯微鏡正式上市（ 西門子 公司 , 50KV~100KV, 解像力 20~30amp。Ari） 。 1940～41 RCA 公司推出 美國(guó) 第一部穿透式電子顯微鏡 (解像力 50 nm) 。 *1941～63 解像力提升至 2~3 amp。Aring。 （ 穿透式） 及 100amp。Aring。 （ 掃描式）
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