【企業(yè)-標準規(guī)范】沉積鍍膜(cvd)過程檢驗規(guī)范(word檔)(已修改)
2025-05-10 11:35 本頁面
【正文】 沉積鍍膜（ CVD） 過程檢驗規(guī)范 規(guī)范過程檢驗，確保產(chǎn)品滿足顧客要求。 生產(chǎn)技術部，品質(zhì)部負責對過程進行進監(jiān)視和測量。 沉積鍍膜（ CVD）： 沉積鍍膜技術要求： CVD Spec System Layer avg. THK(nm) Dep. time(sec) Uniformity(%) avg. Edge(nm) avg. Rs(??□) Remarks 1 ARC 2 Front ZnO 3 P I N 4 Back ZnO 測試頻率： 1） .每次更換 B2H6 后均要進行測試； 2). 每班次進行首片檢驗； 激光劃線（ Laser）： 激光劃線技術要求： 1). P1 根據(jù) RMS 測試結(jié)果進行判定， NG cell 數(shù)量≥ 10 時，玻璃 NG. 2) .P P P4 用臺階儀進行觀察測試，劃線溝槽邊緣應整齊，劃線深度 P2=? P3=? P4=? 測試頻率： P1 每片檢， P P P4 每班次進行首片檢驗 濺射鍍膜（ sputter）： 濺射鍍膜技術要求： 厚度 均勻性 測試頻率 每次更換靶材后需測試 刷銀漿技術要求： 厚度 均勻性 線條 測試頻率 : 絲網(wǎng)印刷？次后進行檢驗 ： 膜層上有斑點，判 NG； 膜層劃傷 , 判 NG； 膜層脫落 , 判 NG； 膜層異常及色差 ,判 NG； 玻璃破碎或裂痕 , 判 NG； 檢測頻率： QC 對每 片進行檢測。 鍍錫銅帶、 Insulation Film、耐高溫膠帶、銀膠、小方形 EVA 及噴砂判定標準
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