【正文】 A)預(yù)測，~。集成電路的技術(shù)進(jìn)步還將繼續(xù)遵循摩爾定律，即每18個(gè)月集成度提高一倍，成本降低一半。我國集成電路產(chǎn)業(yè)經(jīng)過30多年的發(fā)展，尤其是七五以來，我國加強(qiáng)了集成電路產(chǎn)業(yè)的建設(shè)，初步形成了由7個(gè)芯片生產(chǎn)骨干企業(yè)、十幾個(gè)封裝廠、近百家設(shè)計(jì)公司（中心），以及若干個(gè)關(guān)鍵專用材料和設(shè)備制造廠構(gòu)成的產(chǎn)業(yè)群體。，％；產(chǎn)值則達(dá)人民幣1,470億元，％。 2003年上半年大陸晶片產(chǎn)量可達(dá)37億顆，較2002年同期成長44％。％，占全球市場的13％，預(yù)期未來3年，國內(nèi)IC市場將維持30％的增長率。半導(dǎo)體前三大應(yīng)用領(lǐng)域分別為資訊、通信和消費(fèi)性電子，中國在這些領(lǐng)域都有極高的增長率。依據(jù)中國證券報(bào)報(bào)道，因外資企業(yè)大量將生產(chǎn)基地移往大陸，使大陸成為全球重要生產(chǎn)基地，%，排名全球第五大出口國（2001年為全球第六大出口國），因此，中國已成為全球重要的半導(dǎo)體市場。由于市場發(fā)展?jié)摿薮?，再加上中國政府重點(diǎn)扶持，促使中國半導(dǎo)體市場快速發(fā)展。集成電路市場的巨大發(fā)展必然驅(qū)動(dòng)作為集成電路生產(chǎn)過程中必不可少的易耗材料市場的蓬勃發(fā)展，而我公司正是瞄準(zhǔn)了這部分市場，并開發(fā)出了具有國際領(lǐng)先技術(shù)的一系列產(chǎn)品。 公司概述 公司名稱及選址北京晶嶺高科技有限責(zé)任公司（簡稱為晶嶺高科）；公司擬選址在北京中關(guān)村產(chǎn)業(yè)園區(qū)微電子園（北京酒仙橋）。 公司性質(zhì)有限責(zé)任公司 注冊資本擬7,500萬人民幣。 公司簡介在信息技術(shù)日益發(fā)展的今天，微電子技術(shù)水平的不斷提高為信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。正是在這種集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛的大好形勢下，作為一家高新技術(shù)企業(yè)依托于河北工業(yè)大學(xué)微電子研究所所長劉玉嶺教授的研究成果（下詳）致力于微電子行業(yè)中大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路加工過程中的基礎(chǔ)材料的制備、加工、檢測以及外延材料性能與結(jié)構(gòu)優(yōu)化等技術(shù)和產(chǎn)品的研究、開發(fā)、生產(chǎn)及推廣。公司經(jīng)營的高新技術(shù)產(chǎn)品中有五項(xiàng)獲國家發(fā)明獎(jiǎng)、五項(xiàng)獲國家專利、九項(xiàng)獲國內(nèi)外發(fā)明展獎(jiǎng)、十八項(xiàng)獲省部級科技進(jìn)步獎(jiǎng)，并且超過了國內(nèi)外同類技術(shù)與產(chǎn)品，已為國家創(chuàng)造效益上億元，其中FA/O拋光液、FA/O活性劑屬于國家級新產(chǎn)品，被列入國家重點(diǎn)推廣計(jì)劃，開始代替美日進(jìn)口產(chǎn)品，并已進(jìn)入國際市場。高質(zhì)量的技術(shù)和產(chǎn)品需要強(qiáng)有力的技術(shù)人員隊(duì)伍做后盾，他們以不斷追求創(chuàng)新和積極向上的團(tuán)隊(duì)精神屢創(chuàng)佳績，力爭將公司建設(shè)成為微電子技術(shù)與基礎(chǔ)材料行業(yè)中的國際知名企業(yè)。公司技術(shù)實(shí)力雄厚，一些知名企業(yè)（包括臺(tái)灣）慕名前來求助技術(shù)和產(chǎn)品。在幫助用戶解決產(chǎn)品應(yīng)用過程中的技術(shù)問題的同時(shí)，還盡最大可能協(xié)助用戶攻克其自身在生產(chǎn)中遇到的技術(shù)難題，為用戶創(chuàng)造了更大的效益，得到用戶的一致好評。公司現(xiàn)正積極與海外公司建立技術(shù)合作關(guān)系，跟蹤國際微電子領(lǐng)域的最新動(dòng)態(tài)，開發(fā)具有市場潛力的新產(chǎn)品，在技術(shù)實(shí)力雄厚的微電子研究所的技術(shù)支持下，該公司不斷推出具有世界一流水平的新產(chǎn)品及換代產(chǎn)品并形成系列化。 企業(yè)目標(biāo)根據(jù)國際集成電路產(chǎn)業(yè)的未來發(fā)展趨勢以及國內(nèi)外市場的需求情況，我方計(jì)劃在國家產(chǎn)業(yè)政策和行業(yè)規(guī)劃指導(dǎo)下，以科技創(chuàng)新為先導(dǎo)，以市場為導(dǎo)向，以產(chǎn)品質(zhì)量為重點(diǎn)，以用戶為中心，以效率、效益、水平為準(zhǔn)則，以步入知識(shí)經(jīng)濟(jì)企業(yè)為管理模式。本著強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合的原則，由河北工業(yè)大學(xué)微電子技術(shù)與材料研究所負(fù)責(zé)產(chǎn)品與技術(shù)的研發(fā)和更新?lián)Q代，公司負(fù)責(zé)新產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化、商品化。在不斷推廣產(chǎn)品在集成電路制造領(lǐng)域應(yīng)用的基礎(chǔ)上，將產(chǎn)品與技術(shù)迅速擴(kuò)展到液晶顯示屏、電子玻璃、計(jì)算機(jī)與電視機(jī)玻殼及光學(xué)玻璃、高檔金屬材料加工、油田提高二次采油率等領(lǐng)域，使企業(yè)逐步形成規(guī)模，力爭在短時(shí)間內(nèi)全面替代國外產(chǎn)品，并逐漸進(jìn)軍海外市場。我們的目標(biāo)是在五年內(nèi)達(dá)到年產(chǎn)值億元人民幣以上。最終將公司建設(shè)成為微電子行業(yè)專用材料的國際知名生產(chǎn)企業(yè)。 公司產(chǎn)品公司有以下三條主產(chǎn)品線：1. 以“FA/O 超大規(guī)模集成電路（ULSI）多層布線介質(zhì)及銅布線化學(xué)機(jī)械全局平面化（CMP）納米磨料拋光液”為代表的高端產(chǎn)品線。超大規(guī)模集成電路（ULSI）是國家“十五”期間的重大攻關(guān)項(xiàng)目。ULSI每個(gè)芯片集成度最高可達(dá)幾十億個(gè)元器件，特征尺寸已進(jìn)入納米級，這使得ULSI多層布線金屬正由傳統(tǒng)的AL向Cu轉(zhuǎn)化，這樣可使布線層數(shù)減少一半，成本降低30％，加工時(shí)間縮短40％， 2003年國際上已開始規(guī)模應(yīng)用，市場約18億美元／年以上。超大規(guī)模集成電路（ULSI）多層布線介質(zhì)及銅（Cu）布線化學(xué)機(jī)械全局平面化（CMP）是今后世界集成電路制造業(yè)急待解決的難題，目前世界各國正在封閉研發(fā)這一工序所需的拋光材料。我方在該項(xiàng)目上已率先實(shí)現(xiàn)了技術(shù)突破，在國際上首次研究成功無離子FA/O 超大規(guī)模集成電路（ULSI）多層布線介質(zhì)及銅（Cu）布線化學(xué)機(jī)械全局平面化（CMP）納米磨料拋光液。該產(chǎn)品能有效控制銅離子沾污，具有高速率、低損傷、高選擇性，高清潔度等優(yōu)點(diǎn)，該產(chǎn)品的成功研制標(biāo)志著我方技術(shù)已達(dá)到國際領(lǐng)先水平，為微電子第三代布線做出創(chuàng)造性貢獻(xiàn)。該成果已在中科院微電子中心國家重大攻關(guān)項(xiàng)目“集成電路銅布線制作”中得以應(yīng)用，取得了很好的效果并完成臺(tái)灣第一期評估，2002年獲天津市發(fā)明一等獎(jiǎng)，現(xiàn)正申報(bào)國家發(fā)明獎(jiǎng)。2. 以“FA/O集成電路襯底硅片納米磨料拋光液”為代表的主產(chǎn)品線FA/O集成電路襯底硅片納米磨料拋光液獲國家發(fā)明三等獎(jiǎng)，其中還應(yīng)用了1999年獲國家發(fā)明三等獎(jiǎng)的能夠提高拋光鏡面光潔度的FA/O活性劑。該產(chǎn)品被評為國家級新產(chǎn)品并被列入國家重點(diǎn)推廣計(jì)劃。本產(chǎn)品由于表面張力低、活性強(qiáng)、易清洗、濃縮度高，便于運(yùn)輸與保存，價(jià)格僅為進(jìn)口產(chǎn)品的1/2，已經(jīng)在國家微電子一級企業(yè)中國華晶電子集團(tuán)公司、國家最大硅材料廠絡(luò)陽740廠、深愛半導(dǎo)體有限公司、吉林華微電子集團(tuán)等十幾條引進(jìn)生產(chǎn)線上開始取代在世界微電子行業(yè)一直占霸主地位的美國Rodel公司的Nalco系列產(chǎn)品?，F(xiàn)已開始向臺(tái)灣出口并簽訂代理銷售合同，為國家節(jié)省了大量外匯并創(chuàng)匯。FA/O系列納米磨料拋光液2001年被列入天津市“十五”重大攻關(guān)項(xiàng)目，獲得無償資助100萬元。3. 以“FA/O電子材料清洗劑、半導(dǎo)體材料切削液、倒角液、磨削液、活性劑”為代表的換代產(chǎn)品線216。 FA/O電子材料清洗劑FA/O電子材料清洗劑，其金屬離子含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于世界知名的美國Parker公司和日本“花王”的產(chǎn)品，而且它屬于環(huán)保型水基清洗劑，完全可代替微電子用3號(hào)液及氟里昂、三氯乙烷等ODS清洗劑，能夠有效地清洗ULSI襯底、電子玻璃及LCD屏等固體表面上的金屬離子、有機(jī)、無機(jī)雜質(zhì)和固體粒子，與同類產(chǎn)品相比具有清洗時(shí)間短、滲透力強(qiáng)、濃縮度高、使用方便、安全、無毒、對人體無危害、對環(huán)境無污染、對大氣臭氧層無破壞作用等優(yōu)點(diǎn)。已被國家指定的ODS檢測機(jī)構(gòu)信息產(chǎn)業(yè)部46所檢查確認(rèn)：該產(chǎn)品達(dá)到國際先進(jìn)水平。為我國電子行業(yè)取代破壞臭氧層的ODS產(chǎn)品做出了貢獻(xiàn)，具有巨大的社會(huì)效益。本產(chǎn)品現(xiàn)已被我國大型的LCD生產(chǎn)廠家深圳天馬微電子公司、河北冀雅電子有限公司（MOTOROLA指定生產(chǎn)廠）等多家公司確認(rèn)為指定清洗產(chǎn)品。在ULSI襯底拋光片清洗工藝中采用FA/O電子材料清洗劑，可有效控制鏡面吸附狀態(tài)長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)，在該項(xiàng)目提示的技術(shù)理論發(fā)明的指導(dǎo)下，硅單晶片拋光后存放時(shí)間由正常不足四小時(shí)，增至68小時(shí)，實(shí)現(xiàn)了集中清洗，大大提高了效率，節(jié)省了大量人力、物力（化學(xué)試劑、電、去離子水等），工藝簡化，省去了效率低（一片一片依次清洗）、造成損傷、返修率高、價(jià)格昂貴（30多萬美元/臺(tái)）、工藝復(fù)雜的雙面刷片機(jī)工藝。僅節(jié)省刷片及工藝一項(xiàng)就為國家節(jié)省外匯5900多萬元。隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，微電子行業(yè)取得迅猛發(fā)展，既使在第三世界國家電子產(chǎn)品也開始步入家庭，未來的二十一世紀(jì)將是一個(gè)電子競爭的時(shí)代。作為微電子產(chǎn)品加工過程中重要消耗材料之一的清洗劑，需求量將越來越大。FA/O電子材料清洗劑除能代替進(jìn)口產(chǎn)品外，還可大量出口，僅臺(tái)灣地區(qū)的年需求量就可達(dá)數(shù)千噸。該產(chǎn)品市場前景廣闊，市場需求數(shù)量很大，是急待推廣的高科技產(chǎn)品。216。 微電子材料系列輔助產(chǎn)品除上述產(chǎn)品外，我方已研發(fā)成功的微電子材料系列輔助產(chǎn)品還包括： 半導(dǎo)體材料切削液、倒角液、磨削液等。以上產(chǎn)品均采用化學(xué)滲透和機(jī)械作用相結(jié)合的機(jī)理，代替了單純以強(qiáng)機(jī)械作用為機(jī)理的相關(guān)產(chǎn)品，應(yīng)力小，損傷層小，有效控制碎片，提高效率，增加刀具壽命，是很好的更新?lián)Q代產(chǎn)品。 以上系列產(chǎn)品已開始與同類進(jìn)口產(chǎn)品爭奪市場，引起了美、日等國公司的高度注意。我們的產(chǎn)品在質(zhì)量與價(jià)格上有明顯優(yōu)勢。 知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況本項(xiàng)目系列產(chǎn)品均為河北工業(yè)大學(xué)微電子研究所所長劉玉嶺教授發(fā)明并開發(fā)，屬自主開發(fā)。 技術(shù)成熟性和產(chǎn)品可靠性論述我方技術(shù)成熟，產(chǎn)品可靠性強(qiáng)，在集成電路與基礎(chǔ)材料工程技術(shù)、多種材料的更新?lián)Q代、技術(shù)創(chuàng)新等方面取得多項(xiàng)重大發(fā)明成果，如IC硅單晶襯底材料拋光與檢測新技術(shù)及清洗材料，硅外延材料制備新技術(shù)，硅／硅材料新鍵合技術(shù)，硅單晶片新型拋光材料，IC襯底材料有害金屬雜質(zhì)與二次缺陷控制新技術(shù)等。獲國家專利五項(xiàng)，獲國家發(fā)明獎(jiǎng)五項(xiàng)（包括FNO－MOS型拋光液82年獲國家發(fā)明四等獎(jiǎng)；硅外延BC技術(shù)87年獲國家發(fā)明三等獎(jiǎng)；硅器件襯底滑移線消除技術(shù)90年獲國家發(fā)明四等獎(jiǎng)；FA/O無磨料均腐蝕拋光液90年獲國家發(fā)明三等獎(jiǎng)；用化學(xué)方法提高固體表面光潔度99年獲國家發(fā)明三等獎(jiǎng)），省部級科技進(jìn)步獎(jiǎng)十八項(xiàng)，國內(nèi)外發(fā)表技術(shù)論文100多篇，部分成果取代了國外先進(jìn)產(chǎn)品與技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了更新?lián)Q代。FA/O拋光液可代替美、日進(jìn)口產(chǎn)品，并開始打入國際市場。另外，研制的ULSI多層布線SiO2介質(zhì)化學(xué)機(jī)械全局平面化科研成果已通過國家鑒定。2000年獲國家科技部科技型中小企業(yè)創(chuàng)新基金100萬元，2001年獲天津市重大攻關(guān)項(xiàng)目無償資助100萬元。我方已完成批量規(guī)模生產(chǎn)，2001年已經(jīng)通過ISO9001（2000版）質(zhì)量認(rèn)證。多年以來未出現(xiàn)任何因質(zhì)量問題而退貨的情況，用戶滿意率為100%，并被美國MOTOROLA公司確認(rèn)為指定產(chǎn)品。其技術(shù)及產(chǎn)品已在冀、京、津、滬、蘇、浙等十多個(gè)省市的引進(jìn)生產(chǎn)線上取代了美、日進(jìn)口產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)了更新?lián)Q代，為國家創(chuàng)造效益近億元。 環(huán)境保證與勞動(dòng)安全不存在工業(yè)污染，不存在危險(xiǎn)物品，能夠保證生產(chǎn)人安全。 特殊行業(yè)許可證報(bào)批情況本項(xiàng)目系列產(chǎn)品不是特殊行業(yè)產(chǎn)品，屬于電子化工材料，系列產(chǎn)品不是最終產(chǎn)品，不需要特殊的許可證管制，在生產(chǎn)銷售中，按用戶要求和有關(guān)安全規(guī)定組織生產(chǎn)和銷售即可。我方系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于國內(nèi)外各微電子產(chǎn)品生產(chǎn)線。國內(nèi)各大集成電路（IC）生產(chǎn)企業(yè)是我們已漸開發(fā)并有待拓展的第一市場。目前，占世界IC加工量第三的我國臺(tái)灣地區(qū)將是我們進(jìn)入的第二市場。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴(kuò)大，逐鹿國際市場將是我們的第三個(gè)目標(biāo)。隨著公司的發(fā)展，產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)多元化，可逐步拓展民用市場。我方產(chǎn)品現(xiàn)已漸漸在大型企業(yè)的進(jìn)口生產(chǎn)線上取代美日進(jìn)口產(chǎn)品，主要用戶有中國華晶電子集團(tuán)公司、北京有研硅股份有限公司、天津Motoro1a公司、洛陽740廠、河北冀雅電子有限公司、天馬微電子科技公司、深愛半導(dǎo)體廠、吉林華微半導(dǎo)體廠等。今后，國內(nèi)將加大向上海華虹電子集團(tuán)、北京首鋼日電、上海先進(jìn)半導(dǎo)體有限公司、上海貝嶺微電子制造有限公司、華越微電子有限公司、寧波浙大海納半導(dǎo)體有限公司等企業(yè)拋光液市場的推廣；逐漸擴(kuò)大廣東、江蘇、福建、吉林等地區(qū)的電子清洗液市場；繼續(xù)加大上海、浙江、河南、河北、陜西等地區(qū)的磨削液相關(guān)產(chǎn)品的推廣；大力推進(jìn)各大油田提高采油率的活性劑及各種替代ODS清洗劑的市場；同時(shí)加大我方部分產(chǎn)品對臺(tái)灣地區(qū)及國外的規(guī)模出口。當(dāng)前，發(fā)明人主要從事科研開發(fā)，各產(chǎn)品的銷售屬于被動(dòng)營銷，極大的影響了產(chǎn)品的銷售工作。今后將通過我們的市場營銷隊(duì)伍來進(jìn)一步調(diào)研國內(nèi)市場。找出關(guān)鍵用戶，重點(diǎn)突破，取得經(jīng)驗(yàn)，逐步擴(kuò)展，分類實(shí)施，以擴(kuò)大銷售。目前公司產(chǎn)品的主要用戶——中國華晶電子集團(tuán)公司、洛陽740廠等均已做完了適應(yīng)性試驗(yàn)，并已成批應(yīng)用。這些單位是國家大型企業(yè)，影響面大，有代表性，為規(guī)模生產(chǎn)后大面積在全國推廣打下了極為有利的基礎(chǔ)。第三章、市場調(diào)查和分析我方研發(fā)經(jīng)營的高新技術(shù)產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體器件超大規(guī)模集成電路（簡稱ULSI）襯底硅材料單晶片的拋光；超大規(guī)模集成電路多層布線中介質(zhì)電極金屬布線全局平面化的拋光；以及電子玻璃及液晶顯示器（LCD）等的拋光及清洗工序。超大規(guī)模集成電路的加工都要以拋光好的硅片作為其基礎(chǔ)。硅片的制造要經(jīng)過拉單晶、單晶切片、磨片、倒角、拋光、清洗等工序，最終產(chǎn)品的成品率主要決定于硅片拋光后的光潔度及平整度。半導(dǎo)體材料切削液、倒角液、磨削液、拋光液和清洗劑是硅片加工過程中必不可少的原料耗材，其品質(zhì)和性能的高低直接決定了硅片拋光的成品率。拋光液的性能低下不僅影響生產(chǎn)效率，更造成了大量的廢片，由于硅片成本很高，給企業(yè)帶來巨大的經(jīng)濟(jì)損失，所以硅片拋光的成品率已經(jīng)成為衡量世界各國微電子水平的重要標(biāo)志。超大規(guī)模集成電路（ULSI）襯底材料加工的高潔凈、低損傷、高平整、高完美是保證硅片拋光成品率的重要技術(shù)指標(biāo)。我方通過選擇高質(zhì)低價(jià)環(huán)保型的材料對以上四項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)難題進(jìn)行了技術(shù)創(chuàng)新，取得了多項(xiàng)突破性成果，形成了擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的技術(shù)與產(chǎn)品。本系列產(chǎn)品主要包括半導(dǎo)體器件超大規(guī)模集成電路FA/O系列半導(dǎo)體材料拋光液、高純多功能非離子界面活性劑、系列電子清洗劑、銅拋光液、切削液、磨削液、倒角液等產(chǎn)品及相應(yīng)的使用技術(shù)。其中有五項(xiàng)獲國家發(fā)明獎(jiǎng)、五項(xiàng)獲國家專利、九項(xiàng)獲國內(nèi)外發(fā)明展獎(jiǎng)、十八項(xiàng)獲省部級科技進(jìn)步獎(jiǎng)，并且超過了國內(nèi)外同類技術(shù)與產(chǎn)品，為用戶創(chuàng)造效益近億元。FA/O拋光液屬于國家級新產(chǎn)品，并被國家科技部、國家勞動(dòng)部、國家技術(shù)監(jiān)督局、外國專家局、工商銀行列為國家級科技成果重點(diǎn)推廣計(jì)劃，已在一些國家大型企業(yè)替代了美國、日本進(jìn)口產(chǎn)品，并已開始進(jìn)入國際市場。電子清洗劑2001年被國家五部委（國家科技部、國家稅務(wù)總局、外經(jīng)貿(mào)部、國家質(zhì)量監(jiān)督檢測檢疫總局、國家環(huán)保總局）確定為國家級重點(diǎn)推廣新產(chǎn)品。 客戶1. 大陸地區(qū)客戶我方產(chǎn)品在大陸地區(qū)已發(fā)展或潛在的客戶按產(chǎn)品系列劃分如下：216。 FA/O拋光液、磨削液、切削液、清洗劑、FA/O活性劑主要客戶為洛陽740廠、華山741廠、峨眉739廠、開化601廠、北京有研硅股份有限公司、無錫華晶電子有限公司、吉林華微電子有限公司（908）、浙大海納股份有限公司、西安衛(wèi)光電子有限公司、深圳深愛電子有限公司、上海硅材料廠、秦皇島硅材料廠、天津環(huán)歐硅材料廠等國家大中型微電子企業(yè)，以及以北京東方