透明導(dǎo)電薄膜（tco）之原理及其應(yīng)用發(fā)展-文庫(kù)吧
2025-07-05 06:02 本頁(yè)面
【正文】 x及 ITO. ??? 1980年代 ，磁控濺鍍 ﹙ magron sputtering﹚ 開(kāi)發(fā)，使低溫沉膜製程，不 論在玻璃及塑膠基板均能達(dá)到低面阻值、高透性 ITO薄膜 . ??? 1990年代 ，具有導(dǎo)電性之 TCO陶瓷靶材開(kāi)發(fā)，使用 DC 磁控濺鍍 ITO，使 沉積製程之控制更趨容易，各式 TCO材料開(kāi)始廣泛被應(yīng)用 . ??? 2022年代 ，主要的透明導(dǎo)電性應(yīng)用以 ITO 材料為主，磁控濺鍍 ITO成為市 場(chǎng)上製程的主流 . 透明導(dǎo)電薄膜主角 ITO ? 中文名稱(chēng)： 銦錫氧化物 ? 英文全名： Indium Tin Oxide（ ITO） ? 成分： 摻雜錫之銦氧化物 (Tindoped Indium Oxide) ? 年代： 1934年被美國(guó)銦礦公司最早合成出來(lái) ? 世界最大 ITO薄膜製造國(guó)： 日本 ? 選用率： 在 TCO材料中， 75%應(yīng)用在平面顯示器 ? 主要應(yīng)用： 平面顯示器、透明加熱元件、抗靜電膜、電 磁、防護(hù)膜、太陽(yáng)能電池之透明電極、防反 光塗佈及熱反射鏡 (heat reflecting mirror)等 電子、光學(xué)及光電裝置上。 ITO是什麼？ ?ITO＝ Indium Tin Oxide(In2O3＋ SnO2) ?? ?ITO的成分＝ 90wt% In2O3與 10wt% SnO2混合物 Why choose ITO ? ?在 TCO材料中有最佳的導(dǎo)電性 (電阻比低 ) ?在可見(jiàn)光波段有良好的透光度 ?良好的耐候性，受環(huán)境影響小 ?大面積鍍膜製程容易 (成熟 ) ?蝕刻製程容易 (成熟 ) ?成本低 ? ITO之組成及特性 ITO 組成在 In2O3/SnO2 = 90/10時(shí) ?? ?最低的電阻比 及 最高的光穿透率 ITO 組成在 In2O3/SnO2 = 90/10時(shí) ?? ?最快的蝕刻速率 ITO成膜時(shí)基板溫度： 200186。C ITO成膜時(shí)基板溫度： RT ITO之組成及特性 銦 (In)礦的主要應(yīng)用 資料來(lái)源：工研院經(jīng)資中心 各種 TCO材料 ZnO系透明導(dǎo)電膜 主要成員 ： ZnO (3~5 104 Ωcm) ZnO:In (IZO) (2~4 104 Ωcm )、
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