液晶材料與技術(shù)(12)——lcd工藝技術(shù)討論—陣列-文庫(kù)吧
2025-01-04 01:27 本頁(yè)面
【正文】 上。 液晶材料與技術(shù) 19 液晶材料與技術(shù) 20 ? 隨著玻璃基板尺寸的增大，單純旋轉(zhuǎn)涂敷方式很難在玻璃基板表層形成均一的光刻膠膜層，所以首先通過狹縫刮涂（ slit coater)方式在基板表面涂敷一層光刻膠，然后再采用旋轉(zhuǎn)方式對(duì)光刻膠膜厚進(jìn)行調(diào)節(jié)。 ? 光刻膠經(jīng)過預(yù)先的狹縫刮涂后，表面并不均勻，而且四周還有空白，需要通過旋轉(zhuǎn)進(jìn)一步處理，以達(dá)到所需要求。 ? 通過調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度和時(shí)間，可以控制光刻膠膜厚與均一性。 液晶材料與技術(shù) 21 ? 圖 液晶材料與技術(shù) 22 ? 除水干燥 ： ? 基板洗凈經(jīng)風(fēng)刀干燥后，表面仍有水分存在，為防止光刻膠涂敷前水分附著帶來(lái)的影響，首先進(jìn)行干燥處理，然后根據(jù)表面膜層的要求有選擇地進(jìn)行黏著強(qiáng)化劑涂敷，以增加光刻膠與基板的密著性。 液晶材料與技術(shù) 23 曝光裝置 ? 曝光裝置是 TFT陣列制造的核心設(shè)備。 ? 曝光工程對(duì)于 LCD的顯示性能及價(jià)格等有決定性的影響。 ? 曝光方式： ? （ 1）接近式一次曝光 ? （ 2）反射鏡投影一次曝光 ? （ 3）透鏡步進(jìn)式分割曝光 液晶材料與技術(shù) 24 ? （ 1）接近式一次曝光 ? 接近式（ proximity)一次曝光是利用一塊大型掩膜板， 一次完成曝光過程。 ? 掩膜板和玻璃基板之間設(shè)有微細(xì)間隙 （ proximity gap) 液晶材料與技術(shù) 25 26 ? 接近式曝光由于是一次曝光，生產(chǎn)效率高，裝置比較簡(jiǎn)單、價(jià)格便宜。 ? 但是由于掩膜板和玻璃基板之間留有微細(xì)的間隙，會(huì)發(fā)生令人討厭的光的衍射現(xiàn)象，造成圖形線條模糊。 ? 多用于圖形尺寸精度要求較為寬松的彩色濾光片和簡(jiǎn)單矩陣型 LCD的制作。 液晶材料與技術(shù) 27 ? （ 2）反射鏡投影一次曝光 ? 大直徑透鏡制作，控制球面像差等非常困難，而反射鏡一次曝光是 由反射鏡替代透鏡 ，將掩膜圖形一次投影轉(zhuǎn)寫在玻璃基板上。 ? 由光源發(fā)出的光照射掩膜板，通過掩膜板的光在一對(duì)凹面鏡和凸面鏡，以及臺(tái)形發(fā)射鏡的聯(lián)合反射作用下，最終將掩膜圖形轉(zhuǎn)寫在玻璃基板上。 ? 由于成像區(qū)域僅限于具有一定寬度限制的圓弧狀的圖形，要將整個(gè)掩膜圖形轉(zhuǎn)寫在玻璃基板上，需要掩膜板和玻璃基板之間進(jìn)行整體掃描。 液晶材料與技術(shù) 28 29 ? （ 3）透鏡步進(jìn)式分割曝光 ? 經(jīng)由 透鏡成像 ，但由于受到所使用投影透鏡有限直徑的限制，一次曝光不能完成對(duì)大型玻璃基板的全面圖形曝光。 ? 為此， 使固定玻璃基板的支持臺(tái)（ stage)步進(jìn)移動(dòng)，按要求通過掩膜板的更換，完成幾次步進(jìn)式分割曝光。 ? 由于使用的是小型掩膜板，因此掩膜板的價(jià)格相對(duì)來(lái)說(shuō)比較便宜。 液晶材料與技術(shù) 30 液晶材料與技術(shù) 31 32 液晶材料與技術(shù) 33 液晶材料與技術(shù) 34 ? 鏡面投影式和透鏡掃描式的價(jià)格比較貴，產(chǎn)能也比較小，但是解析度、對(duì)位精度和重合精度都比較高 。 ? 而接近式曝光的價(jià)格要低得多，解析度和重合精度也比較差，產(chǎn)能相對(duì)較大。 ? 相對(duì)于大規(guī)模集成電路的制造而言， TFT的制造電路結(jié)構(gòu)非常簡(jiǎn)單，集成度很低，接近式曝光機(jī)已經(jīng)完全可以滿足工藝要求，因此 TFT行業(yè)過去都采用接近式曝光機(jī)。隨著分辨率的提升，鏡面投影曝光機(jī)使用開始普及。 液晶材料與技術(shù) 35 ? 曝光工藝一方面是完成器件圖形的轉(zhuǎn)換，另一方面是 建立產(chǎn)品的信息標(biāo)志系統(tǒng) 。 ? 在生產(chǎn)線上為了產(chǎn)品管理和工程管理，需要制作玻璃基板的產(chǎn)品管理信息，如批次編號(hào)、產(chǎn)品系列編號(hào)、生產(chǎn)日期等，如圖 。通過設(shè)置的 ID信 息用二維代碼標(biāo)記后，經(jīng)過后工程的讀取，可以構(gòu)筑成遍及全線的管理體系。 液晶材料與技術(shù) 36 液晶材料與技術(shù) 37 ? TFTLCD生產(chǎn)線投資中大約 55%的投入是設(shè)備；其次是土木工程，大約占 20%，因?yàn)槭菬o(wú)塵室，所以占的比例比較高；再其次是土地成本，大約占 10%。日本是 TFTLCD設(shè)備廠家最集中的地方， TFTLCD設(shè)備的核心廠家或龍頭廠家，絕大部分是日本廠家。日本企業(yè)擁有絕對(duì)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，市場(chǎng)占有率通常都超過 40%，而在核心領(lǐng)域，市場(chǎng)占有率超過 70%。 ? 在 TFTLCD設(shè)備中，價(jià)格最高的是曝光機(jī) 、其次是 CVD和 PVD設(shè)備。 陣列段的曝光機(jī)全球只有佳能和尼康能制造，一條月產(chǎn)能 6萬(wàn)片的 8代線，陣列段曝光機(jī)總售價(jià)高達(dá)數(shù)億美元 。 液晶材料與技術(shù) 38 顯影 ( development) ? 顯影就是 將感光部分的光刻膠溶除，留下未感光部分的膠膜，從而顯示所需要的圖形。 ? 將曝光后的玻璃基板放入顯影槽中，搖擺的噴頭將顯影液噴灑在玻璃基板的光刻膠面上，過一定的時(shí)間后顯出圖形，再通過水洗，將顯影液沖掉。 ? 顯影液有兩種 。一種是與光刻膠配套的專用顯影液，另一種是一定濃度的堿液氫氧化鉀或氫氧化鈉 (KOH或 NaOH)。 液晶材料與技術(shù) 39 ? 常用的顯影工程主要有： ? 噴淋顯影 ? 浸漬（ dip，浸泡）顯影 ? 旋轉(zhuǎn)（ puddle）顯
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