基于fp光纖干涉儀的壓力傳感器-文庫吧
2025-04-12 00:23 本頁面
【正文】 為 FP干涉腔的靜止反射面 , 硅膜作為另外一個可調(diào)反射面 , 中間為空氣間隙 . 部分入射光被光纖端面直接反射 , 其余入射光進(jìn)入 FP腔 , 被硅膜反射后再次進(jìn)入光纖 , 從而形成 FP干涉 . 在垂直入射情況下 , FP干涉儀的反射率 R(投射 到物體上面被 反射 的 輻射能 與投射到物體上的總輻射能之比，稱為該物體的 反射率 )為 相位差 φ=4πd/λ 當(dāng)光程差為 nλ → R=4p/(1+p2) → 極亮 2d =nλ/2 → R=0 → 極暗 (此處 n為奇數(shù) ) 由此可推出：為滿足單值測量，腔腸的變化范圍限制在 λ/4內(nèi) !!!! ?????c o s21)c o s1(22 ????RFP干涉儀 需要解釋一下： R是個是一個與 cos φ同周期的周期函數(shù)，而相位差 φ=4πd/λ，所以 R相對于自變量 d的周期為 λ/2,最大的單調(diào)區(qū)間便為 λ/4。 在后續(xù)將提到，為滿足單值測量， d的變化量限制在 λ/4內(nèi) 。 硅模的力學(xué)模型及其撓度分布 硅膜的力學(xué)模型為一個四邊簡支的方形薄板 ,如下圖： 硅模的力學(xué)模型及其撓度分布 在滿足小撓度近似條件和均布載荷的情況下 ,硅膜的撓度分布可近似表示為： 其中 , a 為正方形硅膜的邊長 。 h為厚度 。 q 為被測壓力 。 D 為膜片的剛度系數(shù)： 硅模的力學(xué)模型及其撓度分布 由
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1