【摘要】10氣相沉積技術(shù)教學目的和要求學習蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜、化學氣相沉積等氣相沉積技術(shù)的基本原理、主要特點、常見方法(技術(shù)種類),薄膜的形成過程等。重點掌握各種氣相沉積技術(shù)的基本原理、主要特點。參考書:楊邦朝、王文生,薄膜物理與技術(shù),電子科技大學出版社,1994前言一、薄膜材料的定義
2025-05-27 04:31
【摘要】物理氣相沉積技術(shù)第八章低維材料?定義:二維、一維和零維材料,統(tǒng)稱低維材料。?二維材料:是指當材料的任一維度,如Z方向的尺寸小到納米量級,則此材料就成為X,Y方向延展的二維材料?!∧げ牧?納米薄膜)?一維材料:當材料在Z方向縮小的同時,Y方向也縮小到納米尺度?!址Q量子線,納米管?零維材料:當材料
2025-05-16 12:11
【摘要】第三章地層與沉積相第一節(jié)地層第二節(jié)沉積相的概念與分類第三節(jié)陸相組第四節(jié)海相組第五節(jié)海陸過渡相組第一節(jié)地層一、相對地質(zhì)年代的確定(一)地層層韻律沉積巖按先后順序一層層地依次沉積下來,因此,正常的地層是老在下,新在上(下老上新)。(二)化石層韻律(生物層序律
2025-05-15 02:47
【摘要】第三章沉積環(huán)境與沉積相一、沉積環(huán)境與沉積相的基本概念和分類二、沉積相鑒別標志三、主要沉積相特征一、沉積環(huán)境與沉積相基本概念1、沉積環(huán)境?沉積環(huán)境——指在物理、化學和生物學方面均有別于相鄰地區(qū)的一塊地球表面。物理條件指搬運和沉積介質(zhì)的動力條件,例如介質(zhì)性質(zhì)(水、空氣、冰)、流體流動性質(zhì)(流水、波浪
2025-05-15 08:32
【摘要】?()40???????????/V/Pa/%00010-310-410-310-410-310-4000
2025-03-24 02:53
【摘要】化學氣相沉積ChemicalVaporDeposition,CVD主要內(nèi)容:?CVD的基本原理?CVD的特點?CVD方法?CVD的現(xiàn)狀和展望一、CVD的基本原理化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)利用氣態(tài)物質(zhì)在一固體表面上進行化學反應(yīng),生成固態(tài)沉積物
2025-05-21 12:13
【摘要】第八章氣相沉積技術(shù)氣相沉積技術(shù):發(fā)展迅速,應(yīng)用廣泛→→表面成膜技術(shù)application→→制備各種特殊力學性能的薄膜涂層,如超硬、高耐蝕、耐熱和抗氧化等。制備各種功能薄膜材料和裝飾薄膜涂層等。超硬薄膜涂層等。since1970s→→薄膜技術(shù)和薄膜材料→→發(fā)展突
2025-05-18 22:09
【摘要】中國石油大學勝利學院本科生畢業(yè)設(shè)計(論文)孤東二區(qū)Ng沉積相研究摘要本文主要通過巖心和薄片觀察、粒度分析、測井資料解釋等手段,對孤東油田二區(qū)館陶組沉積相進行了研究。通過進行單井和連井剖面相分析以及綜合相關(guān)地質(zhì)資料,建立了孤東油田二區(qū)館上段沉積微相模型,闡明了該區(qū)域內(nèi)沉積微相的展布與演化規(guī)律,揭示了沉積微相對儲層物性、剩余油分布規(guī)律的重要控制作用。研
2025-07-13 00:39
【摘要】油氣田地下地質(zhì)學subsurfaceGeologyofOilandGasFields第二章油層對比及細分沉積相StratigraphicCorrelationAndDivisionofSedimentaryMicrofacies地層劃分(stratigraphicdivision)是將油田
2025-05-14 05:07
【摘要】ChemicalVaporDeposition化學氣相沉積WhatistheDeposition?GasLiquidSolidCondensationVaporization1、基本介紹?氣相沉積技術(shù):?化學氣相沉積法(ChemicalVaporDeposition
2025-01-29 09:49
2025-05-18 22:11
【摘要】第4章化學氣相沉積化學氣相沉積合成方法發(fā)展?化學氣相沉積乃是通過化學反應(yīng)的方式,利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源,在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。?化學氣相沉積的英文詞原意是化學蒸汽沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD),因為很多反應(yīng)物
2025-01-29 09:59
【摘要】1Chap5物理氣相沉積?PVD是以物理方式進行薄膜淀積的一種技術(shù)。在集成電路生產(chǎn)中,金屬薄膜在歐姆接觸、互連、柵電極和肖特基二極管等方面,都有很廣泛的應(yīng)用。?PVD有兩種方法:蒸鍍法(EvaporationDeposition)和濺鍍法(SputteringDeposition)。
2025-01-21 14:19
【摘要】第一篇:論述物理氣相沉積和化學氣相沉積的優(yōu)缺點 論述物理氣相沉積和化學氣相沉積的優(yōu)缺點 物理氣相沉積技術(shù)表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離...
2024-11-14 01:01
【摘要】?()40???????????/V/Pa/%00010-310-410-310-410-310-40