精密與特種加工技術第三章精密磨削加工-閱讀頁
2025-06-03 22:03本頁面
【正文】 研磨時間 1~100m/min ~30N/cm2 1~10h 環(huán)境 溫度 塵埃 室溫變化 177。研磨過程中研磨盤與工件是相互修整的，研磨盤本身的幾何精度按一定程度 “ 復制 ” 到工件上，因此對研磨盤加工面的幾何精度要求很高。常用的研磨盤材料有鑄鐵、黃銅、玻璃等。因此，拋光小面積的高精度平面工件時要使用彈性變形小，并始終能保持平面度的拋光盤。 19 研磨劑與拋光劑 磨料按硬度可分為硬磨料和軟磨料兩類。 20 非接觸拋光 非接觸拋光是一種研磨拋光新技術，是指在拋光中工件與拋光盤互不接觸，依靠拋光劑沖擊工件表面，以獲得加工表面完美結晶性和精確形狀的拋光方法，其去除量僅為幾個到幾十個原子級。 21 1. 彈性發(fā)射加工 彈性發(fā)射加工 (Elastic Emission Machining， EEM)是非接觸拋光技術的理論基礎。 22 2．浮動拋光 浮動拋光 (float polishing)是一種平面度極高的非接觸超精密拋光方法。 4. 非接觸化學拋光 普通的盤式化學拋光方法，是通過向拋光盤面供給化學拋光液，使其與被加工面作相對滑動，用拋光盤面來去除被加工件面上產(chǎn)生的化學反應生成物。工具與工件互不接觸，高速旋轉的工具驅動微粒沖擊工件形成溝槽或切斷，然后再用同一種工具，對同一位置進行數(shù)次拋光，即可實現(xiàn)斷面的鏡面
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