表面處理技術(shù)概論-氣相沉積技術(shù)-在線瀏覽
2025-04-15 02:53本頁面
【正文】 ? ? ? ? ?TiN CrNRIP)Ti Cr ArN2TiN CrN ? ? ? ? ? ? PVD CVD 250 2200 25 150 2023 25 240μm/h 25 1500μm/h (Ta W ) Ag Au CVD PVD ? CVD CVD CVD ? CVD ? ? Si SiH4 → Si 2H2 700 1100 ? Si SiCl4 2H2 → Si 4HCl 1200 ? SiO2 SiH4 O2 → SiO2 2H2 400 ? Cr CrCl2 Fe→Cr FeCl2 ? GaAs Ga CH3 3+AsH3 → GaAs 3CH4 H2) ? CVD ? CVDCVD ≈500 ≈1200 ≈1200 ≈1200 ≈500 ≈1000 ? CVD56 CVD 200≈400≈500CVD CVD SiH4O2 SiO2 SiO2 Si3N4 SiO2 Si3N4 SiO2 ≈800SiH4NH3 SiH4CO2 H2 SiCl4,CO2H2
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