【正文】 受控且有能力符合規(guī)范 （普通原因造成的變差已減少） 規(guī)范下限 規(guī)范上限 時(shí)間 范圍 受控但沒有能力符合規(guī)范 （普通原因造成的變差太大） 過程改進(jìn)循環(huán) 分析過程 維護(hù)過程 本過程應(yīng)做什么？ 監(jiān)控過程性能 會(huì)出現(xiàn)什么錯(cuò)誤？ 查找變差的特殊原因并 本過程正在做什么？ 采取措施。 ? 基于可控制和不可控制的變差的區(qū)分。 3 σ的概率是 %。 3 σ范圍的 x值，則認(rèn)為過程存在異常。 ? 觀察控制圖的數(shù)據(jù)位置，可以了解過程情況有無改變。 Α越大， β越小 1% 5% 10% 合理使用控制圖的益處 ? 供正在進(jìn)行過程控制的操作者使用 ? 有助于過程在質(zhì)量上和成本上能持續(xù)的、可預(yù)測(cè)的保持下去 ? 使過程達(dá)到： – 更高的質(zhì)量 – 更低的單件成本 – 更高的有效能力 ? 為討論過程的性能提供共同的語言 ? 區(qū)分變差的特殊原因和普通原因，作為采取局部措施或?qū)ο到y(tǒng)采取措施的指南 使用控制圖的基本步驟 收集 收集數(shù)據(jù)并畫在圖上 控制 根據(jù)過程數(shù)據(jù)計(jì)算實(shí)驗(yàn)控制限 識(shí)別變差的特殊原因并采取措施 分析及改進(jìn) 確定普通原因變差的大小并采取減小它的措施 重復(fù)這三個(gè)階段從而不斷改進(jìn)過程 使用控制圖的兩個(gè)階段 ? 過程分析階段（初始能力研究） ? 過程監(jiān)控階段 分析用控制圖與控制用控制圖 ●分析用控制圖 應(yīng)用控制圖時(shí)，首先將非穩(wěn)態(tài)的過程調(diào)整到穩(wěn)態(tài)，用分析控制圖判斷是否達(dá)到穩(wěn)態(tài)。應(yīng)用過程參數(shù)判斷 控制圖類型 計(jì)量型數(shù)據(jù) XR 均值和極差圖 計(jì)數(shù)型數(shù)據(jù) P chart 不合格品率控制圖 Xδ均值和標(biāo)準(zhǔn)差圖 nP chart不合格品數(shù)控制圖 X R 中位值極差圖 C chart 缺陷數(shù)控制圖 XMR 單值移動(dòng)極差圖 U chart 單位缺陷數(shù)控制圖 控制圖的選擇方法 確定要制定控制圖的特性 是計(jì)量型數(shù)據(jù)嗎？ 否 關(guān)心的是不合格品率？ 否 關(guān)心的是不合格數(shù)嗎？ 是 樣本容量是否恒定？ 是 使用 np或 p圖 否 使用 p圖 樣本容量是否 桓定？ 否 使用 u圖 是 是 使用 c或 u圖 是 性質(zhì)上是否是均勻或不能按子組取樣 —例如：化學(xué)槽液、批量油漆等？ 否 子組均值是 否能很方便 地計(jì)算？ 否 使用中 位數(shù)圖 是 使用單值圖XMR 是 接上頁 子組容量是否大于或等于 9？ 是 否 是否能方便地計(jì)算每個(gè)子組的 S值？ 使用 X—R圖 是 否 使用 X—R圖 使用 X— s圖 注：本圖假設(shè)測(cè)量系統(tǒng)已經(jīng)過評(píng)價(jià)并且是適用的。C ） 工程更改處理時(shí)間（ h） X圖 R圖 接上頁 測(cè)量方法必須保證始終產(chǎn)生準(zhǔn)確和精密的結(jié)果 不精密 精密 準(zhǔn)確 不準(zhǔn)確 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 使用控制圖的準(zhǔn)備 建立適合于實(shí)施的環(huán)境 a 排除阻礙人員公正的因素 b 提供相應(yīng)的資源 c 管理者支持 定義過程 根據(jù)加工過程和上下使用者之間的關(guān)系，分析每個(gè)階段的影響 因素。 b 確保檢測(cè)設(shè)備或量具本身的準(zhǔn)確性和精密性 。 均值和極差圖（ XR） 收集數(shù)據(jù) 以樣本容量恒定的子組形式報(bào)告，子組通常包括 25件連續(xù)的產(chǎn)品，并周性期的抽取子組。 11 選擇子組大小，頻率和數(shù)據(jù) 111 子組大小 ：一般為 5件連續(xù)的產(chǎn)品，僅代表單一刀具 /沖頭 /過程 流等。） 112 子組頻率 ：在適當(dāng)?shù)臅r(shí)間內(nèi)收集足夠的數(shù)據(jù)，這樣子組才能 反映潛在的變化，這些變化原因可能是換班 /操作人 員更換 /材料批次不同等原因引起。 接上頁 113 子組數(shù)： 子組越多，變差越有機(jī)會(huì)出現(xiàn)。 12 建立控制圖及記錄原始數(shù)據(jù) （見下圖） 1計(jì)算每個(gè)子組的均值（ X）和極差 R 對(duì)每個(gè)子組計(jì)算： X=（ X1+X2+…+Xn ） / n R=XmaxXmin 式中： X1 ， X2 ? ? ? ?為子組內(nèi)的每個(gè)測(cè)量值。 42 刻度選擇 ： 接上頁 對(duì)于 X 圖，坐標(biāo)上的刻度值的最大值與最小值的差應(yīng)至少為子組均值（ X）的最大值與最小值的差的 2倍，對(duì)于 R圖坐標(biāo)上的刻度值的最大值與最小值的差應(yīng)為初始階段所遇到的最大極差（ R）的 2倍。 （ 例如：平均值圖上 1個(gè)刻度代表 ，則在極差圖上 1個(gè)刻度代表 ） 1將均值和極差畫到控制圖上 51 X 圖和 R 圖上的點(diǎn)描好后及時(shí)用直線聯(lián)接，瀏覽各點(diǎn)是否 合理，有無很高或很低的點(diǎn)，并檢查計(jì)算及畫圖是否正確。 注： 對(duì)于還沒有計(jì)算控制限的初期操作的控制圖上應(yīng)清楚地注明“ 初始研究 ”字樣。 4 5 21 計(jì)算平均極差（ R）及過程均值（ X） 6 R=（ R1+R2+…+Rk ） / k（ K表示子組數(shù)量） 7 8 X =（ X1+X2+…+Xk ） / k 9 22 計(jì)算控制限 10 計(jì)算控制限是為了顯示僅存在變差的普通原因時(shí)子組的均 11 值和極差的變化和范圍。 13 計(jì)算公式： 14 UCLx=X+ A2R UCLR=D4R 15 LCLx=X A2R LCLR=D3R 16 接上頁 注： 式中 A2,D3,D4為常系數(shù)，決定于子組樣本容量。在這種情況下沒有下控制限，這意味著對(duì)于一個(gè)樣本數(shù)為 6的子組， 6個(gè)“同樣的”測(cè)量結(jié)果是可能成立的。 ? 各控制限畫成虛線。 3 過程控制分析 4 分析控制圖的目的在于識(shí)別過程變化或過程均值不恒定的證據(jù)。 6 7 注 1： R 圖和 X 圖應(yīng)分別分析，但可進(jìn)行比較，了解影響過程 8 的特殊原因。 31 分析極差圖上的數(shù)據(jù)點(diǎn) 311 超出控制限的點(diǎn) a 出現(xiàn)一個(gè)或多個(gè)點(diǎn)超出任何控制限是該點(diǎn)處于失控狀態(tài)的主要 證據(jù) ， 應(yīng)分析 。 a2 測(cè)量系統(tǒng)的改變 （ 如新的檢驗(yàn)人或新的量具 )。 b2 測(cè)量系統(tǒng)的改好。 注 2： 標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸 到鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢(shì)或變化的時(shí)間 。 b 一般情況，各點(diǎn)與 R 的距離：大約 2/3的描點(diǎn)應(yīng)落在控制限的中間 1/3的區(qū)域內(nèi)，大約 1/3的點(diǎn)落在其外的 2/3的區(qū)域。 c2 過程或取樣方法被分層，每個(gè)子組系統(tǒng)化包含了從兩個(gè)或多 個(gè)具有完全不同的過程均值的過程流的測(cè)量值（如：從幾組 軸中，每組抽一根來測(cè)取數(shù)據(jù)）。 d 如果顯著少于 2/3以上的描點(diǎn)落在離 R很近之處 （對(duì)于 25子組，如果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)或描錯(cuò)。 注： 如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組，也應(yīng)從 X圖中去掉。 A2R 。而是排除受已知的特殊原因影響的點(diǎn)。 34 分析均值圖上的數(shù)據(jù)點(diǎn) 341 超出控制限的點(diǎn)： a 一點(diǎn)超出任一控制限通常表明存在下列情況之一或更多： a1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)時(shí)描錯(cuò) a2 過程已更改，或是在當(dāng)時(shí)的那一點(diǎn)（可能是一件獨(dú)立的 事件）或是一種趨勢(shì)的一部分。 a1 過程均值已改變 a2 測(cè)量系統(tǒng)已改變（漂移，偏差，靈敏度） 注：標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸到 鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢(shì)或變化的時(shí)間。 b 一般情況 ， 各點(diǎn)與 X的距離：大約 2/3的描點(diǎn)應(yīng)落在控制限的 中間 1/3的區(qū)域內(nèi) ， 大約 1/3的點(diǎn)落在其外的 2/3的區(qū)域； 1/20的 點(diǎn)應(yīng)落在控制限較近之處 。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠(yuǎn)的幾個(gè)子組更改刪除） d 如果顯著少余 2/3以上的描點(diǎn)落在離 X很近之處（對(duì)于 25子組， 如 果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一 種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)描錯(cuò) 。 注：如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過