【正文】 熱轆 保護(hù)膜 ：板面貼膜 四、 工藝制程原理 壓力， 溫度， 傳送速度 ? 貼膜過程注意三要素： 貼膜應(yīng)是表面平整、無皺折、無氣泡、無灰塵顆粒等夾雜，同時(shí)為保存工藝的穩(wěn)定性，貼膜后應(yīng)停置 15分鐘后再進(jìn)行曝光。如果停留時(shí)間不夠： 干膜中所加入的附著力促進(jìn)劑沒有與銅完全發(fā)生作用而黏結(jié)不牢，造成菲林松。 四、 工藝制程原理 PE 聚乙烯保護(hù)膜 （ 25μm ） 干膜（光阻膠層） PET COVER FILM （ 25μm） 其中： 聚乙烯保護(hù)膜 是覆蓋在感光膠層上的保護(hù)膜，防止灰塵等污物 粘污干膜 阻止干膜膠層粘附在下層 PET上； 聚脂類透明覆片 （ PET） 作用： 避免干膜阻劑層在未曝光前遭刮傷 ； 在曝光時(shí)阻止氧氣侵入光阻膠層，破壞游離基，引起感光度 下降 干膜結(jié)構(gòu)（光致抗蝕劑干膜） ： 四、 工藝制程原理 干膜的主要成分及作用 ： 四、 工藝制程原理 光阻膠層的主要成分 作用 粘結(jié)劑 (成膜樹脂 ) 起抗蝕劑的骨架作用 ,不參加化學(xué)反應(yīng) 光聚合單體 在光引發(fā)劑的存在下 ,經(jīng)紫外光照射下 發(fā)生聚合反應(yīng) ,生成體型聚合物 ,感光 部分不溶于顯影液 ,而未曝光部分可通 過顯影除去 光引發(fā)劑 在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收紫外 光能量產(chǎn)生游離基，游離基進(jìn)一步引 發(fā)光聚合單體交聯(lián) 各種添加劑 增強(qiáng)干膜物性及增強(qiáng)銅面附著力等 四、 工藝制程原理 成分 要點(diǎn) 有關(guān)特性高分子聚合物丙烯單體的選擇，分子量，玻璃化轉(zhuǎn)移溫度感光性顯影特性密著性干膜強(qiáng)度褪膜特性架橋劑雙鍵架橋聚合單體：親水性與疏水性的平衡，架橋基團(tuán)的濃度感光性解像度顯影特性耐藥品性（顯影液蝕刻液電鍍液）其他：光聚合開始劑，安定劑，染料，密著促進(jìn)劑n m R1 C CO2R2 CH2 CH3 C CO2H CH2 CH2＝ CCO OC2H4 O C O C2HO4 CO C＝ CH2 m CH3 n CH3 CH3 CH3 干感光層主體樹脂組成： 四、 工藝制程原理 成像圖形轉(zhuǎn)移使用的光成像材料： ? 按物理狀態(tài)分為 : 干膜抗蝕劑 及 液體抗蝕劑 光致抗蝕劑：是指用化學(xué)方法獲得的能抵抗某種蝕刻液或電鍍?nèi)芤航g的感光材料。 四、 工藝制程原理 項(xiàng)目 干膜抗蝕劑 液態(tài)抗蝕劑 解像度 3mil 1 mil填平性 差 較好成本 — 比干膜低 40~60%廢水處理 膜厚、處理量大 無保護(hù)膜、膜薄、處理量小自動(dòng)化程度可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)，但要配用自動(dòng)除干膜保護(hù)膜設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化生產(chǎn)房間： 100K 級 房間： 10K 級設(shè)備： 10K 級 設(shè)備： 1K 級適用蝕刻劑 酸性或堿性蝕刻劑 酸性或堿性蝕刻劑潔凈房要求 干膜 /濕膜性能比較： 四、 工藝制程原理 ? 解像度附著力 ? 蓋孔能力 ? 除油劑溶解測試 ? 光譜特性 ? 顯影性及耐顯影性 ? 耐蝕刻性和耐電鍍性 ? 去膜性能 注：以上亦是測試新干膜的幾種基本項(xiàng)目 干膜使用的主要品質(zhì)要求： 紫外光能量 光引發(fā)劑 R’ 單體 聚合物 自由基傳遞 聚合交聯(lián)反應(yīng) 曝光原理（感光原理）： 四、 工藝制程原理 ? 被曝光部分： 菲林透光的區(qū)域 在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收光能分解成自由基，自由基再引發(fā)光聚合單體進(jìn)行聚合交聯(lián)反應(yīng)，形成不溶于稀溶液的體型大分子結(jié)構(gòu) 。 四、 工藝制程原理 曝光機(jī)光源 曝光時(shí)間（曝光能量控制） 菲林的質(zhì)量 四、 工藝制程原理 ? 影響曝光成像質(zhì)量和生產(chǎn)效率因素： （除光致抗蝕劑性能） ? 曝光光源的選擇 光源的特性直接影響曝光質(zhì)量和效率，光源所發(fā)射出的光譜應(yīng)與感光材料吸收光譜相匹配，能獲得較好的曝光效果 。 四、 工藝制程原理 ? 光能量與光波長關(guān)系如下：