【正文】 圖10景旺電子堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)圖11景旺電子堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)表3 重點(diǎn)調(diào)查對(duì)象蝕刻液循環(huán)利用設(shè)施基本情況一覽表序號(hào)企業(yè)名稱產(chǎn)品種類生產(chǎn)規(guī)模（m2/年）處理蝕刻液種類回用裝置設(shè)計(jì)規(guī)模實(shí)際處理能力實(shí)際處理量運(yùn)行時(shí)間設(shè)計(jì)施工單位營(yíng)運(yùn)單位1恩達(dá)電路（深圳）有限公司雙面板堿性200l/h200l/h200l/h24h/d①深圳拓鑫環(huán)保設(shè)備公司②恩達(dá)電路①深圳拓鑫環(huán)保設(shè)備公司②恩達(dá)電路多層板酸性200l/h200l/h200l/h10h/d2深圳市龍崗區(qū)坪山碧嶺生利電子制品廠單面板100000堿性67l/h67l/h50l/h20h/d富源科技發(fā)展公司①富源科技發(fā)展公司②生利電子制品廠雙面板25000多層板4層50006層20003龍崗區(qū)布吉世紀(jì)電路板廠單面板216000堿性200l/h200l/h125l/h20h/d①深圳市豐河環(huán)境工程技術(shù)有限公司②世紀(jì)電路板廠①深圳市豐河環(huán)境工程技術(shù)有限公司②世紀(jì)電路板廠雙面、多層3500004寶安區(qū)沙井柏拉圖電子廠雙面、多層1400000堿性120l/h120l/h120l/h20h/d深圳市天綠環(huán)?？萍加邢薰旧钲谑刑炀G環(huán)保科技有限公司5深圳順昌線路板廠單面板180000堿性50l/h50l/h50l/h20h/d長(zhǎng)沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰劲匍L(zhǎng)沙綠銥環(huán)保②順昌線路板廠6至卓飛高線路板（深圳）有限公司單面板1200堿性150l/h2150l/h2設(shè)施已燒毀24h/d錦衛(wèi)有限公司至卓飛高雙面板73000多層板14100007深圳市景旺電子有限公司單面、雙面、多層420000堿性100l/h100l/h100l/h20h/d錦衛(wèi)有限公司①錦衛(wèi)有限公司②景旺電子8深圳市寶安區(qū)民主勤基電路版廠單面板660000堿性67l/h67l/h56l/h20h/d①富源科技發(fā)展公司②廣州思達(dá)工程貿(mào)易公司③柏宇電子科技產(chǎn)品公司廣州柏宇電子科技產(chǎn)品有限公司雙面板95000多層板13000表4 一般調(diào)查對(duì)象蝕刻液循環(huán)利用設(shè)施基本情況一覽表序號(hào)企業(yè)名稱產(chǎn)品種類生產(chǎn)規(guī)模（m2/年）處理蝕刻液種類回用裝置設(shè)計(jì)規(guī)模實(shí)際處理能力實(shí)際處理量運(yùn)行時(shí)間設(shè)計(jì)施工單位營(yíng)運(yùn)單位1深圳市博敏興電子有限公司雙面、多層板250000堿性120l/h120l/h80l/h20h/d長(zhǎng)沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰鹃L(zhǎng)沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰?運(yùn)豐電路版廠單面、雙面、多層板堿性80l/h80l/h80l/h20h/d富源科技發(fā)展公司富源科技發(fā)展公司3文明達(dá)電子（深圳）有限公司雙面、多層板300000堿性60l/h60l/h60l/h20h/d富源科技發(fā)展公司富源科技發(fā)展公司4深圳市華東鑫電子有限公司單面板75000堿性67l/h67l/h56l/h20h/d錦衛(wèi)有限公司未正式運(yùn)營(yíng)雙面板30000多層板5000五、失效蝕刻液來源、實(shí)效蝕刻液來源線路板圖形部位電鍍金屬體系抗蝕合金鍍層或者涂敷有機(jī)化合物體系的抗蝕劑后，用氯化銅溶液將露出的銅溶解，然后去除抗蝕層。隨著蝕刻過程的進(jìn)行，溶銅量不斷增加，蝕刻液含銅量逐漸接近其最大容量，蝕刻速度大幅下降，溶液變得極不穩(wěn)定，易形成泥狀沉淀，最后不能滿足蝕刻工序要求需更換外排。表5 失效堿性蝕刻液主要成份一覽表序號(hào)指標(biāo)濃度范圍序號(hào)指標(biāo)濃度范圍1Cu2+40~60g/l7V~2Cu+70~90g/l8添加劑5~10g/l3pH~9Mo~4CL200~300 g/l10S~5NH4+50~80g/l11CN（有機(jī)氰）~6NH3130~150g/l12總磷~、酸性蝕刻原理酸性蝕刻一般適用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作及微波印制板陰極法直接蝕刻圖形制作，酸性蝕刻液一般由氯化銅、鹽酸、以及雙氧水配置而成，主要抗蝕劑包括干膜、液態(tài)光致抗蝕劑等，酸性蝕刻主要反應(yīng)包括：蝕銅反應(yīng)：Cu+ CuCl2=2CuCl 再生反應(yīng)：2CuCl +2HCl+ H2O2 =2CuCl2+2H2O、堿性與酸性蝕刻液特性比較堿性蝕刻液與酸性蝕刻液特性比較見表6。1176。150mVBaume=22177。6水洗水處理因有絡(luò)合物，較不易處理較易處理7自動(dòng)控制成本低高8主要特點(diǎn)蝕刻速度快，側(cè)蝕??；溶銅能力強(qiáng)，蝕刻液容易控制。六、失效蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用技術(shù)類型、國(guó)內(nèi)蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用技術(shù)概況失效堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用技術(shù)國(guó)內(nèi)主要分為2類，分別是萃取電解法和隔膜電解法，應(yīng)用成功的失效酸性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用技術(shù)國(guó)內(nèi)采用萃取電解法，即萃取電解法應(yīng)用領(lǐng)域由最初的堿性蝕刻液擴(kuò)展至堿性蝕刻液和酸性蝕刻液，隔膜電解法目前只能處理堿性蝕刻液，萃取電解法在深圳已安裝蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)的線路板企業(yè)得到廣泛使用，而隔膜電解法的蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)僅個(gè)別線路板企業(yè)選用。在廣東省經(jīng)營(yíng)萃取—電解法回收利用堿性蝕刻液的公司主要有錦衛(wèi)有限公司、富源科技發(fā)展公司、深圳市天綠環(huán)保科技有限公司、廣州思達(dá)工程貿(mào)易有限公司和廣州柏宇電子科技產(chǎn)品有限公司，以上公司提供的設(shè)備外形、工藝控制參數(shù)、運(yùn)行模式基本相同。深圳拓鑫環(huán)保設(shè)備公司和恩達(dá)電路在Canadian RECYCLE ，通過消化、吸收和工程實(shí)踐，調(diào)整了設(shè)備工藝參數(shù)和萃取劑，開發(fā)堿性蝕刻液再生回用裝置，但工藝原理與Canadian RECYCLE 。、萃取—電解法的工藝流程目前在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)銷售的采用萃取—電解方法回收利用堿性蝕刻液的成套設(shè)備均采用萃銅劑萃銅、硫酸反萃、電解回收銅工藝組合，存在的工藝控制參數(shù)差異屬于商業(yè)機(jī)密。萃取后的殘液（蝕刻液）經(jīng)調(diào)整pH及添加少量蝕刻鹽后再生成新的蝕刻溶液，返回蝕刻槽中循環(huán)使用。萃銅劑配方為技術(shù)擁有方的商業(yè)機(jī)密，但主要成份含乙醇和丙醇，萃銅劑可循環(huán)使用2~3年。Cu2++2HR→2H++CuR2H++OH→H2Ol 反萃取原理（用高酸＞200g/L、H2SO4）：銅從有機(jī)溶液中被反萃進(jìn)入水相，有機(jī)相HR與硫酸銅分離又可返回萃取機(jī)中。由于萃取過程放出H+（酸）而中和了蝕刻液的堿（OH）變成水，使蝕刻液體積增大、堿度降低，因此再生蝕刻液時(shí)須補(bǔ)加NH4Cl及氨水，即萃取出銅的蝕刻液經(jīng)補(bǔ)充蝕板鹽、穩(wěn)定劑和氨水后，再生為新鮮蝕刻液，回用于蝕刻工序。對(duì)蝕刻后氨洗水工序產(chǎn)生的清洗水，恩達(dá)電路將其排入含銅廢水處理系統(tǒng)。l 其它企業(yè)：除恩達(dá)電路外，其它安裝蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)的線路板企業(yè)均僅設(shè)堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)，未設(shè)含銅和低銅回收系統(tǒng)，堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用所產(chǎn)生的清洗水直接排入生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng)，蝕刻液增量作為危險(xiǎn)廢物委托處理，但部分企業(yè)直接排入生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng)。其它企業(yè)萃取－電解法回收利用堿性蝕刻廢液和銅的工藝流程圖見圖14。表7 恩達(dá)電路與其它企業(yè)堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)的特性比較一覽表序號(hào)項(xiàng)目堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)恩達(dá)電路其它企業(yè)1設(shè)備供應(yīng)商自行研制開發(fā)購(gòu)買成套設(shè)備2設(shè)備外形比較粗、笨比較精、巧3占地面積相對(duì)較大相對(duì)較小4電解槽配置數(shù)量相對(duì)較多數(shù)量相對(duì)較少5蝕刻液增量處置方法進(jìn)含銅廢液回收系統(tǒng)作為危險(xiǎn)廢物委托處置或排入廢水處理站6蝕刻后氨水洗水處理進(jìn)含銅廢液回收系統(tǒng)并入再生回用系統(tǒng)7水洗水處理進(jìn)含銅廢液回收系統(tǒng)直接排入廢水處理站8萃取劑萃取劑存在差異9萃取溫度變化萃取后溫度有一定程度升高萃取后溫度基本沒有變化，溫升不明顯10反萃溫度變化均不明顯、主要生產(chǎn)設(shè)備萃取—電解方法回收利用系統(tǒng)實(shí)際由2個(gè)處理單元組成，第一個(gè)處理單元為萃取、反萃單元，生產(chǎn)設(shè)備包括萃銅反應(yīng)器、有機(jī)分離器；第二個(gè)處理單元為電解陰極沉銅單元，生產(chǎn)設(shè)備包括電解槽、再生母板器、取銅機(jī)。配套廢氣凈化塔：一般配套酸性廢氣噴淋凈化塔。、主要工藝控制參數(shù)l 恩達(dá)電路：恩達(dá)電路失效堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參見表8。表8 恩達(dá)電路堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參數(shù)一覽表流量控制流體種類失效蝕刻液稀氨水萃取劑反萃劑流量200升/小時(shí)200升/小時(shí)400升/小時(shí)600升/小時(shí)濃度控制液體種類失效蝕刻液再生蝕刻液（調(diào)配前）工作蝕刻液電解槽液控制指標(biāo)Cu2+、Cu+135~160g/l60~100g/l60~100g/l25~38g/lpH~~~CL200~300 g/l200~300g/l200~300g/l200mg/lH2SO4190~210g/lNH4+50~80g/lNH3130~150g/l400~730ml/l電流強(qiáng)度控制電解液中銅含量20g/l25~30g/l30~40g/l40g/l硫酸濃度190~210g/l190~210g/l190~210g/l190~210g/l電解電流500A800~1000A1000~1800A2000 A萃取劑吸銅量：15~20g/l表9 生利電子堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參數(shù)一覽表流量控制流體種類失效蝕刻液清洗水萃取劑反萃劑流量200177。10升/小時(shí)400177。50升/小時(shí)濃度控制液體種類失效蝕刻液再生蝕刻液（調(diào)配前）工作蝕刻液電解槽液控制指標(biāo)Cu2+、Cu+135~160g/l60~100g/l135~160g/l25~38g/lpH~~~CL170~190 g/l≥185g/l170~190g/l200mg/lH2SO4190~210g/lNH4+50~80g/lNH3130~150g/l400~730ml/l電流強(qiáng)度控制電解液中銅含量20g/l25~30g/l30~40g/l40g/l硫酸濃度190~210g/l190~210g/l190~210g/l190~210g/l電解電流500A800~1000A1000~1800A2000 A萃取劑吸銅量：15~20g/l、隔膜電解法、隔膜電解法的發(fā)展情況由長(zhǎng)沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰?004年研發(fā)成功的堿性蝕刻液循環(huán)再生機(jī)采用隔膜電解法，最初使用的單位是湖南株洲電力機(jī)車研究所印制電路板廠，深圳使用的單位共2家，分別是深圳市博敏興電子有限公司和深圳順昌線路板廠，深圳市博敏興電子有限公司的設(shè)備已按環(huán)保主管部門要求停運(yùn)，順昌線路板廠年前將長(zhǎng)沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰镜漠a(chǎn)品更換為萃取電解法蝕刻液再生回收設(shè)備。工藝原理簡(jiǎn)介：本技術(shù)將膜分離技術(shù)和電沉積工藝相結(jié)合，將待處理廢蝕刻液置于一個(gè)受膜保護(hù)的區(qū)域內(nèi)，保護(hù)廢蝕刻液中的化學(xué)物質(zhì)不被破壞，同時(shí)其中的銅離子以金屬銅的形態(tài)方便回收，因而實(shí)現(xiàn)銅和其它化學(xué)物質(zhì)的選擇性無損分離；這種選擇性無損分離技術(shù)IEMEC在實(shí)現(xiàn)銅選擇性分離回收的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)對(duì)蝕刻有用的組份的回用。圖15 隔膜電解法回收利用堿性蝕刻廢液和銅的工藝流程圖、主要生產(chǎn)設(shè)備主體設(shè)備：蝕刻液循環(huán)再生機(jī)、整流器配套儲(chǔ)罐：包括儲(chǔ)罐、中轉(zhuǎn)罐、蝕刻液調(diào)配罐等。、主要生產(chǎn)原、輔材料廢蝕刻液、蝕板鹽、氨水、添加劑。表10 隔膜電解法堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)主要工藝控制參數(shù)一覽表液體種類失效蝕刻液再生蝕刻液（調(diào)配前）控制指標(biāo)Cu2+55~60g/l70~80g/lCu+75~80g/l15~20g/lpH~~CL235~240g/l230~235g/lNH4+80~84g/l76~80g/l電解槽陰極區(qū)銅含量34~35g/l電解槽電壓電解電流密度150~250A/m2隔膜電解生產(chǎn)過程中蝕刻液中總銅含量顯著下降，其中二價(jià)銅離子含量增加，一價(jià)銅離子含量顯著降低，pH、CL、NH4+含量略有下降，pH、CL、NH4+含量下降主要受副反應(yīng)的發(fā)生。表11 隔膜電解法所得再生蝕刻液主要工藝控制參數(shù)和使用特點(diǎn)一覽表再生蝕刻液主要工藝控制參數(shù)再生蝕刻液主要使用特點(diǎn)序號(hào)項(xiàng)目數(shù)值序號(hào)項(xiàng)目數(shù)值1比重~1蝕刻速度～2堿含量~2可適用的抗蝕層金、鎳、錫、堿性油墨3銅離子≤5g/l3蝕銅量140～180g/L4氯離子160~180 g/l4側(cè)蝕因子≥、萃取—電解法與隔膜電解法的工藝特點(diǎn)比較采用萃取—電解法的堿性蝕刻液現(xiàn)場(chǎng)再生回用系統(tǒng)在深圳得到普遍使用，