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2025-02-27 12:28本頁面
【正文】 目錄 第一章 真空 第三章 濺射原理 第四章 反應性濺射 第五章 濺射鍍膜設備 第六章 濺射靶及靶材配置 15 第二章 等離子體 第二章 等離子體 16 等離子體是由部分分子、原子及原子被電離后產生的正離子和負電子組成的離子化氣體狀物質，它是除去固、液、氣外，物質存在的第四態(tài)。等離子體是一種很好的導電體，呈準中性狀態(tài)。輝光放電是氣體放電的一種類型，是一種穩(wěn)定的自持放電。 通入壓力為 103~102Pa的氣體（通常是 Ar）。 輝光放電 產生 等離子體 輝光放電： 目錄 第一章 真空 第二章 等離子體 第四章 反應性濺射 第五章 濺射鍍膜設備 第六章 濺射靶及靶材配置 21 第三章 濺射原理 第三章 濺射原理 1（濺射電源） 22 直流濺射： 用于導電靶 中頻濺射： 用于導電靶 射頻濺射： 用于絕緣靶 不同的濺射電源： 第三章 濺射原理 2（直流濺射） 23 Pumping system target Power supply Plasma substrate Gas Ar _電場 +電場 輝光效應 31 直流濺射示意圖 直流濺射原理圖： 第三章 濺射原理 2（直流濺射） 濺射氣體應當具備的特性： ? 對靶材程惰性； ? 濺射率高； ? 價格便宜； ? 來源方便； Ar為較理想的選擇 為什么？ 濺射氣體的選擇： 第三章 濺射原理 2（直流濺射） 大氣成分 分子量 干潔空氣中的含量 （ %） 氮 N2 氧 O2 氬 Ar 二氧化碳 CO2 氖 Ne 103 氦 He 104 甲烷 CH4 104 氪 Kr 104 氧化氮 N2O 104 氫 H2 104 氙 Xe 105 臭氧 O3 106 濺射氣體的選擇： ，不會和靶材發(fā)生化學反應； ，濺射率
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