[工學(xué)]復(fù)習(xí)思考題及解答-在線瀏覽
2025-02-25 20:09本頁面
【正文】 ，在 50~1500eV范圍內(nèi)。 2． 分析電子顯微鏡的基本功能是什么 ？ 在透射電子顯微鏡的基礎(chǔ)上增加掃描附件、能譜附件、電子能量分析系統(tǒng)等附件便形成分析電子顯微鏡，分析電鏡具有透射電鏡、掃描電鏡、電子探針、電子能量損失譜分析的功能，可實(shí) 現(xiàn)顯微形貌分析、微區(qū)晶體結(jié)構(gòu)分析、微區(qū)化學(xué)成分分析，并可將三者有機(jī)結(jié)合起來。 高分辨電子顯微分析是以相位襯度成像方式，利用高能電子束被薄晶體樣品散射所形成的透射束和衍射束的干涉，在像平面上重建晶體點(diǎn)陣的成像技術(shù)，通過高分辨像可獲得晶體的晶格點(diǎn)陣排列。其中，二維晶格像 可利用 透射束與兩個不同方向上的衍射束干涉獲得，二維結(jié)構(gòu)相是利用透射束與所有的衍射束干涉獲 得。 選區(qū)電子衍射是在物鏡的后焦面上插入選區(qū)光闌，套住感興趣區(qū)，得到選區(qū)晶體的電子衍射花樣。 納米束衍射、聚焦電子束衍射、會聚束衍射、掃描束衍射等方法可消除選區(qū)不對應(yīng)性。 6. X射線衍射宏觀應(yīng)力與微觀應(yīng)力測試原理分別是什么 宏觀應(yīng)力是指在材料內(nèi)部大范圍存在的殘余應(yīng)力。通過檢測衍射峰的位置改變，可計算宏觀應(yīng)力的大小和方向。微觀應(yīng)力將造成晶體的晶格畸變，在 X射線衍射譜上表現(xiàn)出衍射峰寬化，通過檢測衍射峰的半高寬可分析微觀應(yīng)力的大小，但要消除晶粒細(xì)化所引起的衍射峰寬化。 X射線衍射峰的寬度與晶粒大小有關(guān)， 在納米尺度下， 隨晶粒尺寸減小，衍射峰寬度增加。通過X射線衍射 測定衍射峰的半高寬即可計算出 納米 材
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