藥物雜質研究基本思路及控制方法-在線瀏覽
2025-02-23 11:32本頁面
【正文】 l + C H3COPO(O C H2C H3)2C H3CNPOO H(O C H2C H3)2N H2O H .H C lPO(O C H2C H3)21.Z n /H C O O H2.H C l /C H3O HC H3C HN H2C H3C H2OC H3C H2OPOC HC H3N H CON H C H2C H2C lC lC H2C H2N C ON a N O2/H C O O HP (O C H2C H3)3( I )( I I ) ( I I I )( I V )（ 2）仿制已有國家標準的藥品 可以根據(jù)已有的標準制訂相應的雜質限度。 如某雜質同時也是該藥物在動物或人體中的主要代謝產(chǎn)物，則對該雜質可不考慮其安全性，但需制訂合理的限度。 在此前提之下，如果該雜質的含量同時也在正常的制備工藝所允許的限度范圍內，那么根據(jù)試驗樣品中雜質的含量所確定的限度可認為是合理的。 單一的對映體藥物，其 對映異構體 應作為雜質控制 .由于創(chuàng)新藥物與仿制藥情況不同，在確定雜質限度時，可有所區(qū)別。 有機雜質的限度確定 質量標準中對有機雜質的限度規(guī)定應包括： 每一個 已知雜質 、 未知雜質 及 總雜質 。 ? 鑒定限度（ Identification Threshold） ： 超出此限度的雜質均應進行定性分析，確定其化學結構。 殘留溶劑： 在合成、純化、制劑過程中殘留所使用的溶劑，這些溶劑通常是已知的。 有機雜質： 包括工藝中引入的雜質和降解產(chǎn)物等，由于這類雜質的化學結構一般與活性成分類似或具淵源關系，故通常又可稱之為 有關物質 。 藥學 藥物的整個合成工藝 藥物制劑工藝 藥物結構及其性質 分析方法 （二）雜質的分類 按理化性質 按照其來源 按照其毒性 按化學結構 有機雜質、無機雜質、殘留溶劑 工藝雜質 （包括合成中未反應完全的反應物、 試劑、中間體、 副產(chǎn)物等） 降解產(chǎn)物 從反應物及試劑中混入的雜質等。它包括選擇合適的分析方法，準確地分辨與測定雜質的含量并綜合藥學、毒理及臨床研究的結果確定雜質的合理限度。藥物雜質研究基本思路 及控制方法 王洪權 1. 國內外對藥物雜質研究的相關技術要求 2. 雜質來源和控制 ? 有機雜質 ? 無機雜質 ? 殘留溶劑 主要內容 ? ICH（ International Conferenceon Harmonizationof Technical Requirements for RegistrationofPharmaceuticalsfor Human Use） ? 美國藥典 （ USP） ? 英國藥典 (BP) ? 歐洲藥典 (EP) ? 中國藥典 (ChP) 《 化學藥物雜質研究的技術指導原則 》 相關內容的基礎上，結合我國藥物研發(fā)的特點，通過分 析、研究與藥物的安全性、有效性及質量可控性之間的 內在關系而制定的 一、概述 （一）定義 任何影響藥物純度的物質統(tǒng)稱為雜質。雜質的研究是藥品研發(fā)的一項重要內容。這一研究貫穿于藥品研發(fā)的整個過程。 毒性雜質、普通雜質 如甾體、生物堿、幾何異構體、光學異構體 聚合物等。 無機雜質： 是指在原料藥及制劑生產(chǎn)或傳遞過程中產(chǎn)生的雜質，這些雜質通常是已知的，主要包括：反應試劑、配位體、催化劑、重金屬、其它殘留的金屬、無機鹽、助濾劑、活性炭等。 二、國內外對藥物雜質研究的 相關技術要求 最大日劑量 報告限度 鑒定限度 質控限度 ≤2g % %或 （取最小值） %或 （取最小值） 2g % % % 附件 1：原料藥的雜質限度 (一 )雜質限度要求 報告限度 最大日劑量 ≤1g 1g 限度 % % 鑒定限度 最大日劑量 1mg 1mg10mg 10mg2g 2g 限度 ％或 5μ g （取最小值） ％或 20μ g （取最小值） ％或 2mg （取最小值） % 質控限度 最大日劑量 10mg 10mg100mg 100mg2g 2g 限度 ％或 50μ g （取最小值） ％或 200μ g （取最小值） ％或 3mg （取最小值） % 附件 2：制劑的雜質限度 ? 報告限度（ Reporting Threshold） ：
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