先進(jìn)表面工程技術(shù)ppt課件-展示頁
2024-09-26 18:22本頁面
【正文】 、環(huán)保、生態(tài)、物質(zhì)循環(huán)、低成本等多方面的指標(biāo)； ? 目前常用的工業(yè)化生產(chǎn)技術(shù)有直流磁控濺射、中頻磁控濺射、脈沖偏壓電弧離子鍍、蒸發(fā)鍍、熱化學(xué)氣相沉積、等離子體化學(xué)氣相沉積等。 既提供遠(yuǎn)離平衡態(tài)條件， 又具有節(jié)能、環(huán)保等優(yōu)良綜合性能 ? 直流磁控濺射 (DCMS)、 ? 射頻磁控濺射 (RFMS)、 ? 射頻化學(xué)氣相沉積 (RFCVD)、 ? 中頻磁控濺射 (MFMS)、 ? 脈沖偏壓電弧離子鍍 (PBAIP)。 ? 薄膜技術(shù)和刻蝕技術(shù)從整體上構(gòu)成了當(dāng)代微細(xì)加工技術(shù)的主體，并提供了向納米加工進(jìn)軍的扎實(shí)可靠途徑。 是否屬于先進(jìn)表面工程， 并不是一成不變的 ? 液相沉積、液相化學(xué)刻蝕等“ 濕法技術(shù) ”直到 80年代初仍是集成電路微細(xì)加工技術(shù)的主流工藝， ? 而到了 90年代，隨著集成電路 特征尺寸 接近和進(jìn)入納米范圍，氣相沉積、等離子體刻蝕、載能束刻蝕等“ 干法技術(shù) ”逐漸地，又是不可逆轉(zhuǎn)地變成了微細(xì)加工技術(shù)的主流工藝。 ④ 表面改性 ? 是指通過對基體表面施加力學(xué)、物理和化學(xué)的作用，直接形成所需特性的表面層。 ③ 整體復(fù)蓋 ? 是指利用連續(xù)介質(zhì)狀態(tài)的物質(zhì)，形成所需薄膜的方法。 ② 顆粒沉積 ? 是指利用宏觀顆粒狀態(tài)的物質(zhì)，沉積所需薄膜的方法。 2. 先進(jìn)表面工程的發(fā)展趨勢 ① 原子沉積 ? 指通過形成原子分散狀態(tài)的物質(zhì)來沉積所需表面層或薄膜的技術(shù)： ? 液相沉積 ：如電鍍、化學(xué)鍍、電泳、溶膠一凝膠等； ? 氣相沉積 ：物理氣相沉積 (PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、分子束外延 (MBE)三大類別。 新型材料制備工藝 ? 作為體材料的制備工藝 ：如電鑄成型、氣相沉積特種材料（熱解石墨、六方氮化硼、碳化硅）、噴射成型等， ? 薄膜和微制造工藝 ：特征尺寸還在不斷地向更低數(shù)值擴(kuò)展。 1 先進(jìn)的表面工程技術(shù)的若干走向 功能涂層 和 薄膜技術(shù) 近年來發(fā)展迅速 ? 先進(jìn)表面工程技術(shù)是當(dāng)代材料科學(xué)技術(shù)、真空科技與高技術(shù)的重要 交叉領(lǐng)域和發(fā)展前沿 。 ? 在先進(jìn)表面工程技術(shù)中采用遠(yuǎn)離平衡態(tài)鍍膜技術(shù)、等離子體技術(shù)、激光技術(shù)、納米技術(shù)等均取得了良好的應(yīng)用效果。先進(jìn)表面工程技術(shù) 發(fā)展前沿概述 先進(jìn)表面工程技術(shù) ? 先進(jìn)表面工程技術(shù)是當(dāng)代材料科技、真空科技與高科技的交叉領(lǐng)域和發(fā)展前沿，成為現(xiàn)代高新技術(shù)領(lǐng)域和先進(jìn)制造業(yè)的重要前沿之一，在高性能防護(hù)涂層和功能薄膜方面應(yīng)用廣泛。 ? 先進(jìn)表面工程的發(fā)展趨勢、工藝過程及其新進(jìn)展與當(dāng)代科技架構(gòu)的關(guān)系以及先進(jìn)表面工程技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化。 主要內(nèi)容 1. 先進(jìn)的表面工程技術(shù)的若干走向； 2. 先進(jìn)表面工程的發(fā)展趨勢； 3. 工藝過程研究及其新進(jìn)展； 4. 當(dāng)代科技架構(gòu)和納米科技； 5. 先進(jìn)表面工程技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化； 6. 先進(jìn)表面工程技術(shù)的發(fā)展前沿。 ? 先進(jìn)表面工程技術(shù)
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