先進表面工程技術(shù)ppt課件-在線瀏覽
2024-10-22 18:22本頁面
【正文】 在 高性能防護涂層 方面的應用，仍在繼續(xù)發(fā)展，成為現(xiàn)代高新技術(shù)領(lǐng)域和先進制造業(yè)的重要前沿之一。 ? 微小特征尺度的先進表面工程技術(shù)正在逐步發(fā)展成為微／納技術(shù)的重要組成部分。 ? PVD：蒸發(fā)、濺射和離子鍍?nèi)悾? ? CVD：熱 CVD(TCVD)、金屬有機化合物化學氣相沉積 (MOCVD)和等離子體增強 CVD(PECVD)等。 ? 熱噴涂、冷噴涂、靜電噴涂。 ? 如包鍍、熱浸、表面燒結(jié)。 ? 例如，表面研磨、表面拋光、表面粗化、表面噴丸、表面滾花、表面化學刻蝕、載能束表面刻蝕、表面應力控制、表面晶粒細化 (納米化 )、化學轉(zhuǎn)化層、離子滲氮 (碳、碳氮 )、滲鋁和硅鋁共滲、陽極化、磷化、硫化、氧化 (發(fā)蘭 )、表面輻照、離子注入等。 ? 作為整個信息技術(shù)領(lǐng)域需要的配套，發(fā)展了一大批高性能高效率低成本的微／納米加工技術(shù)。 越來越傾向于采用 真空氣相沉積薄膜技術(shù) ? 分子束外延、 ? 激光分子束外延 (LMBE)、 ? 脈沖激光沉積 (PLD)、 ? 超高真空化學氣相沉積 (UVCVD)等， ? 可提供極端條件，有利于了解規(guī)律性，以得出創(chuàng)新性強的結(jié)果。 因而有可能逐步發(fā)展成更為常用的方法。 ? 真空氣相沉積的優(yōu)點在于嚴格控制工藝條件，但也會提高產(chǎn)品成本。 3 工藝過程研究及其新進展 工藝是新材料的技術(shù)關(guān)鍵 ? 在工藝研究中，首要的問題是深入研究其 原理 ，檢驗看其是否與過程設(shè)計預想的一致，從而判斷原始模型的正確性。具體說來，引入等離子體物理原理分析和綜合診斷技術(shù)，有利于深化對于鍍膜過程等離子體微觀作用的認識，為工藝過程研究開辟新視野，并進一步發(fā)展成為宏觀與微觀相結(jié)合的過程設(shè)計。 ? 脈沖等離子體鞘層中歸一化勢場分布的時間演變、 ? 脈沖等離子體鞘層輪廓的時空演變、 ? 鞘層中電子和離子密度的空間分布、 ? 鞘層中俘獲塵埃的密度分布等。 揭示了等離子體容抗負載的新特性，為選取合理的電路參數(shù)提供了依據(jù)。 ? 下一個層次是高新技術(shù)，其中包括航天、航空、新能源、新材料、環(huán)保和物質(zhì)循環(huán)等領(lǐng)域。 三大前沿是當代科技的 戰(zhàn)略發(fā)展方向 ? 首先，信息、生物和納米科技已成為高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的密集源頭， ? 其中生物產(chǎn)業(yè)和信息產(chǎn)業(yè)已進入高速增長期。另一方面，高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)和傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)的改造提升，為三大前沿及高新技術(shù)領(lǐng)域，提供了前所未有的巨大發(fā)展空間。 尺寸效應與低維性 ? 當特征尺寸進入納米尺度范圍時，物質(zhì)顯示其低維性的具體表現(xiàn)。 ? 值得注意的是，尺寸效應既有經(jīng)典效應，也有量子效應，兩者都起作用，都很重要，對其研究不可偏廢。 ? 由低維組元構(gòu)成，并能全部或部分保持有用低維性的穩(wěn)定低維組元集團，稱為納米結(jié)構(gòu)。 ? 目前，納米薄膜技術(shù)已發(fā)展成納米科技重要組成部分，開始為信息、生物、微電子、航天、航空、
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