【摘要】半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體器件原理一.半導(dǎo)體基礎(chǔ)二.pn結(jié)三.BJT四.MOS結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)五.MOSFET六.MS接觸和肖特基二極管七.JFET和MESFET簡介半導(dǎo)體器件硅半導(dǎo)體表面?理想硅表面?鍵的排列從體內(nèi)到表面不變,硅體特性不受影響半導(dǎo)體器
2024-08-31 01:27
【摘要】雙極型晶體管哈爾濱工程大學(xué)微電子學(xué)半導(dǎo)體器件與工藝雙極型晶體管n晶體管的基本結(jié)構(gòu)和分類雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管n均勻基區(qū)晶體管和緩變基區(qū)晶體管均勻基區(qū)晶
2025-03-07 04:32
【摘要】雙極型晶體管哈爾濱工程大學(xué)微電子學(xué)半導(dǎo)體器件與工藝雙極型晶體管?晶體管的基本結(jié)構(gòu)和分類雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?晶體管的制造工藝和雜質(zhì)分布雙極型晶體管?均勻基
2025-01-21 09:19
【摘要】RuHuang,ime,PKU1半導(dǎo)體器件與工藝2022年8月RuHuang,ime,PKU2?半導(dǎo)體器件?IC的基礎(chǔ)?數(shù)字集成電路建庫等?模擬集成電路、射頻集成電路設(shè)計(jì)?側(cè)重工作原理、特性分析、模型RuHuang,ime,PKU3半導(dǎo)體器件方面的課程內(nèi)容
2025-05-15 12:44
【摘要】11晶體生長原理半導(dǎo)體材料制備概述2晶體生長作為一種相變過程大體分為3類:(1)固相生長:即物態(tài)沒有變化,僅有晶格結(jié)構(gòu)發(fā)生變化的相變過程。譬如,離子注入后變成非晶態(tài)的注入層在退火過程中再結(jié)晶的過程,具有兩種以上同質(zhì)異構(gòu)體的晶體在適當(dāng)條件下的晶型轉(zhuǎn)變過程等等。(2)液相生長:伴隨在液-固相變過程中的結(jié)晶過程,包括從溶液中生長晶
2025-03-07 12:21
【摘要】鍍膜工藝北京亞科晨旭科技有限公司2023年12月基本概念真空等離子體真空真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài),是一種物理現(xiàn)象。真空度的高低可以用多個(gè)參量來度量,最常用的有“真空度”和“壓強(qiáng)”單位Pa1Pa=1N/㎡=*10-3Torr1mmHg=1Torr=133Pa
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識(shí)?本征材料:純硅9-10個(gè)9?N型硅:摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅:摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié):NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段(FrontEnd)制程晶圓處理制程(Wa
2025-03-07 04:34
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝第2章 半導(dǎo)體制造工藝概況第2章 半導(dǎo)體制造工藝概況 引言 器件的隔離 雙極型集成電路制造工藝 CMOS器件制造工藝 引言集成電路的制造要經(jīng)過大約450道工序,消耗6~8周的時(shí)間,看似復(fù)雜,而實(shí)際上是將幾大工藝技術(shù)順序、重復(fù)運(yùn)用的過程,最終在硅片上實(shí)現(xiàn)所設(shè)計(jì)的圖形和電學(xué)結(jié)構(gòu)。在講述各個(gè)工藝之前,介紹一下集成電路芯片的加工工藝過程
2025-03-07 04:30
【摘要】中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所InstituteofSemiconductors,ChineseAcademyofSciences單擊此處編輯母版文本樣式中科院半導(dǎo)體所照明研發(fā)中心工藝設(shè)備簡介
2025-05-25 17:48
【摘要】半導(dǎo)體制造工藝過程2023-7-29目錄?1、概述?2、晶體生長與圓晶制造?3、硅的氧化?4、光刻與刻蝕?5、擴(kuò)散與離子注入?6、薄膜沉積概述工藝集成晶體生長與圓晶制造熱氧化光刻與刻蝕擴(kuò)散與離子注入薄膜沉積測試與封裝晶體生長與圓晶制造?1、直拉法單晶生
【摘要】現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長和外延1晶體生長和外延現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝PhysicsandTechnologyofModernSemiconductorDevices2023,7,30現(xiàn)代半導(dǎo)體器件物理與工藝桂林電子科技大學(xué)晶體生長和外延2晶體生長與外延對(duì)分立器件而言,最重要的半導(dǎo)
2025-01-29 03:14
【摘要】第十一章半導(dǎo)體材料制備生長技術(shù)?體單晶生長技術(shù)單晶生長通常利用籽晶在熔融高溫爐里拉伸得到的體材料,半導(dǎo)體硅的單晶生長可以獲得電子級(jí)(%)的單晶硅?外延生長技術(shù)外延指在單晶襯底上生長一層新單晶的技術(shù)。新生單晶層的晶向取決于襯底,由襯底向外延伸而成,故稱“外延層”。晶體生長問
2024-12-17 07:59
【摘要】半導(dǎo)體器件原理與工藝半導(dǎo)體器件原理與工藝
2025-03-31 02:49
【摘要】半導(dǎo)體材料—硅摘要半導(dǎo)體材料是制作半導(dǎo)體器件和集成電路的電子材料,是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)。利用半導(dǎo)體材料制作的各種各樣的半導(dǎo)體器件和集成電路,促進(jìn)了現(xiàn)代信息社會(huì)的飛速發(fā)展。本文就半導(dǎo)體硅材料作了簡單介紹。引言能源、信息、材料是人類社會(huì)的三大支柱。半導(dǎo)體硅材料則是電子信息產(chǎn)業(yè)(尤其是集成電路產(chǎn)業(yè))和新能源、綠色能源硅光伏產(chǎn)業(yè)的主體功能材料,硅材料的使用量至今仍然占全球半導(dǎo)體材料的9
2024-08-20 03:43
【摘要】第一章緒論1.半導(dǎo)體材料的五大特性:整流效應(yīng)、光電導(dǎo)效應(yīng)、負(fù)電阻溫度效應(yīng)、光生伏特效應(yīng)和霍爾效應(yīng)所謂光電導(dǎo)效應(yīng),是指由輻射引起被照射材料電導(dǎo)率改變的一種物理現(xiàn)象。電導(dǎo)與所加電場的方向有關(guān),在它兩端加一個(gè)正向電壓,它是導(dǎo)通的;如果把電壓極性反過來,它就不導(dǎo)通,這就是半導(dǎo)體的整流效應(yīng)。2.能帶結(jié)構(gòu)3.外延生長:在單晶襯底上生長單晶薄膜稱為外延生長。如果襯底材料和外延層是同一種
2025-01-24 01:43