fesem-6700f中文操作手冊(cè)-展示頁(yè)
2024-11-12 03:15本頁(yè)面
【正文】 ed Electrons）、透射電子（ TE：Transmitted Electrons ）、 X 射 線 及 陰 極 螢 光 （ Cathode Luminescence）。一般電子顯微鏡增加景深的方法：包括（ 1）採(cǎi)用低倍率；（ 2）將束斑直徑變小（光束聚焦）；及（ 3）減小孔徑角（使用較小的孔徑） 。 3 假設(shè)電子束經(jīng)由完美之透鏡聚焦到試片表面成為一點(diǎn)，此時(shí)顯現(xiàn)在 CRT 上的為一影像點(diǎn)?？衫酶砻饔沂侄▌t可確定其旋轉(zhuǎn)方向。 表 39 2 表 310 掃描式電子顯微鏡的電子波長(zhǎng)在 1A 以下，因此它具有較光學(xué)顯微鏡 佳的解析度。圖36 為 SEM 之基本構(gòu)造圖；圖 37 為早 期 JSM840 掃描式電子顯微鏡之剖面圖 。圖 35 為 SEMEMPA 組 合之系統(tǒng)式意圖。 2 掃描式電子顯微鏡由於景深（ Depth of Focus）大，對(duì)於研究物體之表面結(jié)構(gòu)功效特冸顯著，例如材料之?dāng)嗫?、磨損面、塗層結(jié)構(gòu)、夾雜物等之觀察研究。由於早期發(fā)展的 SEM 解析度未臻理想，影像處理及訊號(hào)處理技術(shù)無(wú)法突破，一直到 1965 年以後， SEM 才正式普獲研究學(xué)者的青睞。 1 FESEM JSM6700F 中文操作手冊(cè) 2 頁(yè)數(shù)索引 一 電子顯微鏡原理 *************************1 二 機(jī)臺(tái)外觀介紹 ***************************16 三 操作軟體功能介紹 ***********************19 四 機(jī)臺(tái)操作 *******************************23 五 基本保養(yǎng) *******************************29 1 電子顯微鏡主要是利用高加速電壓之入射電子束打擊在試片後，產(chǎn)生相關(guān)二次訊號(hào)來分析各種特性，可參閱圖 33，一般的二次訊號(hào)包括直射電子、散射電子、二次電子、背向散射電子、 Auger 電子及 X 射線等。電子顯微鏡的發(fā)展以穿透式電子顯微鏡（ TEM：Transmission Electron Microscope）為最早，在 1931 年即已提出；掃描式電子顯微鏡（ SEM： Scanning Electron Microscope）則在 1935年提出。此後 SEM 的發(fā)展相當(dāng)快速，不但機(jī)臺(tái)性能的大幅提高，且各項(xiàng)材料分析附件日益增多，應(yīng)用的範(fàn)圍也不斷地?cái)U(kuò)大，幾乎包含各個(gè)研究領(lǐng)域，目前應(yīng)用在材料、機(jī)械、電機(jī)、電子材料、冶金、地質(zhì)、礦物、生物醫(yī)學(xué)、化學(xué)、物理等方面最多。近年來由於技術(shù)的進(jìn)步， SEM 已將電子微探儀 （ Electron Probe Microanalyser； EPMA）結(jié)合在一起（兩者主要功能之比較表請(qǐng)見表 34），在觀測(cè)表面結(jié)構(gòu)時(shí)，能夠同時(shí)分析顯微區(qū)域之定性及定量成份分析，使得掃描式電子顯微鏡成為用途最廣的科學(xué)儀器之一。 3 圖 35 4 因此，在比較各類分析工作儀器中，我門發(fā)現(xiàn)使用率最高的材料分析技術(shù)應(yīng)該算是掃描式電子顯微鏡，其基本構(gòu)造 如下：由電子槍 (Electron Gun) 發(fā)射電子束，經(jīng)過一組磁透鏡聚焦
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