essentialmacleod光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟-展示頁
2025-01-18 02:12本頁面
【正文】 gn) 入射角 設(shè)計(jì)波長 入射介質(zhì) 基片 膜層材料 厚度 編輯公式 (Edit Formula) 公式 ( Formula) ? Symbol:用戶自定義（ H,L等） ? Packing Density:填充密度 =薄膜的固體體積 /總的體積 ? Medium:輸入膜系的結(jié)構(gòu) 定義厚度 ? 光學(xué)厚度 =nd/λ ? 幾何厚度 = d/λ ? 物理厚度 = d ? 188。s公差容量允許研究設(shè)計(jì)對(duì)制造誤差的敏感性。每一種材質(zhì)都以數(shù)據(jù)表存儲(chǔ)，該數(shù)據(jù)表包括隨波長改變的折射率和消光系數(shù)，這使得我們可以對(duì)任一種色散建模。 材料管理 實(shí)際材料會(huì)發(fā)生與波長有關(guān)的光學(xué)參數(shù)色散。因此多材料數(shù)據(jù)庫，可以使設(shè)計(jì)很容易的從一個(gè)材料庫到另一個(gè)，以研究溫度和鍍膜環(huán)境的影響。材料的表現(xiàn)不是總在最理想狀態(tài)并且光學(xué)參數(shù)經(jīng)常依賴特定的鍍膜機(jī)和沉積的參數(shù)。 光學(xué)組件（ Stack） 多數(shù)鍍膜光學(xué)元件最少有兩個(gè)面，一個(gè)濾光器組件或混合膜層透鏡有許多面，基底可能吸收某些波長的光，Essential Macleod 有一個(gè)計(jì)算多膜層和多基底系列組件性能的工具。 CIE 1931 和 1964顏色匹配功能也包括在里面，其次你可以定義你要求的其他顏色。如：頻率可以采用電子伏特、千兆赫、波數(shù)；波長可選埃、納米、微米甚至微英寸。根據(jù)得到的數(shù)據(jù)，可以檢測出膜層的非均勻性，吸收或者同時(shí)兩方面的結(jié)果。這里采用的包絡(luò)線方法十分穩(wěn)定。 針對(duì)這種情況，根據(jù)分光光度計(jì)對(duì)測試薄膜的折射率和透射率的測量結(jié)果， Namp。而折射率的變化是由堆砌密度改變來表征。通過各種方式對(duì)不同方面的約束，分析找出制造過程中的誤差和其他問題。 逆向工程 Essential Macleod 可對(duì)在制造過程中生成的誤差提供鑒定支持；這方面支持是通過單一優(yōu)化法的改進(jìn)而達(dá)到的。 Optimac是可存檔的。 合成（ synthesis） Optimac 技術(shù)也可以在合成模塊里操作，為了達(dá)到需要的規(guī)格在設(shè)計(jì)時(shí)它可以增加或者移走膜層。對(duì)象連接使得更加復(fù)雜的優(yōu)化功能得以實(shí)現(xiàn)。 Linking可以步驟式改變厚度。在一般條件下， OptiMac 功能強(qiáng)大，推薦使用這種優(yōu)化法；而 Simplex 則較為快速和穩(wěn)定；作為一種統(tǒng)計(jì)型方法， Simulated Annealing 在阻抗型的情況里會(huì)很有效，但相對(duì)耗時(shí)。導(dǎo)納軌跡法以及環(huán)形圖法則可幫使用者了解設(shè)計(jì)是如何進(jìn)行的， 通過導(dǎo)納或者復(fù)振幅系數(shù)的從系統(tǒng)中的后層到前層的轉(zhuǎn)換，這種方法將不同膜層的作用轉(zhuǎn)換至一層單層膜，由此可以被視做一套完整的直觀記錄方法。 分析工具 分析工具包括導(dǎo)納圖標(biāo)法、環(huán)性（反射系數(shù)）圖標(biāo)法、電場圖法。除了一般反射和透射計(jì)算外，還包括：密度 ﹑ 吸收率 ﹑ 橢偏參數(shù) ﹑ 超快參數(shù) ( 群時(shí)延 ﹑ 群時(shí)延色散 ﹑ 三階色散 ) 和光的色散，此外，也可以應(yīng)用于色彩計(jì)算。非極性
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