半導體制造工藝第2版-文庫吧資料
2025-03-05 04:30本頁面
【正文】 溫，使溫度達到 1300℃ 。 在粗的鎢絲上繞上 ф ，或者采用幾股細鎢絲絞合成多股絲，然后加工成所需形狀；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院蒸發(fā)操作過程：蒸發(fā)前準備工作蒸發(fā)源加熱器處理? 一般鎢絲表面會有臟物，一定要很好地清洗；? 清洗可用 10~20% NaOH或 KOH溶液煮幾次，或用 10~20% NaOH溶液電解。 蒸發(fā)源加熱器一般采用鎢絲繞制而成；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院蒸發(fā)系統(tǒng)示意圖學習情景三常州信息職業(yè)技術學院加熱材料應滿足：? 要與蒸發(fā)材料的熔液有良好的浸潤性，即被蒸發(fā)材料熔化后能很好的粘在上面而不掉下來；? 熔點必須高于蒸發(fā)金屬的熔點，以免在蒸發(fā)時，加熱器本身熔化；? 可加工成各種形狀，并能重復使用，與蒸發(fā)金屬間的互熔度必須很小，以免造成蒸發(fā)膜玷污或合金化；? 大多采用鎢絲作為加熱材料；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院加熱器形狀：? 加熱器材料的幾何形狀直接影響蒸發(fā)速率和膜的質(zhì)量；? 它們的幾何形狀和尺寸需要根據(jù)蒸發(fā)材料的性質(zhì)、狀態(tài)、蒸發(fā)量及襯底面積而定；? 通常有以下幾種形狀：學習情景三常州信息職業(yè)技術學院學習情景三常州信息職業(yè)技術學院216。 真空蒸發(fā)設備又叫真空鍍膜機；組成部分： 真空鍍膜室、抽氣系統(tǒng)、測量系統(tǒng)；216。系統(tǒng)中的氣體分子不斷作擴散運動，一旦與油蒸汽分子相撞，就被油蒸汽分子帶走。 在半導體器件和集成電路制造中， 選用鋁材料作為蒸發(fā)源；原因： 鋁和 P型和 N型硅都能形成低電阻的歐姆接觸，而且對二氧化硅附著力強，易于蒸發(fā)和光刻，導電能力強，價格便宜；216。 便于光刻；252。 與二氧化硅粘附性好；252。方式： 蒸發(fā)（ 蒸鍍 ）和濺射（ 濺鍍 ）；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院蒸發(fā)： 通過加熱被蒸鍍物體，利用被蒸鍍物體在高溫時（ 接近其熔點 ）的飽和蒸汽壓，進行薄膜淀積，又稱熱絲蒸發(fā)；濺射： 利用等離子體中的離子，對被濺鍍物體（ 粒子靶 ）進行轟擊，使氣相等離子體內(nèi)具有被濺鍍物體的粒子，這些粒子淀積到硅晶片上形成濺射薄膜；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院濺射系統(tǒng)示意圖學習情景三常州信息職業(yè)技術學院 熱絲蒸發(fā)分類： 真空鎢絲蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)真空鎢絲蒸發(fā)真空知識? 1標準大氣壓 =760mmHg=760Torr? 1mmHg=1Torr=133Pa? 粗真空： 760~10Torr? 低真空： 10~103Torr? 中真空： 103~105Torr? 高真空： 105~108Torr? 超高真空： 108Torr以上學習情景三常州信息職業(yè)技術學院源材料? 蒸發(fā)的目的是為了形成良好的歐姆接觸、管芯內(nèi)部互聯(lián)以及引出電極引線。它是以物理方式進行薄膜淀積的一種方式；216。學習情景三常州信息職業(yè)技術學院 學習情景三：薄膜制備子情景 4：物理氣相淀積學習情景三常州信息職業(yè)技術學院半導體制造工藝 第 2版? 書名：半導體制造工藝 第 2版? 書號： 9787111507574? 作者：張淵? 出版社：機械工業(yè)出版社學習情景三常州信息職業(yè)技術學院物理氣相淀積216。概念： 物理氣相淀積，簡稱 PVD。用途： 集成電路中的金屬薄膜一般都采用物理氣相淀積方式制備；216。為了達到這個目的，所選用的源材料必須滿足以下幾個條件：? 有良好的導電性能；? 容易與硅形成良好的歐姆接觸；? 便于鍵合和引出金屬線；? 適合用蒸發(fā)工藝；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院252。 沒有毒害；252。 價格便宜；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院216。 除此之外，也用 金、鎳鉻、鉛 等；學習情景三常州信息職業(yè)技術學院真空設備機械泵? 又稱真空旋轉泵，用來獲得低真空的一種抽氣設備；?
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