sem二次電子成像和背散射電子成像-文庫(kù)吧資料
2025-07-02 15:32本頁(yè)面
【正文】 較亮的區(qū)域；而平均原子序數(shù)較低的部位則產(chǎn)生較少的背散射電子，在熒光屏上形成較暗的區(qū)域，這樣就形成原子序數(shù)襯度（成分襯度）。二次電子像分辨率高、無(wú)明顯陰影效應(yīng)、場(chǎng)深大、立體感強(qiáng)，是掃描電鏡的主要成像方式，特別適用于粗糙樣品表面的形貌觀察，在材料及生命科學(xué)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。根據(jù)上述特點(diǎn)，二次電子像主要是反映樣品表面10 nm左右的形貌特征，像的襯度是形貌襯度，襯度的形成主要取于樣品表面相對(duì)于入射電子束的傾角。., .. ..掃描電鏡二次電子及背散射電子成像技術(shù)掃描
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