【正文】 處理方案 處理效率 排放濃度 （ mg/m3） 排放速率 （ kg/h） 工藝廢氣 G14 70000 鉻酸 霧 鉻酸霧洗滌塔 90% 工藝廢氣 G5 70000 氟化物 洗滌塔 98.6% HCl 80% 硫酸霧 60% Cl2 40% 工藝廢氣 G16 70000 P2O5 洗滌塔 40% 工藝廢氣 G17 70000 NOx 洗滌塔 80% 工藝廢氣G18 40000 NH3 硅烷燃燒 95% SiH4 95% 有機廢氣G19 6400 TVOC 活性炭 纖維 90% 廢氣類型 廢氣量 m3/h 污染因子 產(chǎn)生量（ t/a） 處理方案 處理效率 排放量（ t/a） 無組織 排放廢氣（車間 +化學品庫） 鉻酸霧 氟化物 HCl 硫酸霧 NOx P2O5 Cl2 NH3 SiH4 TVOC 注：車間有機廢氣未收集排放量以 5%計； 化學品原料倉庫揮發(fā)量按萬分之一計 ； （ 2）本項目的廢誰產(chǎn)生情況 本項目廢水產(chǎn)生情況一覽表 (t/a) 編號 名稱 產(chǎn)生量 pH CODCr mg/l SS mg/l NH3N mg/l TP mg/l F mg/l 六價鉻mg/l W1 含鉻廢 水 80096 35 100 250 / / / 50 W2 含氟廢 水 120245 35 50 250 / / 150 / W3 含 N 廢水 18882 35 100 50 500 / 100 / W4 含 P 廢水 2046 35 100 50 / 300 / / W5 酸堿廢 水 104987 214 100 70 / / / / W6 生活污 水 12020 69 400 200 20 4 / / W7 工藝甩干水、制純水廢水（清下水） 326364 69 ＜ 40 ＜ 30 / / / / 廢水總排口排放指標表 (t/a) 編號 名稱 排放 量 pH CODCr mg/l SS mg/l NH3N mg/l TP mg/l F mg/l 六價鉻mg/l 總鉻mg/l 1 工業(yè) 廢水 69 68 20 / / 3 2 生活污 水 12020 直接排入市政污水管網(wǎng) 2 清下水 326364 入清下水管網(wǎng) （ 3）固廢 本項目固體廢棄物產(chǎn)生情況一覽表 t/a 名稱 產(chǎn)生量 類別 危廢編號 廢銀漿、廢鋁漿、廢銀鋁漿 危險廢物 （ HW42） 廢酸液 危險廢物 （ HW34） 含鉻廢液 危險廢物 （ HW21/42） 廢堿液 危險廢物 （ HW35） 含鉻廢水處理污泥（餅） 64 危險廢物 （ HW21） 廢活性炭纖維 4 危險廢物 （ HW42） 含氮濃水 危險廢物 （ HW34） 總混合廢水處理污泥（餅） 576 一般廢物 99 廢制純水膜 一般廢物 99 廢包裝材料 8 一般廢物 99 生活垃圾 150 一般廢物 99 危險廢物 委托有資質(zhì)單位進 行回收處理，一般工業(yè)廢物由專門單位回收處理，生活垃圾則委托新區(qū)環(huán)境衛(wèi)生管理部門妥善處理 。 7．燒結 燒結工序主要是將印刷好銀漿、鋁漿 、銀鋁漿的電極放入燒結爐中，使?jié){料中的水分、樹脂及某些有機物揮發(fā)出來。 (即在硅片上印刷鋁漿、銀漿、銀鋁漿 )： 使用漿料印刷電極，使之形成良好接觸 ,收集電流。因而此工序會有少量的氮氧化物、硫酸霧、 HCl、 HF 和四氟化硅揮發(fā)。 ： 硅片擴散也稱磷擴散，是在氧氣存在的條件下，磷源分解在硅中擴散而形成 PN 結， POCl3為電子級純度，在過程中所起作用是為擴散提供磷源，各反應化學式如下： 5POCl3=3PCl5+P2O5 2P2O5+O2+6Si=4P+6SiO2 4PCl5+5O2=2P2O5+10Cl2 4POCl3+3O2=2P2O5+6Cl2 因而硅片擴散工序 ,有廢氣產(chǎn)生，該廢氣成分有 P2O Cl2等。此過程有廢氣產(chǎn)生，廢氣中含有氮氧化物、硫酸霧、 HCl、 HF、 H2；此工序還有含 N廢水、含氟廢水、酸性廢水產(chǎn)生，同時產(chǎn)生一定的廢液。 （ 2）無鉻多晶硅生產(chǎn)工藝流程 HNO HF、 H2SO純水 KOH、純水 HF、純水 本項目無鉻生產(chǎn)工藝流程圖 簡述： 本工藝為無鉻多晶硅工藝，是目前較先進工藝，無重金屬污染問委外加工多晶 硅片 硅片腐蝕（制絨）清洗 干燥 硅片擴散 去硅玻璃 干燥 加減 反射膜 硅片背面印刷銀鋁漿 烘干 硅片背面印刷鋁漿 烘干 硅片正面印刷銀漿 燒結 太陽能電池片 HNO HF、純水 KOH、純水 HF、 HCl、純水 G1 酸霧（ NOx）、 HF G2 HCl、 HF W1 含（ N）、 HF 廢水 W2 堿性 廢水 W3 含酸（ HF、 HCl）廢水 S1 含硝酸、氫氟酸、鹽酸廢液 空氣 POCl N O2 G3 Cl2 G4 P2O5 W4 清排水 純水 、 HF G5 酸霧 （ NOx）、 HF、硫酸霧 、 SiF4 W6 含 （ N）、 HF 酸性廢水 W7 堿性廢水 G6 HF W7 酸性（ HF）廢水 空氣 S2 含磷廢液 W5 含 磷 廢水 SiH NH N2 G7 NH SiH4 銀鋁漿 S3 少量廢鋁銀漿 G8 少量有機物 鋁漿 S4 少量廢鋁漿 G9 少量有機物 銀漿 S5 少量廢銀漿 G10 有機物 （多晶電池片） 純水 題，具體如下： (制絨 )、清洗： 本項目使用原材料為 P（硅片類型）型多晶硅薄片，使用硝酸、氫氟酸、鹽酸的混合酸（按一定比例配比）腐蝕硅表面形成絨面。 現(xiàn)有一期項目在后續(xù)生產(chǎn)過程中將 4 條無鉻生產(chǎn)線中的 1 條改變至有鉻生產(chǎn)線，在后續(xù)的二期擴建過程中已將 6 條有鉻生產(chǎn)線中的 1 條改變至無鉻生產(chǎn)線，建設單位從而已滿足環(huán)保主管部門環(huán)評批復對建設單位生產(chǎn)線設置要求。根據(jù)企業(yè)介紹及現(xiàn)場勘查情況，目前該項目各項環(huán)保治理措施已全部到位，現(xiàn)已委托進行驗收監(jiān)測。 現(xiàn)有 項目污染物排放“三本帳” 現(xiàn)有 項目污染物“三本帳”一覽表（一 期 +二期） 類別 項目 一期（已建） 二期（在建） 公司目前 排放總量 t/a 核準總量 t/a 排放總量 t/a 核準總量 t/a 排放總量 t/a 核準總量 t/a 廢氣 鉻酸霧 0 0 氟化物（ F） * * HCl 異丙 醇 * * Cl2 0115 0115 P2O5 NH3 SiH4 0 TVOC 廢水 廢水量 萬 萬 萬 萬 萬 萬 COD SS NH3N TP 氟化物 六價鉻 0 0 總鉻 0 0 固廢 危險固廢 0 0 0 0 0 0 一般工業(yè)固廢 0 0 0 0 0 0 生活垃圾 0 0 0 0 0 0 *氟化物、異丙醇由于在一期項目“三同時”驗收時未檢出，因此按照檢出限的一半計算其排放量 ； 現(xiàn)有項目環(huán)保驗收情況 現(xiàn)有蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司年產(chǎn)太陽能電池片100MW、太陽能電池組建 100MW 新建 項目（一期項目）已于 2020 年通過蘇州市環(huán)保局環(huán)?！叭瑫r ” 竣工驗收（見 蘇環(huán)驗【 2020】 184 號）。 7．燒結 燒結工序主要是將印刷好銀漿、鋁漿、銀鋁漿的電極放入燒結爐中，使?jié){料中的水分、樹脂及某些有機物揮發(fā)出來。 (即在硅片上印刷鋁漿、銀漿、銀鋁漿 )： 使用漿料印刷電極，使之形成良好接觸 ,收集電流。因而此工序會有少量的氫氟酸和四氟化硅揮發(fā)。 ： 主要是去 除邊緣的 N 型硅，此工序為干法刻蝕，主要是利用四氟化碳和硅以及氧氣的反應來去除邊緣硅，其化學反應式為： CF4+Si+O2=SiF4↑ +CO2↑ 因而此工序有未反應完全的四氟化碳和反應生成的四氟化硅氣體逸出。此過程有廢氣產(chǎn)生，廢氣中含有鉻酸霧、 HCl、HF、 H2；此 工序還有含鉻廢水、含氟廢水、酸性廢水產(chǎn)生，同時產(chǎn)生一定的廢液，其中含有較高濃度的異丙醇。 （ 2） 二期擴建項目