物理氣相沉積技術(shù)ppt課件-文庫吧資料
2025-05-07 12:11本頁面
【正文】 不同氣體離子轟 擊鎢靶的濺射率曲線 （五）濺射鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn) ? 優(yōu)點(diǎn)： 1）適用性廣 2）粒子能量高： 對基片有清洗，升溫的作用 ； 薄膜附著力大 。 靶材 (二）鍍膜原理 ? ：指 真空狀態(tài) 下用 離子束 轟擊 靶表面 ，使濺射出的粒子在基片表面成膜。 反射 吸附 再蒸發(fā) 動態(tài)平衡 （三）真空蒸發(fā)鍍工藝 一般工藝 鍍前準(zhǔn)備－抽真空－離子轟擊一烘烤一預(yù)熱一蒸發(fā)鍍一取件－鍍后處理一檢測一成品。 —— 納米粉體材料 PVD是制備低維材料的手段，特別是薄膜材料！ What is the Deposition? Gas Liquid Solid Condensation Vaporization 薄膜材料的制備 ? 氣相沉積技術(shù) ? 溶膠凝膠技術(shù) PVD CVD 蒸發(fā)鍍 離子鍍 濺射鍍 （裝飾，機(jī)械制品，電子器件） 眼鏡片的鍍膜 ? 減反射膜（增透膜） ? 頂膜（防水膜、防霧膜） ? 鍍膜技術(shù)的評價 1. 薄膜性能 2. 膜厚分布 3. 附著力 4. 沉積速度 一、 真空蒸發(fā)鍍 ? 概念： 真空蒸發(fā)鍍是將被鍍工件放在真空室，并用一定方法加熱使鍍膜材料（簡稱膜料）蒸發(fā)或升華飛至工件表面凝聚成膜。 —— 薄膜材料 (納米薄膜） ? 一維材料：當(dāng)材料在 Z方向縮小的同時， Y方向也縮小到納米尺度。物理氣相沉積技術(shù) 第八章 低維材料 ? 定義：二維、一維和零維材料，統(tǒng)稱低維材料。 ? 二維材料：是指當(dāng)材料的任一維度，如 Z方向的尺寸小到納米量級，則此材料就成為 X， Y方向延展的二維材料。 —— 又稱量子線，納米管 ? 零維材料：當(dāng)材料在 X， Y， Z方向上的尺寸都縮小到納米量級。 （一）真空蒸發(fā)鍍示意圖 １、蒸發(fā) ２、汽化粒子的輸運(yùn) （源－基距＜平均自由程） ３、凝聚、生長過程 （二）主要過程 蒸發(fā)過程 ? 蒸發(fā)速率： Gm＝ *10－ 3PS(Ar/T） 確定材料的飽和蒸汽壓 PS ， T Gm
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