常見的表面工藝處理及不良分析-文庫吧資料
2025-05-23 10:46本頁面
【正文】 Curve Figure 1 Figure 2 Figure 3 Surface Effect Figure 4 Casting Part After Polishing and plating After Stamping Negative Curve Figure 1 Figure 2 Figure 3 Surface Effect Figure 4 Figure 5 ? Design: Surface require flat, there is a negative curve at the surface of casting part. (Figure 1)此形狀的部件，拋光后會影響產(chǎn)品功能。 5. 拋光 Polishing 5. 拋光 Polishing ? Design: Surface is not flat, there is a positive curve at the surface of casting part. (Figure 1) 此形狀的部件，拋光不會影響產(chǎn)品功能。m 厚膜型 柔軔性 1mm 延展性及耐曲性強 杯突性 延展性及耐曲性強 耐鹽霧性 1200hr 防蝕能力特強 4. 電鑄 Electroform 1 清洗不銹鋼底板 2 涼干不銹鋼底板 3 涂感光材料 4 曝光 5 清洗曝光后底板 6 進行電鑄 7 清洗產(chǎn)品輪廓以外感光涂層 8 涼干電鑄成品 9 品質(zhì)全檢 10 復(fù)膜、換離形紙 11 背膠 電鑄層厚度： ~，常用厚度： ~； 背膠厚度： ~； 基層材料：鎳、銅； 表層材料：鉻、金、鈷、锳等； Stamping 沖壓 Polishing 拋光 Process: Plating 電鍍 The sample is made by stainless steel, after high quality polishing, then arrange vacuum plating. 1/. Polish requirement: mirror polish, any scratch and dent can not be accepted, so the yield rate is low (about 80% at polish process). 需要鏡面拋光，不良率較高。s/cm pH (陽離子 ) (陰離子 ) 溫度 1530oC 1080oC 槽液組成 樹脂、顏料、溶劑等 各種鹽類及助劑 補充料 同上 金屬板及鹽類助劑 粒子大小 106～ 104cm 108 cm 電泳與電鍍之比較表 3. 電泳 Electrophoresis 陰極電泳漆之優(yōu)點 原漆 色漿細度 5181。 Die Casting 壓鑄 Polishing 拋光 Process: Electrop Horesis電泳 3. 電泳 Electrophoresis 3. 電泳 Electrophoresis 操作條件及物理性質(zhì) 電泳 電鍍 被涂物極性 陰極 /陽極 陰極 電壓 20400volt 210volt 電流密度 20150A/m2 50500A/m2 時間 260min 耗電量 110Kwh/kg 350kwh/kg 槽內(nèi)濃度 520%solid 1050%solid 電導(dǎo)率 2002021181。 ? 烘干：在烘箱中于（ 165177。 10） V；時間： 2～ ；漆液溫度： 15～ 35℃ 。 ? 陽極電泳：電解液成分： H081黑色電泳漆，固體分質(zhì)量分數(shù) 9%～ 12%，蒸餾水質(zhì)量分數(shù) 88%～ 91%。 ? 磷化：用中溫磷化（ 60℃ 時磷化 10min）。 ? 除銹：用 H2SO4或 HCl ，加清洗劑 %；室溫下洗 10～ 20min。 ? 除油：溶液一般為熱堿性化學除油液，溫度為 60℃ （蒸汽加熱），時間為 20min左 右。若涂料粒子帶負電，工件為陽極，涂料粒子在電場力作用下在工件沉積成膜稱為陽極電泳；反之，若涂料粒子帶正電，工件為陰極，涂 料粒子在工件上沉積成膜稱為陰極電泳。 – Using PVD method B for sampling, lead time has to extend about 2~＋真空電鍍工藝，打樣周期將會增加 2～ 3天。 – Using PVD method A for gun metal color, unit price will be increase about 50%~100%, or more. 使用真空電鍍實現(xiàn)槍色，產(chǎn)品單價會增加 50%~100%。 – PVD coating is stronger, and the PVD coating is more harder. The PVD coating also has better wear resistance, better corrosion resistance and better chemical stability. 真空電鍍鍍層硬度及強度較水鍍高，耐磨性好，具有更穩(wěn)定的化學性能。 PVD Method A Organic Film PVD Ti Cr (Cr+3) or Sn Base Substrate Zinc PVD Method B Organic Film PVD Ti Base Substrate Stainless Steel 2. 真空電鍍 PVD ? Advantage: 優(yōu)點 – More color can be chosen with PVD plating process. 真空電鍍顏色選擇多。 B. PVD method B: plating one Cr or Sn layer at base substrate Zinc, then arrange the part for PVD. As method B need normal plating + PVD, plating quotation is 80%~100% higher than normal plating. Defect rate will be increased to 10%~20%. 方式 B：使用鋅合金，先水鍍再做真空電鍍。 2. 真空電鍍 PVD 真空蒸鍍、真空濺鍍、真空離子鍍對比 Item Compared Vacuum Evaporation Coating 蒸鍍 Vacuum Sputtering Coating 濺鍍 Vacuum Ion Coating(PVD Coating) 離子鍍 Pressure (Torr) 10 5 10 6 Energy of Particle Neuter 110eV Ion － － Hundreds to Thousands Deposition Rate ( μm /min)
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