統(tǒng)計(jì)過程控制培訓(xùn)講義ppt67頁(yè)(參考版)
2025-02-08 22:21本頁(yè)面
【正文】 方法如下： b 1 估計(jì)過程的標(biāo)準(zhǔn)偏差（用 σ? 表示），用 現(xiàn)有的 子組容 量計(jì)算： σ? = R/d2 式中 R為子組極差的均值（在極差受控期間）， d2 為隨樣本 容量變化的常數(shù)，如下表： n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 d2 b –2 按照 新的 子組容量查表得到系數(shù) d2 、 D D4 和 A2， 計(jì)算新 的極差和控制限： R新 = σ? d2 UCLR= D4 R新 LCLR = D3 R新 UCLX = X+ A2 R新 LCLX = X– A2 R新 將這些控制限畫在控制圖上。 37 為了繼續(xù)進(jìn)行控制延長(zhǎng)控制限 a 當(dāng)首批數(shù)據(jù)都在試驗(yàn)控制限之內(nèi)（即控制限確定后），延長(zhǎng)控 制限，將其作為將來(lái)的一段時(shí)期的控制限。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 注：如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠(yuǎn)的幾個(gè)子組更改刪除） d 如果顯著少余 2/3以上的描點(diǎn)落在離 X很近之處（對(duì)于 25子組， 如 果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一 種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)描錯(cuò) 。 b 一般情況 ， 各點(diǎn)與 X的距離：大約 2/3的描點(diǎn)應(yīng)落在控制限的 中間 1/3的區(qū)域內(nèi) ， 大約 1/3的點(diǎn)落在其外的 2/3的區(qū)域； 1/20的 點(diǎn)應(yīng)落在控制限較近之處 。 a1 過程均值已改變 a2 測(cè)量系統(tǒng)已改變（漂移，偏差，靈敏度） 注：標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸到 鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢(shì)或變化的時(shí)間。 34 分析均值圖上的數(shù)據(jù)點(diǎn) 341 超出控制限的點(diǎn)： a 一點(diǎn)超出任一控制限通常表明存在下列情況之一或更多： a1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)時(shí)描錯(cuò) a2 過程已更改，或是在當(dāng)時(shí)的那一點(diǎn)（可能是一件獨(dú)立的 事件）或是一種趨勢(shì)的一部分。而是排除受已知的特殊原因影響的點(diǎn)。 A2R 。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組，也應(yīng)從 X圖中去掉。 b 應(yīng)及時(shí)分析問題，例如：出現(xiàn)一個(gè)超出控制限的點(diǎn)就立即開 始分析過程原因。 注：如果存在幾個(gè)過程流，應(yīng)分別識(shí)別和追蹤。 d 如果顯著少于 2/3以上的描點(diǎn)落在離 R很近之處 （對(duì)于 25子組，如果有 40%的點(diǎn)落在控制限的 1/3區(qū)域），則應(yīng)對(duì)下列情況的一種或更多進(jìn)行調(diào)查： d1 控制限計(jì)算錯(cuò)或描點(diǎn)或描錯(cuò)。 c2 過程或取樣方法被分層，每個(gè)子組系統(tǒng)化包含了從兩個(gè)或多 個(gè)具有完全不同的過程均值的過程流的測(cè)量值（如：從幾組 軸中，每組抽一根來(lái)測(cè)取數(shù)據(jù)）。 b 一般情況，各點(diǎn)與 R 的距離：大約 2/3的描點(diǎn)應(yīng)落在控制限的中間 1/3的區(qū)域內(nèi)，大約 1/3的點(diǎn)落在其外的 2/3的區(qū)域。 注 2： 標(biāo)注這些使人們作出決定的點(diǎn)，并從該點(diǎn)做一條參考線延伸 到鏈的開始點(diǎn)，分析時(shí)應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢(shì)或變化的時(shí)間 。 b2 測(cè)量系統(tǒng)的改好。 a2 測(cè)量系統(tǒng)的改變 （ 如新的檢驗(yàn)人或新的量具 )。 31 分析極差圖上的數(shù)據(jù)點(diǎn) 311 超出控制限的點(diǎn) a 出現(xiàn)一個(gè)或多個(gè)點(diǎn)超出任何控制限是該點(diǎn)處于失控狀態(tài)的主要 證據(jù) ， 應(yīng)分析 。 6 7 注 1： R 圖和 X 圖應(yīng)分別分析，但可進(jìn)行比較，了解影響過程 8 的特殊原因。 3 過程控制分析 4 分析控制圖的目的在于識(shí)別過程變化或過程均值不恒定的證據(jù)。 ? 各控制限畫成虛線。在這種情況下沒有下控制限，這意味著對(duì)于一個(gè)樣本數(shù)為 6的子組， 6個(gè)“同樣的”測(cè)量結(jié)果是可能成立的。 13 計(jì)算公式： 14 UCLx=X+ A2R UCLR=D4R 15 LCLx=X A2R LCLR=D3R 16 接上頁(yè) 注： 式中 A2,D3,D4為常系數(shù)，決定于子組樣本容量。 4 5 21 計(jì)算平均極差（ R） 及過程均值（ X） 6 R=（ R1+R2+…+Rk ） / k（ K表示子組數(shù)量） 7 8 X =（ X1+X2+…+Xk ） / k 9 22 計(jì)算控制限 10 計(jì)算控制限是為了顯示僅存在變差的普通原因時(shí)子組的均 11 值和極差的變化和范圍。 注： 對(duì)于還沒有計(jì)算控制限的初期操作的控制圖上應(yīng)清楚地注明“ 初始研究 ”字樣。 （ 例如：平均值圖上 1個(gè)刻度代表 ，則在極差圖上 1個(gè)刻度代表 ） 1將均值和極差畫到控制圖上 51 X 圖和 R 圖上的點(diǎn)描
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