無(wú)機(jī)化工流程專題公開課(新)(參考版)
2025-01-05 05:14本頁(yè)面
【正文】 并使一些雜質(zhì)高溫下氧化、分解 五、解題技巧與規(guī)范 ①控制溶液的 酸堿性 使其某些金屬離子形成氫氧化物沉淀 ② 蒸發(fā) 反應(yīng)時(shí)的氣體氛圍 ③ 加熱的目的 ④ 降溫反應(yīng)的目的 ⑤ 趁熱過(guò)濾 ⑥ 冰水洗滌 加快反應(yīng)速率或促進(jìn)平衡向某個(gè)方向移動(dòng) 防止某物質(zhì)在高溫時(shí)會(huì)溶解（或分解）、為使化學(xué)平衡向著題目要求的方向移動(dòng) 防止某物質(zhì)降溫時(shí)會(huì)析出 洗去晶體表面的雜質(zhì)離子，并減少晶體在洗滌過(guò)程中的溶解損耗 （ 2）控制反應(yīng)條件的方法 (3)常見名詞 浸出： 浸出率： 酸浸： 水洗： 水浸： 固體加水（酸）溶解得到離子 固體溶解后，離子在溶液中的含量的多少 (更多轉(zhuǎn)化 ) 在酸溶液中反應(yīng)使可溶性金屬離子進(jìn)入溶液，不溶物通過(guò)過(guò)濾除去的溶解過(guò)程 通常為除去水溶性雜質(zhì) 與水接觸反應(yīng)或溶解 工業(yè)流程題目在流程上一般分為 3個(gè)過(guò)程： 原料處理 分離提純 獲得產(chǎn)品 常見考點(diǎn)的整理、歸納 （ 1） .原料處理階段的常見考點(diǎn)： ①加快反應(yīng)速率 ②溶解 浸出③灼燒 焙燒 ④煅燒⑤反應(yīng)條件控制 （ 2） .分離提純階段的常見考點(diǎn)： ①調(diào) pH值除雜 ②試劑除雜 ③加熱④降溫 ⑤母液（濾液）⑥萃取 （ 3） .獲得產(chǎn)品階段的常見考點(diǎn)： ①洗滌（冰水 熱水） ②蒸發(fā)、反應(yīng)時(shí)的氣體氛圍 抑制水解 ③蒸發(fā)濃縮、冷卻結(jié)晶 ④蒸發(fā)結(jié)晶、趁熱過(guò)濾 ⑤重結(jié)晶 （ 4） .其他常見考點(diǎn)： ①方程式 ②實(shí)驗(yàn)儀器③計(jì)算 ④信息點(diǎn) 謝謝觀看 /歡迎下載 BY FAITH I MEAN A VISION OF GOOD ONE CHERISHES AND THE ENTHUSIASM THAT PUSHES ONE TO SEEK ITS FULFILL
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