核輻射測(cè)量方法考試必考點(diǎn)(參考版)
2025-06-13 00:53本頁(yè)面
【正文】 吸收介質(zhì)不同，峰值對(duì)應(yīng)能量也不同。達(dá)到“譜平衡”時(shí)，不論起始光子能量大小，射線譜的形狀是一樣的。答：變化規(guī)律如下：康普頓散射使射線能量減低，光電效應(yīng)使射線減少，通過物質(zhì)后射線譜線變復(fù)雜；確定刻度曲線（E和CH之間的數(shù)學(xué)表達(dá)式）吸收介質(zhì)厚度增加，多次康普頓散射比例增大，到一定吸收層厚度時(shí)，散射射線成為譜主要成分；隨吸收介質(zhì)厚度增加，由于多次康普頓散射比例增大，射線向低能方向聚集。簡(jiǎn)述γ射線束通過物質(zhì)時(shí)譜成分的變化規(guī)律。選擇一組不同能量范圍（高能、中能、低能范圍）的標(biāo)準(zhǔn)源（刻度源）用以確定參數(shù)a和b。? 半高寬(FWHM)：ΔE常用于分辨率較高的探測(cè)器，如半導(dǎo)體探測(cè)器? 相對(duì)半高寬(%)：常用于分辨率較低的探測(cè)器，如NaI(Tl)探測(cè)器簡(jiǎn)述如何對(duì)γ譜儀進(jìn)行能量刻度？答：步驟如下：從理論上講，E∝脈沖幅度V(t) ∝道址數(shù) CH，因此E與CH滿足正比關(guān)系：E=KCH。說明γ射線的能量分辨率的含義、常用表達(dá)方式。軔致輻射的能量是連續(xù)分布的。這個(gè)光電峰稱為湮沒輻射峰。由于反散射光子的能量隨入射光子能量變化不大，反散射峰通常在200keV左右。它們進(jìn)入晶體被吸收會(huì)使康普頓坪區(qū)的計(jì)數(shù)增加。在低能γ或X射線強(qiáng)度測(cè)量中，這種輻射不容忽略。干擾輻射的影響主要包括：特征X射線：許多放射源本身有特征X射線放出，X射線也可以是γ射線和周圍介質(zhì)的原子發(fā)生光電效應(yīng)引起的。邊緣效應(yīng)：γ光子轉(zhuǎn)移給次級(jí)電子的動(dòng)能在一般情況下都被晶體所吸收。若光電效應(yīng)在靠近晶體表面處產(chǎn)生，則該特征X射線有可能逸出，使晶體內(nèi)沉淀的能量比入射光子能量小，其差為特征X射線的能量。特征X射線逃逸：當(dāng)γ光子在晶體中發(fā)生光電效應(yīng)時(shí)，原子的相應(yīng)殼層上將留一空位。在響應(yīng)能譜曲線上，這樣一些事件聚集在雙逃逸峰和全能峰之間。多次康普頓散射事件導(dǎo)致多次反沖電子的總能量在探測(cè)器中沉淀的能量大于單次散射的最大值，這些多次散射事件可能部分地填充在康普頓邊緣和全能峰之間的空隙。當(dāng)入射γ光子與探測(cè)器發(fā)生電子對(duì)效應(yīng)時(shí)，如果一對(duì)湮沒光子逃逸而未相互作用，將在能譜上比全能峰低2 m0c2()的能量處產(chǎn)生雙逃逸峰。全能峰中包含光電效應(yīng)及多次效應(yīng)的貢獻(xiàn)。，并進(jìn)行相應(yīng)說明。峰D是X射線峰，它是由137Ba的K層特征X射線貢獻(xiàn)的。當(dāng)然，在放射源襯底材料中，以及探頭的屏蔽材料中產(chǎn)生的反散射光子同樣有可能對(duì)反散射峰作出貢獻(xiàn)。當(dāng)γ射線射向閃爍體時(shí)，總有一部分γ射線沒有被閃爍體吸收而逸出。平臺(tái)狀曲線B就是康普頓散射效應(yīng)的貢獻(xiàn)，它的特征是散射光子逃逸后留下一個(gè)能量從0到的連續(xù)的電子譜。這一脈沖幅度直接反映入射γ射線的能量。如右圖所示，譜線上有三個(gè)峰和一個(gè)平臺(tái)。試畫出137Cs伽瑪射線源在NaI(Tl)閃爍體作為探測(cè)器對(duì)應(yīng)的儀器譜，并解釋各譜峰的形成機(jī)理?？梢姡害蒙渚€能量E（對(duì)應(yīng)核素）：E∝脈沖幅度V(t) ∝道址數(shù) CH，即γ射線的能量用儀器譜的道址來(lái)表征。第五章 γ射線測(cè)量方法請(qǐng)闡述儀器譜如何表征伽瑪射線的“能量”和“照射量率”？入射γ光子與探測(cè)器物質(zhì)作用，將能量全部沉積在探測(cè)器中，γ譜儀將γ光子的能量轉(zhuǎn)換成與之成正比的電壓脈沖信號(hào)，并通過模數(shù)轉(zhuǎn)換成與電壓幅度對(duì)應(yīng)的數(shù)字信號(hào)，存儲(chǔ)到對(duì)應(yīng)的道址中。測(cè)氡儀的標(biāo)定方法：循環(huán)法、真空法、自由擴(kuò)散法?；疃鹊偷目裳娱L(zhǎng)至30min或1h，甚至更長(zhǎng)。⑶ 為了消除218Po的影響，將銅片放置30min后，等218Po衰變完后進(jìn)行測(cè)量，以避
教學(xué)教案相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1