氣體探測(cè)器發(fā)展ppt課件(參考版)
2025-05-07 03:28本頁(yè)面
【正文】 鋁場(chǎng)絲 的蠕變問(wèn)題需仔細(xì)對(duì)待。 ? 多次散射主要是在 絲 和工作 氣體 中產(chǎn)生。 ? 間距小，減小了電離束團(tuán)漂移時(shí)間，時(shí)間分辨好。 ? 輸出信號(hào)在入射角 40176。當(dāng)間距變化 ，輸出脈沖無(wú)變化。 得到廣泛應(yīng)用 40 ARGOYBJ， “ 地毯 ” ： 每個(gè) RPC單元： ? 128m?128m 分 44行， 110列 BaBar BESIII， ?探測(cè)器 ? 用 50?m的膜代替亞麻油，平整度高且體電阻可調(diào) ?從目前的模型試驗(yàn)情況和批量生產(chǎn)情況看，性能上已處于國(guó)際領(lǐng)先水平?？啥S讀出 37 二、 MRPC ? 小氣隙，時(shí)間快，探測(cè)效率低； 大氣隙，信號(hào)小，時(shí)間慢 多隙 RPC （ MRPC） ? 粒子在各間隙獨(dú)立雪崩，信號(hào)等于各雪崩效應(yīng) “ 瞬時(shí) ” 疊加。使雪崩放電限制在幾 mm2的范圍，其余部分仍處于工作狀態(tài)。 36 阻性板室 RPC RPC (Resistive Plate Chamber) 一、結(jié)構(gòu)和工作原理 ? 由兩塊平行的阻性板（ 10101012 ? cm）組成 ? 阻性板材料一般為玻璃或電木板，內(nèi)表面覆亞麻油或脒胺膜。 ? M~5x104 ? 探測(cè)效率 90% （小氣隙） 適合高粒子通量、要求能快速響應(yīng)和適中的能量分辨處，如對(duì)撞點(diǎn)的小角度區(qū)。 上升時(shí)間 ~1ns，脈沖寬度 ~5ns ? 高計(jì)數(shù)率限 106mm－ 2s－ 1 ? 因氣體放大倍數(shù)與電離產(chǎn)生的位置有關(guān)，離陽(yáng)極越遠(yuǎn)則越高，但總輸出信號(hào)與帶電粒子的總能量沉積仍近似有正比關(guān)系。整個(gè)氣體體積內(nèi)具有高的均勻電場(chǎng)，任何一點(diǎn)都能立即發(fā)生雪崩倍增。電極的內(nèi)表面及分割電極形成間隙的墊片的平整度均 5 ?m ? 間隙為 12mm，電極尺寸一般為 60x60mm2 。 34 平行板室 PPC PPC (Parallel Plate Chamber) 一、 結(jié)構(gòu)和工作原理 ? 由兩個(gè)平行的平面電極組成的單間隙氣體探測(cè)器 。 陰極條室 CSC CSC (Cathode Strip Chamber) 漂移室不適于端蓋，特別是前向區(qū)（布絲困難、高計(jì)數(shù)率）。 二、性能 ? 較高的空間定位精度 ? 沿絲方向 65?m（ 3根陰極條感應(yīng)信號(hào)） ? 垂直絲方向 150200 ?m（漂移時(shí)間） ? 造價(jià)比漂移室便宜 33 ? 陰極條讀出的 MWPC ? 感應(yīng)電荷重心法定位置 固有 位置分辨取決于信噪比和陰極條信號(hào)讀出寬度。這些單元疊在一起就形成堅(jiān)挺的蜂巢室。 32 蜂巢室 HSC HSC (Honeyb Strip Chamber ) 一、 結(jié)構(gòu) ? 室體由聚碳酸酯箔組成。除了提高磁場(chǎng)強(qiáng)度外，需要粒子的測(cè)量長(zhǎng)度也越長(zhǎng)，探測(cè)器的體積越來(lái)越龐大。 ? MGD探測(cè)器除時(shí)間響應(yīng)稍差之外，保持了像 MSGC或 MGC的優(yōu)點(diǎn) :單一的氣隙，單極的放大，簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，簡(jiǎn)單的電壓供給，高的收集效率等，而且還有自己獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)，例如很好的二維讀出，較大的規(guī)模，牢靠，堅(jiān)固，工藝較簡(jiǎn)單（不需專門的微電子技術(shù)）等。 ? 兩電極的間隙增加到 50 ?m，從而導(dǎo)致有較大的氣體放大倍數(shù) 。 ? 最快的信號(hào)是 MGC，其次是 MSGC，而最慢的是 MGD的信號(hào)。 MGD恢復(fù)快。 短期穩(wěn)定性：在高增益的情況下，當(dāng)計(jì)數(shù)率較高時(shí)，開(kāi)始工作的幾十秒內(nèi)會(huì)出現(xiàn)氣體增益的下降，而且下降較快，在以后時(shí)間里則下降緩慢。 30 二、性能 ? 陽(yáng)極，陰極同時(shí)得到大小幾乎一樣的信號(hào)，只是極性不一樣，有利于二維讀出 ? M= 104 ，增益的均勻性受 kapton膜的厚度均勻性的影響。上、下兩層的金屬微條分別是微槽的陰陽(yáng)兩極，其氣體放大是在Kapton膜的微槽內(nèi)。 28 微隙室
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