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地震資料解釋第四章(參考版)

2025-05-03 22:36本頁(yè)面
  

【正文】 ? 形成斷層封閉(有一定條件的); ? 一般逆斷層的斷面具有封閉性質(zhì); ? 正斷層的斷面具有開啟性質(zhì),是油氣運(yùn)移的通道。 ? 4) 油氣圈閉類型 :使油 、 氣圈閉起來 , 形成油氣藏 。 ? 3) 蓋層和底層 : 石油和天然氣在儲(chǔ)油層富集的過程 ,須有不滲透層加以保護(hù) , 避免受到風(fēng)化或破壞 , 否則也不能形成油 、 氣藏 。 2) 儲(chǔ)油層 :油氣要富集起來 , 必須要有較好的孔隙性和滲透性的巖層 , 如粗砂巖 、 砂礫巖等 。 2. 對(duì)構(gòu)造含油氣遠(yuǎn)景的評(píng)價(jià) ? 對(duì)發(fā)現(xiàn)的若干局部構(gòu)造 , 進(jìn)行含油氣遠(yuǎn)景評(píng)價(jià) , 提供鉆探井位 。 其形成一般受主要斷裂 控制 。 ? ③ 構(gòu)造帶 ( 斷裂構(gòu)造帶 ) 的劃分 。 二 、 地震構(gòu)造的地質(zhì)解釋 1. 構(gòu)造 、 斷裂要素的確定和斷裂構(gòu)造帶的劃分 ? ① 斷裂要素的確定 ( 斷層名 、 級(jí)別 、 性質(zhì) 、 走向 、 斷面傾角 , 斷開的層位及時(shí)代 、 落差 、 可靠程度等 ) 。 ? ③ 如果隨著遠(yuǎn)離背斜頂部地層厚度加大 , 說明在地層沉積同時(shí)有構(gòu)造發(fā)生 , 這對(duì)油氣聚積有利 。 2. 等厚度圖的解釋 ? ① 某一方向厚度增大 , 則可推斷沉積物來源方向 。 在這兩張圖的一系列等值線交點(diǎn)上 ,計(jì)算深度差 , 將這些差寫在另一張平面圖的相應(yīng)位置上 ,繪出視厚度等值線 , 便得等厚度圖 。 不是真厚度 。 特立尼達(dá)海上水平切片,間隔8ms 四、特殊地質(zhì)現(xiàn)象在水平切片上的反映 隱蔽構(gòu)造特征的識(shí)別 隱蔽斷層 橫向測(cè)線 45,顯示了其隱蔽斷層 構(gòu)造等值線圖,顯示了其隱蔽斷層 一 、 等厚度圖的繪制 1. 繪制方法 ? 等厚圖 :表示兩個(gè)地震層位之間沉積厚度的平面圖 。 最后一副圖為該層位的原始等值圖 。 ?左圖 說明由一系列水平切片直接劃出等值線的簡(jiǎn)單練習(xí) 。 ? 在等時(shí)切片上拾取同相軸的相位應(yīng)和垂直剖面的相位一致 , 并且所有的等時(shí)線都在相同的相位上拾??; ? 下圖展示了 4ms間距的三個(gè)水平切片 。 ? 振幅發(fā)生突變,即在水平切片上同相軸的寬度發(fā)生突變; ? 同相軸突然拐彎; ? 相鄰兩組同相軸走向不一致。 二、斷層在水平切片上的反映 ? 利用水平切片繪制等 t0圖,首先要對(duì)水平切片進(jìn)行解釋;即在水平切片上識(shí)別和追蹤各反射層的同相軸(也稱能量團(tuán)),以及在一系列的等時(shí)切片上追蹤同一反射層的同相軸。 ? 可以沿任意方向觀察地質(zhì)現(xiàn)象 , 例如沿著斷層 、 順著傾向 、 俯視地塹 、 環(huán)顧鹽丘等進(jìn)行觀察 , 可辯別出單張剖面上難以發(fā)現(xiàn)的細(xì)微地層特征 。 ? 等時(shí)線 反映的是同一地震界面不同時(shí)間的等值線; ? 水平切片包含的地質(zhì)信息有: ? ① 反射層的走向 ( 水平切片上同相軸的延伸方向 ) ; ? ② 反射界面的厚度; ? ③ 反射界面的傾角; ? ④ 斷層和其他地質(zhì)界線的交線 。 圖上每個(gè)能量帶就是同一時(shí)刻的各個(gè)同相軸的水平范圍 。 ? 等時(shí)切片: 以某個(gè)固定的時(shí)間值切割三維數(shù)據(jù)體所得到平面圖形 。 ( 1) 切片顯示 ? 三維數(shù)據(jù)體可被垂直地或水平地切割出各種二維剖面 。將三維數(shù)據(jù)體輸入計(jì)算機(jī)內(nèi)建立數(shù)據(jù)庫(kù) , 有多種顯示方案 。 處標(biāo)出真深度值H 。 ?可先將相應(yīng)的水平疊加剖面的層位閉合 , 然后再在二維偏移剖面上分別找出這些層位和相位 , 達(dá)到層位和相位統(tǒng)一 。 ?主測(cè)線一般都是垂直構(gòu)造走向 , 主測(cè)線應(yīng)進(jìn)行偏移歸位 。 a o q t0 t0dt dx t0dt t0 dx dh φ 二 、 用偏移歸位剖面作圖的交點(diǎn)閉合方法 ? 首先進(jìn)行二維偏移時(shí)間剖面的層位閉合和相位統(tǒng)一。 第三節(jié) 用二維偏移時(shí)間剖面直接作構(gòu)造圖 一、用二維偏移剖面直接作構(gòu)造圖的空間校正原理 ? 校正可分兩步進(jìn)行(見圖) : ? ① 從 o點(diǎn)沿測(cè)線方向(X)校正 a點(diǎn);對(duì)疊偏剖面,已
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