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vd鍍金基礎(chǔ)知識(shí)ppt課件(參考版)

2025-01-20 15:26本頁(yè)面
  

【正文】 ? (此處省略 400字,因?yàn)槲覀兊漠a(chǎn)品主要是 PVD處理,所以 CVD就不多講了,有興趣的童鞋們,可以自己去找相關(guān)資料學(xué)習(xí)。 真空鍍膜技術(shù) (也稱氣相沉積技術(shù)) 物理氣相沉積 (PVD) 化學(xué)氣相沉積 (CVD) 真空蒸發(fā)鍍膜 真空濺射鍍膜 真空離子鍍膜 我們所說的 PVD 處理就用它了! 離子鍍?cè)?:當(dāng)真空室抽到 10 Pa左右的真空度以后,通過充氣系統(tǒng)向室內(nèi)通入氬氣使其室內(nèi)壓強(qiáng)達(dá)到 1~10 Pa,這時(shí)當(dāng)基體相對(duì)蒸發(fā)源加上負(fù)高壓之后,基體與蒸發(fā)源之間形成一個(gè)等離子區(qū),處于高壓的基體被等離子包圍,不斷地受到等離子體中的離子沖擊,與此同時(shí)靶材蒸氣粒子受到等離子體中正離子的碰撞,其中一部分被電離成正離子,正離子在負(fù)高壓的作用下,被吸附到基體上成膜。我們通常說所的 PVD鍍金,就是采用離子鍍膜技術(shù)。 PVD:是
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