vd鍍金基礎(chǔ)知識ppt課件(留存版)
【正文】 真空鍍膜方法 原理 ：在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)（或濺射），使其在被涂覆的物體（稱為基板、基塊或基體）上凝固、沉積的方法就叫真空鍍膜。 因其 鍍 膜原理的特性不一 樣 ，人 們 也 會 把 電鍍 及化 學(xué)鍍 膜法稱為濕 式 鍍 膜技 術(shù) ；而 真 空 鍍膜被人 們稱為 干式 鍍 膜技 術(shù) 。 真空條件下的鍍膜與基體附著力（結(jié)合力）好、強度高，所以鍍出來的膜層比濕式鍍膜牢固性好。 大致分流的話，用副 “ 架構(gòu)圖 ” 會比較直接的看清楚。 缺點 ：基體必須是電的良導(dǎo)體、膜層厚度難以控制，且生產(chǎn)過程會產(chǎn)生大量廢液造成環(huán)境污染。 PVD：是指在真空條件下，采用低電壓、高電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使鍍料（ 靶材 ）發(fā)生電離，再使鍍材氣化成原子、分子直接沉積到基體表面的方法。 ? （此處省略 400字，因
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1