【正文】 時(shí)，按鉛直面繪制，即頂寬為設(shè)計(jì)頂寬或平均值，高為設(shè)計(jì)高或平均值④ 坑道壁斜度＜75176。在繪制坑道輪廓前，先應(yīng)丈量坑道規(guī)格和測(cè)定坑壁的傾斜角度，有下面四種情況：① 頂寬和高的規(guī)格與設(shè)計(jì)一致或相差不大時(shí)，輪廓圖按設(shè)計(jì)規(guī)格繪制。樣槽方向由編錄人員用羅盤(pán)測(cè)定，當(dāng)坑道壁平整時(shí)，樣槽方向與基線(xiàn)方向一致，如樣品段出現(xiàn)凸出石包或凹形洼坑時(shí)，樣槽方向與所在基線(xiàn)方向出現(xiàn)差異。考慮到樣品代表性及不同礦石的可采厚度，布樣時(shí)一般應(yīng)遵循以下原則：a. 同一件樣不得跨越不同礦種或不同礦層（圖4－12）b. 同一件樣不得跨越不同礦石自然類(lèi)型及工業(yè)品級(jí)（圖4－13） c. 礦石中夾石剔除原則：礦石中夾石厚度≥剔除厚度時(shí)，單獨(dú)采樣（圖4－14a）。如1號(hào)穿脈坑道中第5號(hào)化學(xué)樣編號(hào)為CM1H5。1) 化學(xué)分析樣布樣① 采樣目的層a. 含礦層或礦層全段連續(xù)取樣b. 礦層（含礦層）頂?shù)装逡话愀鞑?－2件樣品② 布樣位置坑道中的化學(xué)分析樣要求用刻槽法取樣，因此要求化學(xué)樣品的布置一般應(yīng)布置在主編錄壁上，樣品距底板高度以采樣操作方便為原則。4 坑道地質(zhì)編錄中的布樣由于坑道施工的目的不同，有追索控制礦體而施工的坑道，有檢查鉆孔質(zhì)量而施工的坑道、也有專(zhuān)為采集大樣的坑道．．．．．等。在具體編錄中無(wú)論是文字記錄或是作圖，都要求對(duì)單元地層中出現(xiàn)的不同巖性的巖層，厚度只要在圖上大于1mm，長(zhǎng)度大于3mm，都要進(jìn)行劃分。每段基線(xiàn)編錄應(yīng)分段進(jìn)行，通常從坑口基點(diǎn)往坑內(nèi)第一個(gè)中線(xiàn)樁之間，作為第一段首先編錄，記錄成0－1站；從第一中線(xiàn)樁至第二中線(xiàn)樁之間，作為第二段（基線(xiàn)），記錄1－2站；第二中線(xiàn)樁至第三中線(xiàn)樁之間，作為第三段，記錄2－3站；依次類(lèi)推。布置基線(xiàn)時(shí)要求：① 有測(cè)量?jī)x器測(cè)定的中線(xiàn)樁時(shí)，基線(xiàn)（皮尺距離）距離與兩中線(xiàn)樁測(cè)定的距離相符若有差異可以拉緊或放松皮尺來(lái)吻合?？拥乐袥](méi)有測(cè)量測(cè)定的中線(xiàn)樁時(shí)，地質(zhì)人員則自行設(shè)定?？涌诘幕c(diǎn)，是坑道的起點(diǎn)，又是坑道的坐標(biāo)點(diǎn)。5) 坑道施工坡度改變時(shí)，也要分段編錄，如平坑改為斜坑或斜坑改為平坑，編錄只需在變化的位置注明坡度角即可。之內(nèi)時(shí)，素描圖繪制不作特殊要求，連續(xù)繪制，在導(dǎo)線(xiàn)起點(diǎn)標(biāo)明方向即可。若礦體形態(tài)簡(jiǎn)單、組份均勻、兩壁變化不大時(shí)，也可只繪制一壁一頂，沿脈坑道要按設(shè)計(jì)要求，按一定間距制作掌子面素描圖。在驗(yàn)收中還應(yīng)檢查坑道規(guī)格是否與設(shè)計(jì)相符，檢查頂和壁是否平整，以便及時(shí)處理。四 坑道地質(zhì)編錄方法和要求(一) 編錄程序坑道施工和地質(zhì)編錄一般可照以下順序反復(fù)進(jìn)行：坑道掘進(jìn)→地質(zhì)綜合觀(guān)察、分層、布樣、標(biāo)本采集→刻槽采樣→投影作圖、文字記錄→繼續(xù)掘進(jìn)。(二) 物資準(zhǔn)備1 工具、材料 羅盤(pán)、地質(zhì)錘、放大鏡、小圖板、講義夾、三角板、量角器、鉛筆、鋼卷尺、皮尺、木樁、鐵釘、垂球、照明設(shè)備、紅白油漆、毛筆、作圖用計(jì)算紙、樣品袋、包裝紙等。穿脈坑道常與礦層傾向一致，沿脈坑道常與礦層走向一致。有時(shí)在礦產(chǎn)普查階段也布置坑道，進(jìn)行邊探邊采。b1點(diǎn)為圓井壁上采的薄片樣。自A點(diǎn)（零米）鉛直懸掛皮尺（AA`）即為基線(xiàn)。圓井展開(kāi)圖中AB壁、BC壁長(zhǎng)度是由AB、BC弧經(jīng)過(guò)計(jì)算得到。這時(shí)，小園井也要求取樣（刻槽樣）。施工深度不得超過(guò)5m。樣品成果報(bào)告冊(cè)（分化學(xué)樣、鑒定樣、小體重樣等）。登記：對(duì)采集的各類(lèi)樣品，分類(lèi)登記在“坑探工程標(biāo)本、樣品采樣記錄表（DZ／T0078－93）”表A6上。核對(duì)內(nèi)容應(yīng)從井口開(kāi)始逐層進(jìn)行，有界線(xiàn)井深、礦層井深、斷層井深、巖性與花紋、樣品井深及編號(hào)，產(chǎn)狀位置及數(shù)據(jù)等是否吻合，如有差錯(cuò)，及時(shí)查找原因進(jìn)行修正。配齊井下作業(yè)所需的安全裝備如安全帽等。物理樣：在探礦工程中采物理樣，常有巖礦石標(biāo)本、薄片樣、光片樣，小體重樣、光譜樣等。當(dāng)即第一壁方向垂直勘查線(xiàn)時(shí)，樣槽布置在第一壁和第三壁上；若第一壁方向平行勘查線(xiàn)時(shí)，樣槽布置在第二壁和第四壁上。例如描述礦層（體），要抓住礦石特征，重點(diǎn)記錄反映礦石成因的特征和現(xiàn)象。第一壁刻槽樣H1（～）H2 （～）第二壁標(biāo)本b1（）b2（）產(chǎn)狀130176。0～：第四系浮土碎石層～：紫紅色中厚層狀長(zhǎng)石細(xì)砂巖．．．．．。4）投影作圖――編繪淺井素描草圖按照點(diǎn)投影、線(xiàn)投影的方法和要求，對(duì)淺井編錄壁（兩壁或四壁）上各分層界線(xiàn)、礦層（體）界線(xiàn)，斷層線(xiàn)等以及樣品、標(biāo)本、產(chǎn)狀位置等地質(zhì)現(xiàn)象進(jìn)行投影，同時(shí)將投影點(diǎn)展繪到空白圖相應(yīng)位置上，然后連接相同性質(zhì)投影點(diǎn)構(gòu)成各類(lèi)界線(xiàn)，標(biāo)注樣品標(biāo)本號(hào)、產(chǎn)狀數(shù)據(jù)等。2）布設(shè)基點(diǎn)（木樁）、基線(xiàn)。㈡ 淺井原始地質(zhì)編錄分段編錄要求淺井在施工進(jìn)程中為防止松散層垮塌，往往需要架箱支護(hù)，因此地質(zhì)編錄應(yīng)隨著施工進(jìn)度分段進(jìn)行。也可從E點(diǎn)或F點(diǎn)按界線(xiàn)走向直接繪制。，（A1點(diǎn)位置） O1點(diǎn)。① 點(diǎn)投影方法與作圖：淺井底面任一投影點(diǎn)，可向井底任意一邊作垂直投影交于底邊上一點(diǎn)，則該交點(diǎn)到底邊端點(diǎn)距離和該交點(diǎn)到投影點(diǎn)距離即為投影點(diǎn)的兩個(gè)平面座標(biāo)數(shù)值。淺井立體圖中，ABCD是巖層分界面，投影素描分層界線(xiàn)時(shí)，只需要投影A、B、C、D四個(gè)點(diǎn)垂直坐標(biāo)即可，因?yàn)锳、B、C、D四點(diǎn)分別位于淺井四壁的交線(xiàn)上，它們的水平坐標(biāo)均可視為零值（圖3－16a）用點(diǎn)的投影方法，A、B、C、D四點(diǎn)的坐標(biāo)為：；；；。b1位置投影， A點(diǎn)處。基線(xiàn)自基點(diǎn)0點(diǎn)（起點(diǎn)）呈鉛直布設(shè)。2）淺井壁展開(kāi)方法淺井形態(tài)有正方形和長(zhǎng)方形兩種，～，四壁展開(kāi)應(yīng)根據(jù)淺井長(zhǎng)，寬規(guī)格作展開(kāi)輪廓圖。各礦區(qū)應(yīng)作統(tǒng)一規(guī)定。素描圖比例尺：按地質(zhì)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，淺井用于揭露礦層（體）或地質(zhì)界線(xiàn)時(shí)，素描圖比例尺為1：100，而對(duì)某些有特殊要求的礦種和地質(zhì)現(xiàn)象，可在設(shè)計(jì)書(shū)中規(guī)定放大到1：50。㈡ 表格坑探工程概況表（DZ／T0078－93）表A3坑探工程基點(diǎn)基線(xiàn)記錄表（DZ／T0078－93）表A4坑探工程原始地質(zhì)記錄表（DZ／T0078－93）表A5坑探工程標(biāo)本樣品采樣記錄表（DZ／T0078－93）表A6坑探工程地質(zhì)綜合表（DZ／T0078－93）表A7標(biāo)本簽樣品簽㈢ 人員一個(gè)編錄組一般由2－3人組成。淺井工程施工的主要目的與坑探工程一致。：測(cè)手將槽底上的各編錄要素點(diǎn)先按地質(zhì)走向投到槽底與槽壁交界處，然后再垂直投到基線(xiàn)上報(bào)出該點(diǎn)在基線(xiàn)上的一個(gè)讀數(shù)點(diǎn)（X坐標(biāo)），作圖員即可將該點(diǎn)自基線(xiàn)上投影到槽底圖上將地質(zhì)體、樣品等繪出(因槽底為平面圖，故無(wú)Y坐標(biāo)點(diǎn))（示意圖3－11）。a點(diǎn)距導(dǎo)線(xiàn)的垂距aa`（），則a點(diǎn)的X坐標(biāo)＝。使用礦區(qū)統(tǒng)一圖例。這時(shí)要注意各段之間的地質(zhì)要素應(yīng)嚴(yán)格扣合）（圖3－8）。②探槽方向變化的方位差大于等于15176。槽壁、槽底在素描圖上的位置：編錄壁按比例縮小后繪于素描圖的上方，槽底繪于圖的下方，與槽壁之間應(yīng)留1cm以上間隔（以便標(biāo)注產(chǎn)狀、樣號(hào)等），槽底按正投影繪成等寬的條帶狀，；局部地段遇特殊情況，需加繪另一槽壁時(shí)則展開(kāi)投繪在槽底的下方，如圖3－5。操作方法：在基點(diǎn)處打上編好號(hào)的基線(xiàn)樁，然后用皮尺拉緊固定在兩個(gè)基線(xiàn)樁上部就成為基線(xiàn)，第一條基線(xiàn)起點(diǎn)為零。樣樁布設(shè)方法：打樣樁時(shí)注意每一段樣可能是一件，也可以是幾件連續(xù)樣，起、止端都應(yīng)有樣樁，但幾件樣首尾相連時(shí)，其中間各樣起止編號(hào)可共用一個(gè)樣樁，兩面各編寫(xiě)樣號(hào)（如圖3－3）。當(dāng)?shù)V體與圍巖有明顯區(qū)別，礦體厚度較大，礦石類(lèi)型較簡(jiǎn)單，礦化均勻，則樣長(zhǎng)可放大。確定基巖面：壁上的基巖高度應(yīng)不少于30cm，通過(guò)觀(guān)察，正確判斷殘坡積物與風(fēng)化基巖的界線(xiàn)。四、野外編錄㈠ 觀(guān)察、分層、布樣首先，由組長(zhǎng)帶領(lǐng)編錄人員共同觀(guān)察擬編錄探槽中的地質(zhì)現(xiàn)象（必要時(shí)還應(yīng)觀(guān)察探槽附近有關(guān)地質(zhì)現(xiàn)象），確定編錄壁及基巖面、分層并布樣。如圖3－1。座標(biāo)紙長(zhǎng)度（m）例：擬編錄探槽長(zhǎng)120m，作圖比例尺1：100，則張數(shù)＝120m1／100247。采樣工：由熟練的采樣工擔(dān)任。作圖員：一般由熟悉探槽編錄繪圖工作的技術(shù)人員擔(dān)任。三、室內(nèi)準(zhǔn)備工作㈠ 組成編錄組槽探編錄組一般由3－4人組成：組長(zhǎng)、作圖員、測(cè)手（有時(shí)可由其他人員兼任）、采樣工。記錄時(shí)用防水墨水或2H繪圖鉛筆。編錄的文、圖必須吻合一致，整潔、美觀(guān)、字跡工整，字體規(guī)范。記錄現(xiàn)場(chǎng)的觀(guān)察研究手段（數(shù)字、文字、圖象、磁帶、磁盤(pán)等）。探槽原始地質(zhì)編錄的對(duì)象是經(jīng)地質(zhì)、施工管理及施工人員三方現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)收，施工質(zhì)量符合要求并已達(dá)到地質(zhì)目的的探槽，及樣溝（實(shí)景）、剝土（實(shí)景）、采場(chǎng)（實(shí)景）以及其它的天然露頭點(diǎn)（實(shí)景）。巖礦石標(biāo)本（實(shí)物）。五、地質(zhì)填圖提資料㈠ 項(xiàng)目：地質(zhì)填圖工作總結(jié)。實(shí)際材料圖展繪方法與要求展繪工作一般由兩人對(duì)照進(jìn)行，一個(gè)負(fù)責(zé)丈量手圖座標(biāo)數(shù)據(jù)，一人負(fù)責(zé)實(shí)際材料圖（地形圖）的坐標(biāo)上點(diǎn)連線(xiàn)等工作。㈢ 實(shí)際材料圖要求實(shí)際材料圖必須在野外填圖期間逐步完成，以保證填圖中出現(xiàn)的遺漏、錯(cuò)誤、爭(zhēng)議等能在野外得到彌補(bǔ)，修正和統(tǒng)一。2）用DZ／T0078－93“地表及坑探工程標(biāo)本樣品采樣登記表”分別進(jìn)行標(biāo)本、樣品登記。一般要求在填圖過(guò)程中圖切一系列不同方向，長(zhǎng)度的短剖面，在填圖結(jié)束后圖切1－2條垂直巖層走向貫穿全礦區(qū)的橫剖面和圖切1－2條沿巖層走向或斜交巖層走向貫穿全礦區(qū)的縱剖面。檢查完善表格中素描圖并成圖。四、地質(zhì)填圖的室內(nèi)資料整理㈠ 地質(zhì)填圖野外工作期間資料整理主要包括有：觀(guān)察點(diǎn)路線(xiàn)記錄表的文字及素描圖整理、手圖整理、標(biāo)本樣品整理及音像資料整理。采樣方法用刻槽法，刻槽規(guī)格按礦區(qū)規(guī)定或根據(jù)礦種確定。地質(zhì)點(diǎn)上及附近的標(biāo)本編號(hào)為：地質(zhì)點(diǎn)號(hào)+標(biāo)本代號(hào)＋標(biāo)本順序號(hào)，如D21號(hào)地質(zhì)點(diǎn)的薄片標(biāo)本編號(hào)為D21BD21B2。鑒定標(biāo)本采集，一式兩塊、一塊送鑒定、一塊留作實(shí)物上交。將相鄰兩點(diǎn)自然連接而成界線(xiàn)；進(jìn)行較小比例尺填圖時(shí)（如1：10000），相鄰兩點(diǎn)距離較遠(yuǎn)，兩點(diǎn)間又可能有沖溝或山脊出現(xiàn)，勾繪連接界線(xiàn)時(shí)，應(yīng)根據(jù)巖層（斷層）產(chǎn)狀、地形特征運(yùn)用“V”字型法則進(jìn)行。地質(zhì)界線(xiàn)勾繪要求地質(zhì)界線(xiàn)（斷層線(xiàn)）在野外實(shí)際勾繪，不允許在室內(nèi)回憶勾繪。編號(hào)方法是地質(zhì)點(diǎn)號(hào)、標(biāo)本（樣品）代號(hào)、標(biāo)本（樣品）的順序號(hào)依次連接而成。必要時(shí)可作路線(xiàn)剖面圖或平面圖表示地質(zhì)體形態(tài)特征和變化規(guī)律。但應(yīng)強(qiáng)調(diào)，第一，記錄的地質(zhì)現(xiàn)象要有準(zhǔn)確位置（與觀(guān)察點(diǎn)有對(duì)應(yīng)的方位和平距）。如有4個(gè)組，則一組用1－99號(hào)的單號(hào)，二組用2－100號(hào)的雙號(hào)，三組用101－199內(nèi)的單號(hào)，四組用102－200內(nèi)的雙號(hào)。例如DD2 、D3．．．．表示1號(hào)觀(guān)察點(diǎn)、2號(hào)觀(guān)察點(diǎn)、3號(hào)觀(guān)察點(diǎn)。礦區(qū)代號(hào)由地質(zhì)大隊(duì)在礦區(qū)設(shè)計(jì)中規(guī)定。某基性超基性巖風(fēng)化土壤呈黃綠色或翠綠色等。推測(cè)地質(zhì)點(diǎn)是因第四系或植被掩蓋無(wú)基巖出露推測(cè)布置的觀(guān)察點(diǎn)。反之，定位的精度要求可相應(yīng)放寬。c. 地物地貌定位：利用地形圖（手圖）和實(shí)地能對(duì)應(yīng)的房屋、道路、獨(dú)立樹(shù)，斷崖、沖溝等地物地貌特征定位方法。）和空心小園（○）分別表示實(shí)測(cè)和推測(cè)的地質(zhì)點(diǎn)。切忌機(jī)械地等距離布置觀(guān)察點(diǎn)。3）觀(guān)察點(diǎn)密度及數(shù)量① 觀(guān)察點(diǎn)布置的密度及數(shù)量是根據(jù)填圖比例尺大小、構(gòu)造復(fù)雜程度、基巖出露情況、自然地理?xiàng)l件等因素確定。② 二類(lèi)：加密觀(guān)察點(diǎn)：為進(jìn)一步控制地質(zhì)界線(xiàn)和構(gòu)造形態(tài)的變化，同時(shí)滿(mǎn)足觀(guān)察點(diǎn)密度要求，在基本觀(guān)察點(diǎn)之間沿地質(zhì)界線(xiàn)加密布置的觀(guān)察點(diǎn)。2）地質(zhì)觀(guān)察點(diǎn)分類(lèi)：根據(jù)觀(guān)察點(diǎn)所具有的地質(zhì)意義，分為三類(lèi)。見(jiàn)下圖（2－1）：3）追索法選擇標(biāo)志層、含礦層或礦體、蝕變帶，主要斷裂帶等采用沿走向追索填圖。1）實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面展繪在手圖上，展繪方法：將剖面起點(diǎn)確定在手圖上，再根據(jù)剖面的每一條基線(xiàn)的方位角、平距逐條繪出，最后形成一條折線(xiàn)，這條折線(xiàn)就是實(shí)測(cè)剖面導(dǎo)線(xiàn)(基線(xiàn))在手圖上的水平投影線(xiàn)。要求用地質(zhì)觀(guān)察點(diǎn)和觀(guān)察線(xiàn)相結(jié)合的形式編錄，必要時(shí)輔以少量探礦工程（如剝土、槽探、圓井等）揭露，將地質(zhì)界線(xiàn)等要素填繪在填圖手圖（地形圖）上。三、地質(zhì)填圖程序和方法㈠ 填圖所需的工具、用品及人員組織工具、用品；填圖一般應(yīng)配備的工具及用品有：觀(guān)察點(diǎn)路線(xiàn)記錄表或野外記錄本、手圖（與填圖比例尺相同或更大的地形圖）、標(biāo)本簽、樣品簽、地質(zhì)包、文件夾、釘錘、羅盤(pán)、放大鏡、照相機(jī)、文具盒、鉛筆、三角板、量角器、鋼卷尺、木樁或竹樁、三角形小紅旗、紅油漆、白色膠布卷、棉紙、標(biāo)本袋等。㈢ 實(shí)測(cè)地質(zhì)剖面正式填圖前必須實(shí)測(cè)礦區(qū)完整地質(zhì)剖面1－3條，目的是查明礦區(qū)內(nèi)地層層序、接觸關(guān)系、巖石類(lèi)型、厚度、巖性、化石、礦產(chǎn)、標(biāo)志層、變質(zhì)作用、侵入體等。踏勘路線(xiàn)選擇盡可能通過(guò)測(cè)區(qū)主要地層、主要構(gòu)造（褶皺、斷層）、巖體、礦體（層）。收集測(cè)區(qū)內(nèi)物化探、重砂、航片等資料。如果有包括測(cè)區(qū)的小比例尺地質(zhì)圖（1：10萬(wàn) 或 1：20萬(wàn)等）也應(yīng)收集。為探礦工程布置、儲(chǔ)量計(jì)算，為礦山設(shè)計(jì)和建設(shè)提供地表地質(zhì)資料。在確定礦區(qū)地質(zhì)填圖比例尺時(shí)，還必須綜合考慮礦區(qū)范圍的大小、礦體形態(tài)復(fù)雜程度、礦石質(zhì)量或礦化均勻程度等因素，通常是當(dāng)?shù)V體形態(tài)較復(fù)雜、礦層厚度或礦石質(zhì)量變化較大、礦化不均勻時(shí)，地質(zhì)填圖比例尺應(yīng)適當(dāng)放大。地質(zhì)填圖在固體礦產(chǎn)普查找礦工作中和礦床（區(qū)）評(píng)價(jià)工作中，是一項(xiàng)基本的，又是必不可少的重要工作手段。礦產(chǎn)及礦化線(xiàn)索作詳細(xì)敘述。依地層時(shí)代由新至老對(duì)剖面進(jìn)行分層敘述。剖面線(xiàn)位置、方向、座標(biāo)、測(cè)量方法。圖中用統(tǒng)一圖示圖例規(guī)定的線(xiàn)條、花紋符號(hào)表示不同的巖層及其接觸關(guān)系。如圖1－10圖中A2和A2′兩點(diǎn)實(shí)際高差確定。㈤ 剖面平移及表示剖面測(cè)制過(guò)程中，如遇大片浮土掩蓋、天然障礙或構(gòu)造等造成測(cè)制意義不大的地段、則需平移。㈡ 剖面圖上表示的內(nèi)容圖名：比例尺、水平比例尺、高程或高差座標(biāo)、導(dǎo)線(xiàn)平面圖中全部地質(zhì)內(nèi)容。若某段地層中巖脈雖小（小于1mm），但量較多，且對(duì)該段地層厚度影響較大，可依據(jù)巖脈在地層中的含量比（厚度比），按比值算出地層厚度。Sin10176。－方向35176。／60176。當(dāng)坡向與巖層傾向相同時(shí)，公式中用減號(hào)計(jì)算。 圖中投影基線(xiàn)通過(guò)或基本通過(guò)A1－A2－A3－A4－A5－導(dǎo)線(xiàn)。第三步：整飾成圖。具體操作：第一步：繪制剖面地形線(xiàn)。A－A′剖面圖，首先將平面圖上各導(dǎo)線(xiàn)端點(diǎn)（A0、A1．．．．