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正文內(nèi)容

半導(dǎo)體器件基礎(chǔ)(2)-wenkub.com

2025-05-07 01:41 本頁(yè)面
   

【正文】 當(dāng) uGS< 0時(shí),溝道變窄, iD減小。 在輸出特性曲線上也可求出 gm。所以當(dāng) uGS=0時(shí),這些正離子已經(jīng)感應(yīng)出了溝道 . (1112) 二、 MOS管的工作原理 以 N 溝道增強(qiáng)型為例 P N N G S D UDS UGS UGS=0時(shí) DS 間相當(dāng)于兩個(gè)反接的PN結(jié) ID=0 對(duì)應(yīng)截止區(qū) (1113) P N N G S D UDS UGS UGS0時(shí) UGS足夠大時(shí)( UGSVT) 將 P區(qū)少子電子聚集到 P區(qū)表面 , 形成導(dǎo)電溝道,如果此時(shí)加有漏源電壓,就可以形成漏極電流 id。 (1)直流分析 (1105) 小信號(hào)分析法 低頻模型 高頻模型 (1106) (2)交流分析 小信號(hào) 等效電路 ① 電壓放大倍數(shù) RgRgVVAvmLmio139。如 ,3DJ6D是結(jié)型 N溝道場(chǎng)效應(yīng)三極管, 3DO6C是絕緣柵型 N溝道場(chǎng)效應(yīng)三極管。 PDM 最大漏極功耗可由 PDM= VDS ID決定,與雙極型 三極管的 PCM相當(dāng)。 2. 夾斷電壓 VP 夾斷電壓是耗盡型 FET的參數(shù),當(dāng) VGS=VP時(shí) ,漏極 電流為零。 當(dāng) VGS> 0 時(shí),將使 ID進(jìn)一步增加。 (190) 增強(qiáng)型 MOSFET的工作原理 (191) MOSFET的 特性曲線 VVV TGSDS ?? (192) — VGS對(duì) ID的控制特性 轉(zhuǎn)移特性曲線的斜率 gm 的大小反映了柵源電壓對(duì)漏極電流的控制作用。 當(dāng) VDS增加到使VGD=VT時(shí),漏極處溝道將縮減到剛剛開啟的情況,稱為預(yù)夾斷。源極端電壓最大,為 VGS ,由此感生的溝道最深;離開源極端,越向漏極端靠近,則柵 — 溝間的電壓線性下降,由它們感生的溝道越來(lái)越淺;直到漏極端,柵漏 間電壓最小,其值為: VGD=VGSVDS , 由此 感生的溝道也最淺。 VGS值越大,溝道內(nèi)自由電子越多,溝道電阻越小,在同樣 VDS 電壓作用下, I D 越大。 管子仍不能導(dǎo)通,處于截止?fàn)顟B(tài)。時(shí), 00 ??DGS iv。其值一般為( 20— 50) V之間 。 ( 2) 管壓降 vDS 很小。 由于預(yù)夾斷區(qū)電阻很大,使主要 VDS降落在該區(qū),由此產(chǎn)生的強(qiáng)電場(chǎng)力能把未夾斷區(qū)漂移到其邊界上的載流子都掃至漏極,形成漏極飽和電流 。 (175) ② 漏源電壓 VDS對(duì) iD的影響 在柵源間加電壓 VGS> VP,漏源間加電壓 VDS。 iD的大小受 VGS的控制。 從參與導(dǎo)電的載流子來(lái)劃分, 它有自由電子導(dǎo)電的 N溝道器件 和 空穴導(dǎo)電的 P溝道器件 。 放大 截止 飽和 + 正偏 反偏 + + 正偏 反偏 + 放大 VcVbVe 放大 VcVbVe 發(fā)射結(jié)和集電結(jié)均為反偏。 射極反向擊穿電壓 當(dāng)集 射極之間的電壓 UCE超過(guò)一定的數(shù)值時(shí),三極管就會(huì)被擊穿。 根據(jù)放大關(guān)系,由于 IBE的存在,必有電流?IBE。 共射 直流電流放大倍數(shù) : BCII?___?工作于動(dòng)態(tài)的三極管,真正的信號(hào)是疊加在直流上的交流信號(hào)。 (161) IC(mA ) 1 2 3 4 UCE(V) 3 6 9 12 IB=0 20?A 40?A 60?A 80?A 100?A 此區(qū)域中 : IB=0,IC=ICEO,UBE 死區(qū)電壓,稱為截止區(qū)。 UCE=0V UCE = 死區(qū)電壓,硅管,鍺管 。 發(fā)射結(jié)正偏,發(fā)射區(qū)電子不斷向基區(qū)擴(kuò)散,形成發(fā)射極電流 IE。 I U 照度增加 (145) 發(fā)光二極管 有正向電流流過(guò)時(shí),發(fā)出一定波長(zhǎng)范圍的光,目前的發(fā)光管可以發(fā)出從紅外到可見波段的光,它的電特性與一般二極管類似。 iU IZIZU LR 0URU I IZ IZmax ?UZ ?IZ UZ (142) 穩(wěn)壓二極管的應(yīng)用舉例 uo iZ DZ R iL i ui RL 5m A 20m A , V,m i nm ax???zzzII10U穩(wěn)壓管的技術(shù)參數(shù) : ?? k2LR解:令輸入電壓達(dá)到上限時(shí),流過(guò)穩(wěn)壓管的電流為 Izmax mAm ax 25RUIiLZz ??? zi ???? —— 方程 1 要求當(dāng)輸入電壓由正常值發(fā)生 ?20%波動(dòng)時(shí),負(fù)載電壓基本不變。 + UZ 動(dòng)態(tài)電阻: ZZIUZr ???rz越小,穩(wěn)壓性能越好。 這樣所產(chǎn)生的電容就是擴(kuò)散電容 . (136) CB在正向和反向偏置時(shí)均不能忽略。 (135) 當(dāng)外加正向電壓不同時(shí), PN結(jié)兩側(cè)堆積的少子的數(shù)量及濃度梯度也不同,這就相當(dāng)電容的充放電過(guò)程 。 (133) 5. 微變電阻 rD iD uD ID UD Q ?iD ?uD rD 是二極管特性曲線上工作點(diǎn) Q 附近電壓的變化與電流的變化之比: DDD iur???顯然, rD是對(duì) Q附近的微小變化區(qū)域內(nèi)的電阻。 (132) 4. 反向電流 IR 指二極管加反向峰值工作電壓時(shí)的反向電流。 3. 反向擊穿電壓 UBR 二極管反向擊穿時(shí)的電壓值。 (128) 半導(dǎo)體二極管 PN 結(jié)加上管殼和引線,就成為半導(dǎo)體二極管。 外電場(chǎng)加強(qiáng)內(nèi)電場(chǎng) → 耗盡層變寬 → 漂移運(yùn)動(dòng)>擴(kuò)散運(yùn)動(dòng) → 少子漂移形成反向電流 I R +---+--內(nèi)電場(chǎng)++-++-E+-EW--+-空 間 電 荷 區(qū)+-R++ +IRP N 在一定的溫度下,由本征激發(fā)產(chǎn)生的少子濃度是一定的,故 IR基本上與外加反壓的大小無(wú)關(guān),所以稱為 反向飽和電流 。 P區(qū) 中的空穴 .N區(qū) 中的電子( 都是多子 )向?qū)Ψ竭\(yùn)動(dòng)( 擴(kuò)散運(yùn)動(dòng) )。 內(nèi)電場(chǎng)越強(qiáng),漂移運(yùn)動(dòng)越強(qiáng),而漂移使空間電荷區(qū)變薄。 ,電子是少子 。這個(gè)空穴可能吸引束縛電子來(lái)填補(bǔ),使得硼原子成為不能移動(dòng)的帶負(fù)電的離子。 。 P 型半導(dǎo)體: 空穴濃度大大增加的雜質(zhì)半導(dǎo)體,也稱為(空穴半導(dǎo)體)。 本征半導(dǎo)體中電流由兩部分組成: 1. 自由電子移動(dòng)產(chǎn)生的電流。 本征半導(dǎo)體中存在數(shù)量相等的兩種載流子,即自由電子 和 空穴 。 共價(jià)鍵有很強(qiáng)的結(jié)合力,使原子規(guī)則排列,形成晶體。 (15) 在硅和鍺晶體中,原子按四角形系統(tǒng)組成晶體點(diǎn)陣,每個(gè)原子都處在正四面體的中心,而四個(gè)其它原子位于四面體的頂點(diǎn),每個(gè)原子與其相臨的原子之間形成 共價(jià)鍵 ,共用一對(duì)價(jià)電子。 半導(dǎo)體的導(dǎo)電特性 (13) 半導(dǎo)體 的導(dǎo)電機(jī)理不同于其它物質(zhì),所以它具有不同于其它物質(zhì)的特點(diǎn)。(11) 第一章 半導(dǎo)體器件基礎(chǔ) (12) 導(dǎo)體: 自然界中很容易導(dǎo)電的物質(zhì)稱為 導(dǎo)體 ,金屬一般都是導(dǎo)體。例如: 當(dāng)受外界熱和光的作用時(shí),它的導(dǎo)電能力明顯變化。 硅和鍺的晶體結(jié)構(gòu) : 通過(guò)一定的工藝過(guò)程,可以將半導(dǎo)體制成 晶體 。 +4 +4 +4 +4 (18) 二、本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理 在絕對(duì) 0度( T=0K)和沒有外界激發(fā)時(shí) ,價(jià)電子完全被共價(jià)鍵束縛著,本征半導(dǎo)體中沒有可以運(yùn)動(dòng)的帶電粒子(即 載流子 ),它的導(dǎo)電能力為 0,相當(dāng)于絕緣體。 (111) 溫度越高,載流子的濃度越高。 2. 空穴移動(dòng)產(chǎn)生的電流。 N 型半導(dǎo)體: 自由電子濃度大大增加的雜質(zhì)半導(dǎo)體,也稱為(電子半導(dǎo)體)。 摻雜濃度遠(yuǎn)大于本征半導(dǎo)體中載流子濃度,所以,自由電子濃度遠(yuǎn)大于空穴濃度。 +4 +4
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