【正文】 確認(rèn)體系的最后階段是準(zhǔn)備測量設(shè)備確認(rèn)狀態(tài)的標(biāo)識，例如標(biāo)簽、標(biāo)志等。在調(diào)整后，經(jīng)校準(zhǔn)發(fā)現(xiàn)誤差為 ,校準(zhǔn)過程的測 量不確定度是 。如果誤差大于最大允許誤差就應(yīng)采取措施消除這種不合格，或通知顧客不能確認(rèn)該設(shè)備。但這方面的考慮是組織的計量功能的職責(zé)。校準(zhǔn)結(jié)果在計量確認(rèn)體系中可以任何合適的方式文件化，例如校準(zhǔn)證書或校準(zhǔn)報告（當(dāng)校準(zhǔn)是由外部完成時 ） 或校準(zhǔn) 結(jié)果記錄（當(dāng)校準(zhǔn)全部是由組織的計量功能完成時）。 A3 測量設(shè)備的計量特性 (MEMC) 由于 MEMC 常常是由校準(zhǔn)（或幾次校準(zhǔn)）和（或）測試決定的，計量確認(rèn)體系中的計量功能應(yīng)規(guī)范并控制所有這類必要的活動。這個要求必須轉(zhuǎn)化并表述成壓力測量設(shè)備的 CMR。從事這項工作往往需要豐富的生產(chǎn)過程知識和計量知識。 A2 顧客的計量要求（ CMR） 顧客的計量要求是顧客根據(jù)相應(yīng)的生產(chǎn)過程規(guī)定的測量要求。 預(yù)防措施 計量職能應(yīng)確定措施以消除潛在的測量或確認(rèn)不合格的原因以防止出現(xiàn)這種不合格 。計量職能應(yīng)評審并識別改進測量管理體系的潛在機會，必要時進行修改。這還包括多量程、多功能設(shè)備，僅對某些范圍或功能做了有限的計量確認(rèn)的情況。 不能恢復(fù)其預(yù)期的計量特性的不合格測量設(shè)備，應(yīng)有清楚的標(biāo)志或用其他方式標(biāo)識。 不合格測量設(shè)備 對已確認(rèn)的測量設(shè)備懷疑或已知： a) 損壞； b) 過載； c) 可能使其預(yù)期用途無效的故障； d) 產(chǎn)生不正確的測量結(jié)果； e) 超過規(guī)定的計量確認(rèn)間隔； f) 誤操作； g) 封印或保護裝置損壞或破裂； h) 暴露在已有可能影響其預(yù)期用途的影響量中 (如電磁場、灰塵 )。 不合格測量過程 已知任何測量過程已產(chǎn)生或懷疑產(chǎn)生不正確的測量結(jié)果，應(yīng)進行適當(dāng)?shù)臉?biāo)識，并停止使用直到已采取了適合的措施。 測量和確認(rèn)過程的監(jiān)視結(jié)果和采取的糾正措施應(yīng)形成文件以證明測量和確認(rèn)過程持續(xù)地滿足文件的要求。監(jiān)視應(yīng)按照形成文件的程序和確定 的時間間隔進行。 GB/T19011 提供了體系審核的指南。審核的結(jié)果應(yīng)報告給組織的管理層中受影響的部分。 審核和監(jiān)視 總則 計量職能應(yīng)利用審核、監(jiān)視和其他適用技術(shù)以確定測量管理體系的適宜性和有效性。 有證標(biāo)準(zhǔn)樣品 (有證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) )可認(rèn)為是參考標(biāo)準(zhǔn)。 指南 溯源通常是通過其本身溯源到國家測量標(biāo)準(zhǔn)的可靠的校準(zhǔn)實驗室來實現(xiàn)。 計量職能的管理者應(yīng)確保所有測量結(jié)果都能溯源到 SI 單位。在所有這些情況下，為確定和記錄測量不確定度所做的努力應(yīng)當(dāng)與測量結(jié)果對組織的最終產(chǎn)品的質(zhì)量的重 要性相匹配。 指南 在測量不確定度表述指南 (GUM)中給出了用于合成不確定度要素及提供結(jié)果時所涉及的概念和所用的方法。 測量不確定度和溯源性 測量不確定度 測量管理體系覆蓋的每個測量過程都應(yīng)評價測量不確定度 (見 )。 測量過程的記錄 計量職能應(yīng)保存記錄以證明測量過程符合要求。 指南 特性的例子包括： ——測量不確定度； ——穩(wěn)定性； ——最大允許誤差； ——重復(fù)性； ——復(fù)現(xiàn)性； ——操作者的技能水平。 影響量對測量過程的影響應(yīng)當(dāng)量化。 指南 在測量過程控制上花費的力量應(yīng)與測量對組織的最終產(chǎn)品質(zhì)量的重要性相匹配。這些過程要素和控制應(yīng)包括操作者、設(shè)備、環(huán)境條件、影響量和應(yīng)用方法的影響。 測量過程可能要求數(shù)據(jù)修正，例如由于環(huán)境條件所進行的修正。應(yīng)識別和考慮影響測量過程的影響量。 在某些情況下，校準(zhǔn)證書或報告中包括驗證結(jié)果，用于說明設(shè)備符合 (或不符合 )規(guī)定要求。有關(guān)測量標(biāo)準(zhǔn)的記錄可能需要永久保存。不是所有測量設(shè)備都需封印 。 計量確認(rèn)過程程序應(yīng)包括當(dāng)封印或保護裝置被發(fā)現(xiàn)損壞、破損、轉(zhuǎn)移或丟失時應(yīng)采取的措施。校準(zhǔn)間隔可與計量確認(rèn)間隔相等 (見 OIML D10)。 計量確認(rèn)間隔 用于確定或改變計量確認(rèn)間隔的方法應(yīng)用程序文件表述。 測量設(shè)備的計量特性應(yīng)適宜其預(yù)期用途。 7. 計量確認(rèn)和測量過程的實現(xiàn) 計量確認(rèn) 總則 應(yīng)設(shè)計并實施計量確認(rèn) (見圖 2 和附錄 A)，以確保測量設(shè)備的計量特性滿足測量過程的計量要求。應(yīng)規(guī)定選擇、監(jiān)視和評價的準(zhǔn)則并形成文件，并記錄評價結(jié)果。 指南 影響測量結(jié)果的環(huán)境條件可包括溫度、溫度變化率、濕度、照明、振動、塵埃量、清潔度、電磁干擾和其他因素。納入或撤出測量管理體系中的測量設(shè)備應(yīng)有處理程序。 最大允許誤差可通過參考測量設(shè)備制造者公布的規(guī)范或由計量職能來設(shè)定。測量設(shè)備應(yīng)在受控的或已知滿足需要的環(huán)境中使用，以確保有效的測量結(jié)果。已確認(rèn)用于某個特定的測量過程或某些過程的設(shè)備應(yīng)清楚地標(biāo)識或受控，以防止未授權(quán)使用。應(yīng)有形成文件的程序以確保記錄的標(biāo)識、貯存、保護、檢索、保存期限和處置。 測試可能包括：病毒檢查，用戶算法程序檢查，或必要時為 達到要求的測量結(jié)果而做的組合。軟件及其任何修改在啟用前應(yīng)進行測試和 (或 )確認(rèn)，并經(jīng)批準(zhǔn)和存檔。 制定新的程序或更改現(xiàn)有的 程序應(yīng)經(jīng)授權(quán)批準(zhǔn)并受控。員工應(yīng)認(rèn)識到他們所承擔(dān)的職責(zé)，清楚他們的活動對測量管理體系有效性和產(chǎn)品質(zhì)量的影響。 ISO10012:2020 測量管理體系 測量過程和測量設(shè)備的要求 7/18 本標(biāo)準(zhǔn)不排除使用計量職能部門之外的專業(yè)人員。 計量職能的管理者應(yīng)利用管理評審的結(jié)果對體系進行必要的修正，包括改進測量過程 (見第 8 條款 )和評審質(zhì)量目標(biāo)。應(yīng)規(guī)定測量過程的性能判定客觀準(zhǔn)則、程序及其控制。 指南 計量職能可能是一個單獨的部門或分布在整個組織中。測量管理體系內(nèi)所有的測量設(shè)備應(yīng)經(jīng) 確認(rèn) (見 )。要求可表示為最大允許誤差、允許不確定度、測量范圍、穩(wěn)定性、分辨力、環(huán)境條件或操作者技能要求。 計量職能 metrological function 組織中負(fù)責(zé)確定并實施測量管理體系的行政和技術(shù) 職能。 注 2. 只有測量設(shè)備已被證實適合于預(yù)期使用并形成文件，計量確認(rèn)才算完成。 注 1. 測量設(shè)備通常有若干個計量特性。 測量管理體系 measurement management system 為完成計量確認(rèn)并持續(xù)控制測量過程所必需 的一組相互關(guān)聯(lián)或相互作用的要素。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用 于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。相關(guān)方可以允許在認(rèn)證活動中使用本標(biāo)準(zhǔn)作為滿足測量管理體系要求的輸入。 167。 顧客測量要求 顧客滿意 167。除非 經(jīng)過認(rèn)可，本標(biāo)準(zhǔn)不擬增加、節(jié)略或代替其他標(biāo)準(zhǔn)的任何要求?！耙?”以正體字出現(xiàn)。 以下情況可以引用本標(biāo)準(zhǔn)： ――――顧客在規(guī)定所要求的產(chǎn)品時； ――――供方在規(guī)定所提供的產(chǎn)品時； ――――立法和執(zhí)法機構(gòu)； ――――測量管理體系的評定和審核。 ISO10012:2020 測量管理體系 測量過程和測量設(shè)備的要求