半導(dǎo)體集成電路原理教材-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】1半導(dǎo)體集成電路原理2微電子器件原理半導(dǎo)體物理與器件微電子工藝基礎(chǔ)集成電路微波器件MEMS傳感器光電器件課程地位固體物理半導(dǎo)體物理3定義：集成電路就是把許多分立組件制作在同一個(gè)半導(dǎo)體芯片上所形成的電路。在制作的全過(guò)程中作為一個(gè)整體單元進(jìn)行加工。早在1952年，英國(guó)的杜

2024-12-30 06:22

[精選]集成電路工藝課件-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】1集成電路工藝信息學(xué)院電子科學(xué)與技術(shù)2?參考書(shū)：?.Chang,.Sze,“ULSITechnology”?王陽(yáng)元等,“集成電路工藝原理”?M.Quirk,J.Serda,“半導(dǎo)體制造技術(shù)”?成績(jī)計(jì)算：?平時(shí)成績(jī)（出勤、作業(yè)、小測(cè)驗(yàn)）20％＋期終考試

2025-01-08 13:07

[精選]集成電路基本工藝-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】2023/1/281第3章IC制造工藝外延生長(zhǎng)掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝?關(guān)心每一步工藝對(duì)器件性能的影響，讀懂PDK，挖掘工藝潛力。2023/1/282外延生長(zhǎng)(Epitaxy)外延生長(zhǎng)的目的n半導(dǎo)體工藝流程中的基

2025-01-08 12:24

[精選]集成電路工藝1-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】1集成電路工藝信息學(xué)院電子科學(xué)與技術(shù)2?參考書(shū)：?.Chang,.Sze,“ULSITechnology”?王陽(yáng)元等,“集成電路工藝原理”?M.Quirk,J.Serda,“半導(dǎo)體制造技術(shù)”?成績(jī)計(jì)算：?平時(shí)成績(jī)（出勤、作業(yè)、小測(cè)驗(yàn)）20％＋期終考試

2025-01-08 13:39

[精選]現(xiàn)代集成電路制造工藝原理-第十一章-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】現(xiàn)代集成電路制造工藝原理山東大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院王曉鯤第十一章淀積?膜淀積?化學(xué)氣相淀積?CVD淀積系統(tǒng)?介質(zhì)及其性能?旋涂絕緣介質(zhì)?外延薄膜和薄膜淀積?薄膜，指一種在襯底上生長(zhǎng)的薄固體物質(zhì)。?薄膜淀積，是指任何在硅片襯底上物理淀積一層膜的工藝。這層膜可

2025-02-07 11:09

[精選]集成電路制造工藝之光刻與刻蝕工藝-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】第八章光刻與刻蝕工藝光刻是集成電路工藝中的關(guān)鍵性技術(shù)。在硅片表面涂上光刻膠薄層，經(jīng)過(guò)光照、顯影，在光刻膠上留下掩模版的圖形。在集成電路制造中，利用光刻膠圖形作為保護(hù)膜，對(duì)選定區(qū)域進(jìn)行刻蝕，或進(jìn)行離子注入，形成器件和電路結(jié)構(gòu)。隨著集成電路的集成度不斷提高，器件的特征尺寸不斷減小，期望進(jìn)一步縮小光刻圖形的尺寸。

2025-01-08 14:36

[精選]半導(dǎo)體集成電路_03集成電路的基本制造工藝-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】半導(dǎo)體半導(dǎo)體集成電路集成電路2.雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)2023/2/1pn+n-epin+P-Sin+-BLCBESP+P+雙極集成電路的基本工藝雙極集成電路的基本工藝2023/2/1P-SiTepiCBEpn+n-epin+P-SiP+P+Sn+-BLTepiAA’

2025-03-01 04:35

[精選]集成電路制造工藝及設(shè)備-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】復(fù)習(xí)1.高溫氧化工藝硅的熱氧化硅的熱氧化是指在高溫下，硅片表面同氧氣或水進(jìn)行反應(yīng)，生成SiO2。硅的熱氧化有：干氧、濕氧、水汽氧化三種。如果氧化前已存在厚度為t0的氧化層，則（3-11）微分方程的解為：（tOX：是總的氧化層厚度）??????tBAttO

2025-01-06 18:43

[精選]集成電路工藝技術(shù)教材-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】集成電路工藝技術(shù)講座第五講離子注入Ionimplantation引言?半導(dǎo)體工藝中應(yīng)用的離子注入是將高能量的雜質(zhì)離子導(dǎo)入到半導(dǎo)體晶體，以改變半導(dǎo)體，尤其是表面層的電學(xué)性質(zhì)．?注入一般在50-500kev能量下進(jìn)行離子注入的優(yōu)點(diǎn)?注入雜質(zhì)不受材料溶解度，擴(kuò)散系數(shù)，化學(xué)結(jié)合力的限制，原則上對(duì)各種材料都可摻雜?可精確控制能量和劑量，從而精確控

2025-01-06 18:45

[精選]硅集成電路制造工藝緒論-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】1234緒論?引言?集成電路制造工藝發(fā)展?fàn)顩r?集成電路工藝特點(diǎn)與用途?本課程內(nèi)容5?早在1830年，科學(xué)家已于實(shí)驗(yàn)室展開(kāi)對(duì)半導(dǎo)體的研究。?1874年，電報(bào)機(jī)、電話(huà)和無(wú)線(xiàn)電相繼發(fā)明等早期電子儀器亦造就了一項(xiàng)新興的工業(yè)──電子業(yè)的誕生。1引言6

2025-01-06 13:18

[精選]cmos集成電路制造工藝教材-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】第6章CMOS集成電路制造工藝第6章CMOS集成電路制造工藝?CMOS工藝?CMOS版圖設(shè)計(jì)?封裝技術(shù)3木版年畫(huà)?畫(huà)稿?刻版?套色印刷4半導(dǎo)體芯片制作過(guò)程5硅片（wafer）的制作6掩模版（mask,reticle）的制作7外延襯底的制作8集成電路加工的基本操作?1、形成薄膜

2025-02-09 20:38

[精選]集成電路制造工藝流程-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理1第一章集成電路制造工藝流程集成電路（IntegratedCircuit）制造工藝是集成電路實(shí)現(xiàn)的手段，也是集成電路設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)。國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理2?隨著集成電路發(fā)展的過(guò)程，其發(fā)展的總趨勢(shì)是革新工藝、提高集成度和速度。?設(shè)計(jì)工作由有生產(chǎn)線(xiàn)集成

2025-01-06 18:34

[精選]cmos集成電路工藝流程-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】第三章CMOS集成電路工藝流程白雪飛中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)系?多晶硅柵CMOS工藝流程?可用器件?工藝擴(kuò)展提綱2多晶硅柵CMOS工藝流程?初始材料–重?fù)诫sP型(100)襯底硅，P+–減小襯底電阻，提高抗CMOS閂鎖效應(yīng)能力?外延生長(zhǎng)–在襯底

2025-02-09 20:36

[精選]集成電路工藝流程簡(jiǎn)介-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】集成電路制造工藝集成電路制造工藝北京大學(xué)北京大學(xué)e集成電路設(shè)計(jì)與制造的主要流程框架設(shè)計(jì)芯片檢測(cè)單晶、外延材料掩膜版芯片制造過(guò)程封裝測(cè)試系統(tǒng)需求集成電路的設(shè)計(jì)過(guò)程：設(shè)計(jì)創(chuàng)意+仿真驗(yàn)證集成電路芯片設(shè)計(jì)過(guò)程框架From吉利久教授是功能要求行為設(shè)

2025-01-08 12:25

[精選]集成電路制備工藝課件-資料下載頁(yè)

【總結(jié)】集成電路Contentsv集成電路的定義v集成電路的分類(lèi)v集成電路的工藝微電子技術(shù)課程ppt微電子技術(shù)課程ppt集成電路定義v集成電路（integrated?circuit）是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝，把一個(gè)電路中所需的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件及布線(xiàn)互連

2025-01-08 13:38

集成電路工藝原理未來(lái)趨勢(shì)與挑戰(zhàn)-閱讀頁(yè)

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