構(gòu)造地質(zhì)學(xué)復(fù)習(xí)-資料下載頁
2025-08-04 17:11本頁面
【正文】 層叫做推覆構(gòu)造。飛來峰：逆沖斷層上盤被剝蝕，使下盤巖石出露，如果上盤巖石被剝蝕成孤島狀，則稱為飛來峰構(gòu)造窗：這種由上盤巖塊環(huán)繞，四周以斷層線為界的下盤局部露頭稱為構(gòu)造窗。生長指數(shù)：是同一巖層下降盤地層厚度與上升盤地層厚度的比值。斷層的組合：平面組合類型平行式、雁行式、帚狀、環(huán)狀、放射狀、斜交式剖面組合類型a階梯狀；b地塹；c地壘；d”Y”字型；e疊瓦狀；f花狀地塹：由兩組走向近平行且相向傾斜的正斷層及其所夾持的下降斷塊形成的構(gòu)造地壘：由兩組走向近平行且相背傾斜的正斷層及其所夾持的抬升斷塊形成的構(gòu)造正斷層特點:上盤下滑、傾角大、角礫棱角明顯、垂直走向有拉長。正斷層的形成的地質(zhì)條件：局部性拉伸作用背斜轉(zhuǎn)折端處局部拉長3背斜的轉(zhuǎn)折端4高塑性巖體上拱。逆斷層的特點：逆斷層:上盤上升、傾角小、角礫棱角不明顯或被壓扁、斷層兩側(cè)巖石有強烈積壓、揉皺現(xiàn)象，垂直走向有縮短。逆斷層形成的地質(zhì)條件：水平擠壓有利于逆沖斷層的發(fā)育（區(qū)域性的水平擠壓）高塑性巖體上拱課形成高角度逆斷層差異升降可形成。平移斷層：斷面平直有擦痕、近直立、延伸遠，常有較大的派生構(gòu)造平移斷層的地質(zhì)條件：由側(cè)向擠壓中不同的巖塊在垂直于縱向逆斷層或褶皺樞紐方向上不等程度的推進而形成。其規(guī)模一般不大，常終止于褶皺倒轉(zhuǎn)翼或逆斷層上，其旋向無一定規(guī)律。由側(cè)向擠壓作用產(chǎn)生的平面X型扭裂面發(fā)展而成的平移斷層，一般規(guī)模較大，旋向具有一定規(guī)律，其較前一種更為普遍。斷層的識別標志：地貌標志①斷層崖②斷層三角面③錯動的山脊④串珠、帶狀分布的湖泊和泉水⑤地震震中的線狀分布，線狀分布的礦體、礦脈構(gòu)造標志①構(gòu)造不連續(xù)性②強變形帶的出現(xiàn)如強烈劈理化帶和強烈碎裂帶③標志物的錯斷：包括巖層、巖脈、不整合面、先期斷層和侵入體邊界等。斷層兩盤相對位移方向的確定：地層學(xué)特征：包括括地層的新老、重復(fù)、缺失、變厚、變薄，變寬、變窄等。斷層兩側(cè)的派生現(xiàn)象：即分支構(gòu)造的性質(zhì)和方位。斷層旁側(cè)的牽引構(gòu)造。斷層面上的特征：擦痕，階步，反階步等。斷層帶破碎物的特征；即斷層角礫以及構(gòu)造透鏡體的排列分布情況。生長斷層兩盤的厚度。平移斷層的收斂、分散作用和升降活動斷層效應(yīng)：指斷層活動引起的巖層視錯動。受斷層面產(chǎn)狀、斷層真位移，地層產(chǎn)狀，觀察剖面的控制。同一斷層在不同截面上顯示出不同的特征的現(xiàn)象就是斷層效應(yīng)。確定斷層的形成時期1斷層切割地層2斷層與不整合的關(guān)系3斷層與巖漿巖體的關(guān)系4斷層帶物質(zhì)測年5兩盤地層厚度生長斷層：在沉積過程中發(fā)育的斷層，稱為生長斷層生長斷層的基本特征：,剖面上發(fā)展具旋回性；，這是同沉積斷層最基本的特征和識別標志；5.斷距隨深度增大，地層時代越老，斷距越大；6.上盤常發(fā)育逆牽引構(gòu)
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