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線路板蝕刻液再生利用項目調(diào)查報告-資料下載頁

2025-06-02 00:36本頁面
  

【正文】 、石油類、總銅、氨氮 、磷酸鹽 , 一般清洗廢水 pH 呈中性,其中 COD 約 500~1000mg/l、 總銅約 5~10g/l、氨氮約 5~10g/l; 33 ? 危害性及應(yīng)采取的治理措施:清洗廢水中銅含量較高,且含有較高濃度 的氨氮,直接排入生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng),將對生產(chǎn)廢水處理系統(tǒng) 的正常運行造成不利影響,為保證廢水處理系統(tǒng)穩(wěn)定達標(biāo),建議將該股清洗廢水單獨收集預(yù)處理或作為危險廢物委托處理處置。 、 隔膜電解 法 堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng) 采用隔膜電解法的堿性蝕刻液再生回用系統(tǒng)直接對失效蝕刻液進行電解,不進行清洗預(yù)處理,故無生產(chǎn)廢水產(chǎn)生。 、 廢氣 、 萃取 電解法廢氣來源及種類 、 萃取 工序產(chǎn)生的廢氣 萃取機、有機分離器排放少量有機廢氣和氨氣 。 有機廢氣 由于萃取劑在系統(tǒng)內(nèi)總量 約數(shù)百升,其揮發(fā)有限,對環(huán)境的影響較小 ,不需建設(shè)專用處理設(shè)施,加強車間通風(fēng)即可 。 氨 氣 萃取機、 蝕刻液儲罐等工序和容器均有 一定 氨氣的揮發(fā), 但設(shè)備均采用密閉式,設(shè)備和儲罐敞口面積小, 氨氣揮發(fā)量 有限,引用其它資料表明,揮發(fā)出的少量氨氣對環(huán)境的影響較小。 設(shè)備和儲罐揮發(fā)出的氨氣無需建設(shè)處理設(shè)施,可通過加強通風(fēng)改善車間環(huán)境,為保護操作人員的身體健康,應(yīng)提請勞動部門對生產(chǎn)車間 空氣中有毒物質(zhì)濃度進行監(jiān)測分析,采取強制通風(fēng)等措施保證工作場所空氣中有毒物質(zhì)容許濃度達 到 GBZ12021 和 GBZ22021 標(biāo)準要求。 、 電解工序產(chǎn)生的廢氣 蝕刻液現(xiàn)場再生利用電解 生產(chǎn)過程中產(chǎn)生 的廢氣主要 酸性 廢氣 和少量氯氣 ,酸性廢氣包括硫酸霧和氯化氫 。 酸性廢氣排放量 1)污染物排放源強計算 廢氣產(chǎn)生量和污染物濃度由設(shè)備配置以及揮發(fā)性原材料的性質(zhì)、用量等決定 , 本次評價主要采用物料衡算法對主要工藝廢氣的排放量進行估算 ,即 采用《環(huán)境 統(tǒng)計 手冊》( 1985) “廢氣及其污染物排放量計算方法 ”中提出的液體蒸發(fā)量的 34 計算公司計算 硫酸霧 的蒸發(fā)量,計算公式如下: Gz = M ( +) PF 式中: Gz — 酸的蒸發(fā)量( kg/h); M — 酸的分子量; V — 蒸發(fā)液體表面上的空氣流速 (m/s); P — 液體溫度下的空氣中的蒸汽分壓力(毫米汞柱); F — 液體蒸發(fā)面的表面積( m2) 相應(yīng)計算參數(shù)及計算結(jié)果分別見表 1表 15。 表 14 計算參數(shù)一覽表 污染物 名稱 污染 工序 濃度 ( %) 蒸汽分壓力 (毫米汞柱) 分子量 液面風(fēng)速 (m/s) 蒸發(fā)面積 (m2) 硫酸霧 電解 20 98 與處理規(guī)模配套 氯化氫 電解 5 表 15 不同蝕刻液處理規(guī)模 酸性廢 氣源強一覽表 蝕刻液處理規(guī)模 ( L/d) 污染物 名稱 產(chǎn)生量 ( kg/h) 排氣量 (m3/h) 排放濃度 mg/m3 排放速率 kg/h 1200~1600 硫酸霧 1300 1016 氯化氫 446 2400~3200 硫酸霧 1600 1100 氯化氫 462 4000~4800 硫酸霧 2021 1100 氯化氫 465 表 15 中氯化氫的排放量計算值偏大,因 電解槽液中本身不含 HCL,在電解過程中由于不斷產(chǎn)生氯氣,氯氣在電解槽中溶解形成 HCL。 2) 排放標(biāo)準 廢氣凈化裝置的排氣筒高度應(yīng)不低于 15 米 ,廣東省地方標(biāo)準要求見表 16。 表 16 主要大氣污染物排放限值( DB44/272021) 序號 污染物名稱 最高允許排放濃度 最高允許排放速率 ( 排氣筒高度 15m) 1 硫酸霧 35mg/m3 2 氯化氫 100mg/m3 由表 1表 16 所列數(shù)據(jù)比較 可以得出 , 蝕刻液現(xiàn)場再生回用電解工序所產(chǎn)生的 硫酸霧處理前排放濃度 和排放速率 均 超過排放標(biāo)準限值要求 ;氯化氫 處理前排放濃度可達到排放標(biāo)準限值要求 , 但排放速率 超過 排放標(biāo)準限值要求。 35 氯 氣排放量 1)污染物排放源強計算 失效堿性蝕刻液中所含氯 離子 有 2 個去向 ,其中大部分返回蝕刻槽 (約占 99%), 少量進入富銅液( (約占 1%) ;富銅液 中所含氯 離子 有 2 個去向 ,其中大部分隨清洗廢水排出 (約占 5/6), 少量進入電解槽 (約占 1/6) 。 不同處理規(guī)模 裝置進入電解槽中 氯 離子量見 表 17。 表 17 不 同處理規(guī)模裝置進入電解槽中氯離子量 蝕刻液處理規(guī) ( L/d) 氯離子 ( kg/d) 蝕刻液處理規(guī) ( L/d) 氯離子 ( kg/d) 1200 3200 1600 4000 2400 4800 假設(shè)進入電解槽中的氯離子全部通過電解反應(yīng)形成氯氣 ,計算所得不同處 理規(guī)模的氯氣產(chǎn)生量和排放量見表 18。 表 18 不 同處理規(guī)模裝置氯 氣產(chǎn)生量和排放 量 蝕刻液處理規(guī)模 ( L/d) 污染物 名稱 產(chǎn)生量 ( kg/h) 排氣量 (m3/h) 排放濃度 mg/m3 排放速率 kg/h 1200 氯氣 1300 23 1600 31 2400 1600 38 3200 50 4000 2021 50 4800 60 說明:氯堿工業(yè)的統(tǒng)計數(shù)據(jù)表明電解反應(yīng)所產(chǎn)生的氯氣 20%溶于電解槽中,80%隨其它污染物外排。 2)排放標(biāo)準 標(biāo)準要求排放氯氣的單位最低排氣筒高度為 25 米, 而一般企業(yè)難以保證排氣筒高度達到 25 米,故排氣筒高度按 15 米選取,按照標(biāo)準要求, 15 米高排氣筒的氯氣排放速率按計算值的 50%從嚴要求, 廣東省地方標(biāo)準要求見表 19。 36 表 19 主要大氣污染物排放限值( DB44/272021) 序號 污染物名稱 最高允許排放濃度 最高允許排放速率 ( 排氣筒高度 25m) 最高允許排放速率 ( 排氣筒高度 15m) 1 氯氣 65mg/m3 由表 1表 19 所列數(shù)據(jù)比較 可以得出, 萃?。娊夥?蝕刻液現(xiàn)場再生回用電解工序所產(chǎn)生的 氯氣處理前排放濃度可以達到排放標(biāo)準限值要求,處理規(guī)模小于 4000L/d 的裝置氯氣排放速率均可達到排放標(biāo)準限值要求,但處理規(guī)模大于4000L/d 的裝置氯氣排放速率超過排放標(biāo)準限值要 求。 電解工序 工藝 廢氣 的危害性及處理要求 1) 電解工序產(chǎn)生的 工藝 廢氣 危害性 堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)電解槽產(chǎn)生的廢氣包括 硫酸霧、氯化氫和氯 氣,所產(chǎn)生的工藝廢氣如不進行妥善處理,則會對周邊大氣環(huán)境造成污染 。 硫酸霧 健對皮膚、粘膜等組織有強烈的刺激和腐蝕作用 , 對眼睛可引起結(jié)膜炎、水腫、角膜混濁,以致失明;引起呼吸道刺激癥狀,重者發(fā)生呼吸困難和肺水腫;高濃度引起喉痙攣或聲門水腫而死亡。接觸 氯化氫 蒸氣或煙霧,引起眼結(jié)膜炎,鼻及口腔粘膜有燒灼感,鼻衄、齒齦出血、氣管炎;刺激皮膚發(fā)生皮炎,慢性支氣管炎等病變。 氯 氣 是一種強烈的刺激性氣體。主要作用于支氣管和細支氣管,也可作用于肺泡,導(dǎo)致支氣管痙攣、支氣管炎和支氣管周圍炎,吸入大量時可引起中毒性肺水腫。 2) 處理要求 堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)應(yīng)配套廢氣凈化塔, 對 凈化塔 的要求如下: ? 凈化塔 建議選用填料塔, 塔體應(yīng)選用防腐材料, 鑒于氯氣凈化過程中形成氯化氫,填料層數(shù)要求不少于 3 層; ? 噴淋液 宜 選用 稀堿液, 噴淋級數(shù)不少于三級,稀堿液的 pH 和塔內(nèi)液位應(yīng)采取自動控制方式,堿液和自來水的補充投加均應(yīng)實現(xiàn)自動控制; ? 定期更換的噴淋水應(yīng)排入廢水處理系統(tǒng)。 3) 建議驗收內(nèi)容 ? 核實排氣筒高 度; ? 監(jiān)測分析排氣量、排放濃度和排放速率; ? 建議監(jiān) 測指標(biāo)包括硫酸霧、氯化氫 和 氯氣。 37 、 隔膜解法廢氣來源及種類 隔膜電解法直接對失效堿性蝕刻液進行電解, 電解過程中 在提取金屬銅的同時, 電解槽排放 一定量的 氨氣, 電極副反應(yīng)產(chǎn)生 氯氣 。 氨 排放量 1)污染物排放源強計算 采用隔膜電解法的堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)在運行過程中氨濃度 下降 4g/l(不考慮溶解氯氣 可能 與氨反應(yīng)生產(chǎn)三氯化氮所消耗的氨) , 計算所得不同處理規(guī)模的氨產(chǎn)生量和排放量見表 20。 2)排放標(biāo)準 廢氣凈化裝置的排氣筒高度應(yīng)不低于 15 米,國家 標(biāo) 準 《惡臭污染物排放標(biāo)準》( GB1455493)標(biāo)準要求見表 21。 由表 表 21 所列數(shù)據(jù)比較 可以得出,隔膜電解法蝕刻液現(xiàn)場再生回用電解工序所產(chǎn)生的 氨排放速率可達到排放標(biāo)準限值要求。 表 20 不 同處理規(guī)模裝置氯 氣產(chǎn)生量和排放 量 蝕刻液處理規(guī)模 ( L/d) 污染物 名稱 產(chǎn)生量 ( kg/h) 排氣量 (m3/h) 排放濃度 mg/m3 排放速率 kg/h 1200 氨 1200 200 1600 1600 200 2400 2400 200 3200 3200 200 4000 4000 200 4800 4800 200 表 21 惡臭 污染物排放 標(biāo)準 值( GB1455493) 序號 污染物名稱 最高允許排放濃度 最高允許排放速率 ( 排氣筒高度 15m) 1 氨 氯 氣排放量 1)污染物排放源強計算 采用隔膜電解法的 堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng) 在運行過程中氯離子濃度 下降 5g/l, 計算所得不同處理規(guī)模的氯氣產(chǎn)生量和排放量見表 21。 38 表 21 不 同處理規(guī)模裝置氯 氣產(chǎn)生量和排放 量 蝕刻液處理規(guī)模 ( L/d) 污染物 名稱 產(chǎn)生量 ( kg/h) 排氣量 (m3/h) 排放濃度 mg/m3 排放速率 kg/h 1200 氯氣 1200 200 1600 1600 200 2400 2400 200 3200 3200 200 4000 4000 200 4800 4800 200 說明:氯堿工業(yè)的統(tǒng)計數(shù)據(jù)表明電解反應(yīng)所 產(chǎn)生的氯氣 20%溶于電解槽中,80%隨其它污染物外排。 2)排放標(biāo)準 見表 19。 由表 2表 19 所列數(shù)據(jù)比較 可以得出, 隔膜電解法 蝕刻液現(xiàn)場再生回用電解工序所產(chǎn)生的 氯氣處理前排放濃度 和排放速率均嚴重超標(biāo) 。 電解工序工藝廢氣的危害性及處理要求 1)電解工序產(chǎn)生的工藝廢氣危害性 隔膜電解法 堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)電解槽產(chǎn)生的 工藝 廢氣包括 氯氣 和 氨,其中氯氣排放超標(biāo),氨排放速率計算值達標(biāo), 如不對 所產(chǎn)生的 氯氣 進行妥善處理,則會對周邊大氣環(huán)境造成污染 ,影響周邊人群的身體健康 。 低濃度氨對粘膜有刺激作用,高濃度可造 成組織溶解壞死。 2)處理要求 堿性蝕刻液現(xiàn)場再生回用系統(tǒng)應(yīng)配套廢氣凈化塔,對凈化塔的要求如下: ? 凈化塔建議選用填料塔, 塔體應(yīng)選用防腐材料, 鑒于氯氣凈化過程中形成氯化氫,填料層數(shù)要求不少于 3 層; ? 噴淋液 宜 選用 稀堿液,噴淋級數(shù)不少于三級,稀堿液的 pH 和塔內(nèi)液位應(yīng)采取自動控制方式,堿液和自來水的補充投加均應(yīng)實現(xiàn)自動控制; ? 定期更換的噴淋水應(yīng)排入廢水處理系統(tǒng)。 3) 建議驗收內(nèi)容 ? 核實排氣筒高度; ? 監(jiān)測分析排氣量、排放濃度和排放速率; ? 建議監(jiān) 測指標(biāo)包括 氯氣 、氯化氫 氨 。 39 、 危險廢物 、 蝕刻液增量 堿性 蝕刻液在再生回用過程中體積增大,蝕刻液總量會有一定增量。 蝕刻液增量范圍 堿性蝕刻液在再生回用過程一般增量范圍為 3~5%,如日使用蝕刻液量1000L,則再生回用過程中蝕刻液增量為 30~50L。 增量蝕刻液主要污染物種類和濃度 萃取電解法的增量蝕刻液一般在萃銅后以萃余液的方式排出,隔膜電解法的 增量蝕刻液一般在電銅后調(diào)配調(diào)質(zhì)前排出,其主要成份除銅濃度下降外,其它成份與失效蝕刻液基本相同, 主要污染物種類包括 COD、總銅、氨氮。 萃取電解法的增量蝕刻液中主要污染物濃度: 總銅約 60~100g/l、氨氮約200~250g/l、 COD 約 3500~4000mg/l。 隔膜 電解法的增量蝕刻液中主要污染物濃度: 總銅約 85~100g/l、氨氮約180~200g/l、 COD 約 3500~4000mg/l。 增量蝕刻液 的污染特征和危害性 增量蝕刻液 屬于危險廢物,如得不到合理收集和處理處置,極易對環(huán)境造成污染。 增量蝕刻液 的污染防治措施 除恩達電路可處理蝕刻液增量外,其他企業(yè)均不能處理蝕刻液增量, 即對企 業(yè)來講,增量 蝕刻液 已失去利用價值,蝕刻液現(xiàn)場再生回用過程中所產(chǎn)生的蝕刻液 增量應(yīng)作為危險廢物 委托有資質(zhì)的單位處理 處
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