激光倍頻與參量放大-資料下載頁
2025-05-10 02:29本頁面
【正文】 配條件。 調(diào)諧方法： ? 這種調(diào)諧可以利用各向異性晶體雙折射與角度的關(guān)系，或者改變溫度來實(shí)現(xiàn)； 通過折射率的電光變化 ，能夠?qū)崿F(xiàn)有限范圍內(nèi)的快速調(diào)諧。 光學(xué)參數(shù)振蕩器的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng) 一般有如下幾部份組成： (1)激發(fā)光源 (2)非線性晶體 (3)光學(xué)共振腔 (4)相位匹配和調(diào)諧裝置（ 溫度、角度、外場 ） 和頻（頻率上轉(zhuǎn)換） 和頻過程與倍頻相同，其中 ω 3=ω 1+ω 2。 ω 1≠ ω 2 例 1： 1kW泵浦光 10mW 信號光 光學(xué)參量振蕩器（ OPO）的發(fā)展趨勢 ? 是一種極具潛力的寬調(diào)諧固體相干輻射源。 ? 重點(diǎn)方向： 1）用組合調(diào)諧方式進(jìn)行紅外波段的擴(kuò)展和紫外波段的延伸， 2）新型參量振蕩晶體的開發(fā)， 3）光學(xué)參量振蕩器輸出指標(biāo)提高， 4）全固化 OPO系統(tǒng)。 ? 特別是 利用二極管泵浦固體激光技術(shù)，發(fā)展全固化寬調(diào)諧 OPO，它具有高效率、長壽命、結(jié)構(gòu)緊湊、體積小、重量輕、可高重復(fù)頻率工作的特點(diǎn)，將開辟更多的應(yīng)用領(lǐng)域，近幾年發(fā)展十分迅速，是將來多頻激光光源的重點(diǎn)發(fā)展方向。 本章復(fù)習(xí)題 寫出二階非線性極化強(qiáng)度，并由此分析非線性介質(zhì)的二階非線性光學(xué)效應(yīng)。 畫圖描述激光倍頻效應(yīng)及倍頻激光器。 何謂相位匹配技術(shù)，方法上如何實(shí)現(xiàn)？ 何謂光參量放大？畫圖闡述光學(xué)參量放大的原理。 何謂光參量振蕩？畫圖闡述光學(xué)參量振蕩器的調(diào)頻原理。 專題綜述論文題目 ? 電子束光刻技術(shù)（ EBeam Lithography） ? X射線光刻技術(shù)（ XRL） ? 原子層沉積技術(shù)（ ALD） ? 分子束外延技術(shù)（ MBE） ? 液相外延技術(shù)（ LPE） ? 低壓化學(xué)氣相沉積技術(shù)（ LPCVD） ? 金屬有機(jī)氧化物化學(xué)氣相沉積技術(shù)（ MOCVD） ? 離子注入技術(shù)（ Implant） ? 感應(yīng)耦合等離子體刻蝕技術(shù)（ ICP） ? SOI硅技術(shù) ? 1 MOS工藝技術(shù) ? 1 CMOS成像技術(shù) ? 1微機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)（ MEMS） ? 1飛秒激光器系統(tǒng) ? 1量子點(diǎn)激光器（ QDLD） ? 1有機(jī)半導(dǎo)體激光器（ OLD） ? 1半導(dǎo)體激光放大器（ SLA） ? 1 APD光電探測器 ? 3 PIN光電探測器 ? 1藍(lán)寶石襯底圖形技術(shù)（ PSS） ? 集成電光調(diào)制器 ? 2濕法刻蝕技術(shù) ? 2激光刻蝕技術(shù) ? 2軟光刻技術(shù) ? 2全息光刻技術(shù) ? 2 CCD成像技術(shù) ? 2薄膜濺射工藝技術(shù) ? 2 PECVD工藝技術(shù) ? 2離子束光刻技術(shù) ? 2極紫外（ EUV）光刻技術(shù) ? 量子線激光器 ? 3有機(jī)發(fā)光二極管（ OLED） ? 3 GaAs工藝技術(shù) ? 3硅雙極型工藝技術(shù) ? 3雙極 CMOS兼容工藝技術(shù)（ BiCMOS） ? 3 SCALPEL電子束光刻技術(shù)（限角投影散射式，步進(jìn)且掃描） ? 要求： 論文格式應(yīng)規(guī)范， 3000字左右（圖不計(jì)字?jǐn)?shù)），并列出參考文獻(xiàn)目錄，其中必須至少有 1篇相關(guān)英文參考文獻(xiàn)，正規(guī)參考文獻(xiàn)不少于 3篇。必須自己撰寫，文字部分 15分， 抄襲 /COPY比例超過 10%計(jì)為 O分， ppt演講 10分。 ? 要求論述全面、重點(diǎn)突出、思路清晰、表述流暢、準(zhǔn)備充分。
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