【文章內(nèi)容簡介】 負(fù)責(zé)在各個 Bake單元之間搬送玻璃基板 MM： Macro/Micro 宏觀、微觀測試，用于抽測 Mask后的產(chǎn)品宏觀 Mura、 ID以及微觀 Pattern是否合格 MPA： Mirror Project Mask Aligner 曝光機(jī)全稱，鏡像投影 Mask對位儀 MUX: Multiplexer 多路（復(fù)用）器 MVC: Module View Controller 模塊觀察控制器 Notebook 筆記型計算機(jī)（簡稱為 NB） OHS (Overhead Shuttle) 天車或稱軌道車 PE (Plasma Etch) 電漿蝕刻機(jī) P/C： Process Chamber 反應(yīng)腔 PAOS： Primary Alignment Optical System 初次光學(xué)對位系統(tǒng) PPID： Process Parameters ID 工藝參數(shù)地址 Pumping Step 抽真空步驟 Raised floor (grating floor) 高架地板 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語 用語說明 備注 Reticle or Mask 光罩 RIE (Reactive Ion Etching) 反應(yīng)式離子蝕刻機(jī) Roll Brush 輥刷 RPSC ： Remote Plasma Source Cleaning 遠(yuǎn)程等離子源清洗 RTM (Rotary Transfer Machine) 旋轉(zhuǎn)傳送機(jī) SCARA arm AGV之傳送手臂 SECS： SEMI Equipment Communication Standard 設(shè)備通訊標(biāo)準(zhǔn) Shot 一次掃描 Shower 噴淋 Shuttle 搬送單元，將玻璃基板在 Coater內(nèi)各個部分間進(jìn)行搬送 Sputter 濺鍍機(jī) Stepper 步進(jìn)式曝光機(jī) Stripper 剝離機(jī) Tester 測試機(jī) TMP： Turbo Molecule Pump 渦輪分子泵 Titler 刻號機(jī)，廠內(nèi)部分的顯影機(jī)具有此功能，將玻璃基板的 Chip ID, Glass ID及 VeriCode曝出，以為人員及機(jī)臺辦認(rèn)之用 Tool 工具 ,機(jī)臺 UM： Ultra Mirror 超級反射鏡，投影系統(tǒng)（包括凹面鏡、凸面鏡、梯形鏡各一塊） Valve 閥門 , 控制閥 XMag： X Magnification X倍率放大器：位于 UM之上，用于補(bǔ)正光線在 X方向出現(xiàn)的扭曲。 Vehicle 運輸工具或載具 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語 用語說明 備注 Alarm 警報 Alignment 對位 , 對準(zhǔn) APPlasma 常壓等離子 Batch 批量 Battery 電池 Bay 作業(yè)區(qū) Cancel 取消 CD (critical dimension) 關(guān)鍵尺寸（線路關(guān)鍵處的線寬或間距 1），各層 Mask后測試項目，檢測 Pattern尺寸是否符合規(guī)格 CIM (Computer Integration Manufacturing) 計算機(jī)整合制造（指以計算機(jī)系統(tǒng)整合制造流程） Cleanliness 潔凈度 Comp. Completion的縮寫 ,意指完成 Contamination 污染 Defect 缺陷 DGS ： Data Gate Short 數(shù)據(jù)線柵線短路 Distortion 扭曲度，衡量光線從 Mask到達(dá) Plate后產(chǎn)生的扭曲程度 Dust 灰塵 Emergency 緊急 Empty 空的 ESD (Electrostatic Discharge) 靜電釋放 ,靜電擊穿 Etching Rate 蝕刻速率 (=蝕刻厚度 /時間 ) Exit 出口 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語 用語說明 備注 Focus 聚焦，衡量成像清晰程度 FPD:Focal Plane Deviation 焦點水平偏離 FQA:Flatness Quality Area 平面平整性區(qū)域 Glass Fiber 玻璃纖維，摻雜與 Seal 膠中，維持膠高，保證盒厚 HMDS Hexamethyldisilazane的簡寫，為一種化學(xué)中間體，用以增加光阻涂布時對芯片表面之附著力 Humidity 濕度 I/O (Input / Output) 輸入 /輸出 ID (Identity) 識別碼 (如 Lot ID or Chip ID) Instruction 命令 ,指令 Interbay 作業(yè)區(qū)和作業(yè)區(qū)之間 Intrabay 作業(yè)區(qū)之內(nèi) IRIF (InfraRed InterFace) 紅外線界面 Jig Press Jig 壓合 Laminar flow 層流（流體力學(xué)名詞） LCD (Liquid Crystal Display) 液晶顯示器 Lot 指生產(chǎn)在線的在制品或產(chǎn)品 ,簡稱「貨」 Note 批注 Operation 作業(yè) ,操作 Overlay 重合精度，衡量 Gate層外的其他各層與 Gate層重合的程度 Particle 微粒子 Particle Counter 灰塵顆粒檢測機(jī) Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語 用語說明 備注 PE (Plasma Etch) 電漿蝕刻機(jī) PinHole 針點小凹陷 Pixel 像素 *注 . Polarizer Lamination 偏光片貼合 Precaution 預(yù)防措施 Pressure 壓力 Process 制程 Production 生產(chǎn) Prohibit 禁止 PS (Photo Spacer) 功能與普通的 Spacer相同 , 一般用于大尺寸產(chǎn)品 , 且可得到較好的 cell gap Purge 用 CF或 NF系列的氣體通入 CVD清除器壁累積的硅 PVX ： Passivation 鈍化層 Quality 品質(zhì) Radical 活性粒子 Recipe 程序 ,制程參數(shù) Release 將 hold住的貨放行 ,釋出 Report 報告 Reset 重新設(shè)定 Retrieve 【 計算機(jī) 】 檢索 ,擷取 (數(shù)據(jù) ) RF Generator 射頻發(fā)生器。 RF Power ： Radio Freqency Power 射頻功率。 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語 用語說明 備注 RF： Radio Frequency 射頻 RGB (Red, Green, Blue) 指紅綠藍(lán)三原色 Sheet 片 (Array區(qū)玻璃基版計數(shù)單位 ) Spec 制程的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn) Standard 標(biāo)準(zhǔn) (指作業(yè)標(biāo)準(zhǔn)或質(zhì)量指針 ) Sticky mat 腳踏黏墊 Stocker (clean depot) 存放 Cassette(架子 )的暫存區(qū) Temperature (TEMP) 溫度 Uniformity 均勻性 (類似 (大 小 )/平均值的概念 ) UV： Ultraviolet 紫外光 Vacuum 真空 Vender 廠商 Vent 破真空，真空環(huán)境下的玻璃送至 LoadLock閉鎖時，通入氮氣平衡壓力，以防止劇烈的氣壓變化造成破片 Vsync： Vertical synchronization 豎直方向同步信號 Vth： Voltage of Threshold 閾值電壓 Wheel 刀輪，材料為金剛石，主要用途為切割玻璃基板 WIP (Work In Process) 在制品（制程在制品） Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 技術(shù)名詞 用語 用語說明 備注 Active Area 有效顯示區(qū)域，即可以顯示文字圖形的總面積 Active matrix 在畫素或 dot上設(shè)置主動組件，于寫入期間激活主動組件而寫入 data電壓、其它期間則關(guān)閉主動組件以維持電壓之矩陣驅(qū)動方式。依據(jù)主動組件的種類區(qū)分為 3端子型的 TFT方式與 2端子型的 TFD（ MIM）方式。 2端子型的制造工程可簡化。 Antiglare treatment 在液晶面板表面設(shè)置凹凸，以降低鏡面反射之處理。 Antiglare處理的程度是利用積分球式光線透過率量測方式，以全光線透過率與散亂光透過率的比定義的。 Antireflection 在表面上包覆多層折射率不同的膜，用來消除界面的反射光之處理。 Aperture Ratio 開口率，即每個像素可以透光的有效區(qū)域除以像素的總面積，開口率越高，整體畫面越亮。 Aperture ratio 單一畫素中可透光面積與畫素總面積之比值。開口率之大小與 TFT所使用之金屬導(dǎo)線特性及 Cell制程能力有關(guān)。 Aspect Ratio 畫面比率，即畫面寬與高的比率，計算機(jī)畫面及一般影響畫面比率為 4： 3， HDTV可提供 16:9的寬平面屏幕顯示。 Aspect ratio 顯像后的 resist膜，或用蝕刻形成于基板上的 pattern之深度與寬度的比。 Aspect比＝ b/a（ a：蝕刻的寬度，b：蝕刻的深度） B/M (Black Matrix) 于 Color Filter上，用來遮擋 RGB各 Pixel之間空隙，可大幅減少 LCD光點見彼此干擾所產(chǎn)生的光害，呈現(xiàn)更穩(wěn)定且清晰的畫面品質(zhì)，提高閱讀舒適感，減輕長期使用造成的眼部壓力及疲勞感。 Cell gap 指 TFT基板與 color filter基板上 ITO膜之間隙，間隙之大小會影響液晶顯示面板之穿透率及液晶反應(yīng)時間。 CF (Color Filter) 為了使液晶彩色顯示器能顯示彩色，在液晶 cell內(nèi)構(gòu)成的零件之一，在透明基板上依規(guī)則配列紅、綠、藍(lán) 3個原色的 pattern。 Color filter一般是由遮光用的 Black matrix、 color顯示用的著色 pattern、保護(hù)著色 pattern的透明保護(hù)膜、以及驅(qū)動液晶用的透明電極膜等 4種要素所構(gòu)成。 Contrast Ratio 對比度，為黑色與白色之間的對比。比值越高，色彩越鮮明。 Contrast ratio 液晶 On/Off時最大輝度與最小輝度之比。液晶依畫面視角的不同，其 contrast也會跟著改變，因此以最大的對比來表示。通常 STN以 10： 1表示、 TFT以 100： 1表示。 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 用語 用語說明 備注 CRT (Cathode Radial Tube) 陰極射線管 CS:Charge sharing 電荷共享 Data line FT基板中傳達(dá)顯示信號之垂直方向的配線。因為接續(xù)在各畫素 TFT的 Source電極或 Drain 電極上，故又稱為 Source線或 Drain線。線寬通常為數(shù) um到 10um不等。 Dot