ipqc培訓(xùn)資料1(編輯修改稿)
2025-01-27 23:32 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 鉆孔過于粗糙。 追查鉆孔 氯離子太低 . 分析調(diào)整 有機(jī)污染。 活性碳處理 無機(jī)污染。 弱電鍍 針孔或凹陷 :影像轉(zhuǎn)移材料溶出物污染。 活性碳處理 有油脂微粒等不潔 改善前處理或活性碳處理 在板面或鍍液中氯離子太低。 光澤劑不足。 分布不良 :銅含量過高 分析調(diào)整 光澤劑太少或太多 哈氏槽或 CVS實(shí)驗(yàn)調(diào)整 硫酸含量不足 分析調(diào)整 氯離子過高 稀釋或鋅粉處理 溫度太高 冷卻處理 流程： 閃鍍：上板 水洗 水洗 酸浸 電鍍 水洗 水洗 卸板 鍍銅：上板 除油 水洗 水洗 浸酸 鍍銅 水洗 水洗 下板 四、干膜 目的：將光致抗蝕干膜附在覆銅箔的銅面上，然后進(jìn)行曝光，將圖形轉(zhuǎn)移到銅面上。 一 、流程： 壓膜 割膜 切邊 除塵 靜止 對位 曝光 首件檢查 批量生產(chǎn) 轉(zhuǎn)料 壓膜： a 、所有閃鍍的板貼膜后存放時間 12H b、壓膜后靜置 15分鐘進(jìn)行曝光，線寬線距 ≤ 膜存放時間 12H ；線寬線距＞ 可存放時間 24H。 參數(shù)：溫度： 95177。 5℃ 備注：溫度高干膜會變脆，溫度低干膜壓不實(shí)。 速度快，壓力小易脫膜 速度慢，壓力大易干膜皺折。 外觀不良：不允許有氣泡、雜質(zhì)、露銅等。 曝光：將所需要的線路圖像通過光致抗蝕干膜轉(zhuǎn)移到基材上。 ? 曝光能量： 21級曝光尺能量 7177。 1格，抽真空 9098Hg/㎝ 2之間，抽真空 9098Hg/㎝ 2以上。 曝光臺面的清潔；每隔 30分鐘報警器響后，對曝光臺面、對位臺面全面清潔一次，作業(yè)員每對位一次用菲林水對菲林順著線路擦菲林 。并對曝光臺面用酒精上、下臺面進(jìn)行清潔一次。 菲林檢查：刮花、雜質(zhì)；刮花：造成殘銅、連線。 雜質(zhì)：造成缺口、斷線、針孔。 曝光機(jī)開機(jī)作業(yè)前至少預(yù)熱 10分鐘左右。 趕氣不良 趕氣不良 斷線 連線 不 良 圖 示 二、控制重點(diǎn)： ? 查核無塵車間是否有定期做清凈度測試，并做記錄。 ? 粘塵墊是否按規(guī)定時間更換，并做記錄。 ? 進(jìn)入無塵車間人員是否有在風(fēng)淋室吹風(fēng)淋。 ? 核對所用的干膜是否與現(xiàn)場 SOP文件相一致。 ? 核對壓膜參數(shù)：壓力、溫度、速度是否與《條件設(shè)定表》相符。 ? 壓膜后檢查干膜的附著力（用刀片在材料的余料處劃井字，再用 3M膠帶 90度快拉），檢查是否有氣泡、雜質(zhì)、露銅、皺折等不良。 壓膜、曝光后的靜止時間是否附合規(guī)定要求。 ? 采用濕法壓膜，須確認(rèn)純凈水內(nèi)有無臟物，水位是否保持在 2/3的框子高度，并確認(rèn)割膜后的清潔狀況 . 曝光： 確認(rèn)機(jī)種版本與菲林版本、工單、圖紙是否相一致。 確認(rèn)菲林挖孔時挖到成型區(qū)，貼膠帶貼 反現(xiàn)象。 菲林是否有編號，以便后續(xù)追溯。 菲林四周有無設(shè)計黑邊。 作業(yè)員對位時是否按方向孔對位，撕菲林是否斜角撕。 每 2小時查核一次曝光等級與抽真空值是否與 SOP文件一致，并查核車間溫濕度是否在要求規(guī)范內(nèi)。 查核曝光臺面的清潔狀況， Mylar是否按規(guī)定時間更換 ,并做記錄 . 五、蝕刻 目的：確保蝕刻后，將顯影圖像保留。 一、作業(yè)規(guī)范： 工作前清潔光臺，并保持光臺的清潔。 工作時戴好手套或指套，對角拿板。 坐姿端正，身體與光臺隔一個拳頭距離。 檢板時，板與板，板與光臺不能磨擦，工作區(qū)域物品按標(biāo)示位置擺放整齊。 首件檢查核對 MI及流轉(zhuǎn)卡確認(rèn)前工序已檢查。 發(fā)現(xiàn)重大品質(zhì)異常及時通知領(lǐng)班或主管。 準(zhǔn)時、規(guī)范填寫工作記錄及交接記錄。 將抽檢板放在光臺上，以目視或放大鏡進(jìn)行檢查。 發(fā)現(xiàn)不合格品時，用記號筆在無效區(qū)位置劃箭
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