creo20培訓(xùn)教程(編輯修改稿)
2025-01-16 02:46 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 草繪平面 特征創(chuàng)建的方向 伸出項(xiàng) 切割或槽 69 Creo 缺省基準(zhǔn)特征 概述 ?基本特征 ?基準(zhǔn)平面 ?使用缺省基準(zhǔn)作為基本特征 ?創(chuàng)建內(nèi)部基準(zhǔn)平面 70 Creo 缺省基準(zhǔn)特征 基本特征 ?基本特征 — 特征創(chuàng)建新零件時(shí)所作的第一個(gè)，是模型的基礎(chǔ)。 ?TIPS： Ctrl+D可以將視圖定位到缺省位置 71 Creo 缺省基準(zhǔn)特征 使用缺省基準(zhǔn) ?減少不必要的父子關(guān)系 ?在沒有平面的模型上，可使用它作參考 72 Creo 缺省基準(zhǔn)特征 創(chuàng)建內(nèi)部基準(zhǔn)平面 ?內(nèi)部基準(zhǔn)平面是在創(chuàng)建特征過(guò)程中創(chuàng)建 ?創(chuàng)建內(nèi)部基準(zhǔn)平面 ? 在創(chuàng)建特征過(guò)程中創(chuàng)建的內(nèi)部基準(zhǔn)平面屬于該特征 ? 創(chuàng)建特征后，內(nèi)部基準(zhǔn)平面變?yōu)椴豢梢? 73 Creo 缺省基準(zhǔn)特征 創(chuàng)建標(biāo)注模板 ?公制模板的創(chuàng)建方法 ? 設(shè)置單位 ? 設(shè)置公差模式 74 Creo 掃描與混合 概述 ?創(chuàng)建掃描特征 ?創(chuàng)建平行混合特征 75 Creo 掃描與混合 掃描特征 ?掃描特征 — 截面延軌跡線掃描形成的特征 ?掃描特征可應(yīng)用于伸出項(xiàng)、薄板伸出項(xiàng)、切口和切口伸出項(xiàng)以及曲面等等 ?掃描特征的軌跡可被草繪為開放的或閉合的 76 Creo 掃描與混合 掃描特征 ?掃描特征的軌跡可被草繪為開放的或閉合的 封閉的軌跡，封閉的截面 無(wú)內(nèi)表面 77 Creo 掃描與混合 掃描特征 ?掃描特征的軌跡可被草繪為開放的或閉合的 封閉的軌跡，開放的截面 增加內(nèi)表面 78 Creo 掃描與混合 掃描特征 ?掃描特征的軌跡可被草繪為開放的或閉合的 開放的軌跡，封閉的截面 79 Creo 掃描與混合 平行混合特征 ?混合特征 — 兩個(gè)以上的截面通過(guò)它們邊界上的轉(zhuǎn)接曲面連接形成 ?混合特征可用應(yīng)與伸出項(xiàng)、薄板伸出項(xiàng)、切口和切口伸出項(xiàng)以及曲面等等 80 Creo 掃描與混合 平行混合特征 ?混合特征 81 Creo 掃描與混合 平行混合特征 ?至少必須草繪或選取兩個(gè)截面 ?每個(gè)截面圖元數(shù)目相同 ?起始點(diǎn)應(yīng)在正確的頂點(diǎn)上 82 Creo 復(fù)制特征 概述 ?陣列 ? 陣列表 ? 參考陣列 ? 填充陣列 ?復(fù)制特征 ?剖截面 83 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?陣列是需要先選擇特征，然后才可以使用的命令 ?陣列優(yōu)點(diǎn) ? 陣列表現(xiàn)為單一特征 ? 陣列是參數(shù)化的，可改變參數(shù) ? 修改陣列導(dǎo)引尺寸，系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)更新整個(gè)陣列 84 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?陣列類型 ? 尺寸陣列 ? 方向陣列 ? 軸陣列 ? 表陣列 ? 參考陣列 ? 填充陣列 ? 參考陣列 ? 曲線陣列 ? 點(diǎn)陣列 85 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?一個(gè)方向的陣列 ? 注意：使用 Ctrl鍵將兩個(gè)尺寸選取才可疊加到斜陣列 ? 可選擇多于兩個(gè)尺寸，如加入孔徑為第三尺寸 86 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?陣列選項(xiàng) 相同 可變 常規(guī) 再生時(shí)間：相同 可變 常規(guī) 87 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?兩個(gè)方向的陣列 88 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?方向陣列 — 選擇平面、平整表面、直曲線、坐標(biāo)系軸或軸來(lái)定義方向，創(chuàng)建陣列特征。 89 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?軸陣列 — 選擇基準(zhǔn)軸、坐標(biāo)系軸來(lái)定義陣列中心，創(chuàng)建陣列特征。 90 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?旋轉(zhuǎn)陣列 ? 孔的旋轉(zhuǎn)陣列需要使用“徑向孔”來(lái)創(chuàng)建孔，這樣會(huì)有角度尺寸供陣列使用 ? 草繪特征的旋轉(zhuǎn)陣列須創(chuàng)建 內(nèi)部基準(zhǔn)平面（參考面） 必須以某一角度創(chuàng)建內(nèi)部基準(zhǔn)平面 91 Creo 復(fù)制特征 陣列表 ?使用陣列表情況 ? 陣列特征太復(fù)雜或不規(guī)則，不能用尺寸增量控制時(shí) ? 要求標(biāo)注陣列各子例的定位尺寸到同意參考時(shí) ? 多模型安排多個(gè)不同陣列方案時(shí) ?創(chuàng)建方法 ? 選擇要陣列的特征 在類型中選擇“表” 選擇“表尺寸”，按 Ctrl選多個(gè)驅(qū)動(dòng)尺寸 選擇“編輯”打開陣列表進(jìn)行編輯。 ? 編輯完成后使用“文件” “保存”結(jié)束。 ? 將陣列表寫入庫(kù)中，別的零件可以調(diào)用。 92 Creo 復(fù)制特征 陣列表 93 Creo復(fù)制特征 創(chuàng)建陣列 ?參考陣列：參考另一陣列在零件或者裝配環(huán)境下創(chuàng)建陣列特征 ? 當(dāng)在零件模式下對(duì)特征使用參考陣列時(shí)，特征必須創(chuàng)建在原陣列的首位特征上。 ? 在裝配環(huán)境下利用參考陣列做零件陣列時(shí)，則可以任意裝配在陣列中的任何子例上。 94 Creo復(fù)制特征 填充陣列 ?填充陣列：選定柵格用陣列成員填充某個(gè)區(qū)來(lái)陣列特征。 ?類型：正方形、菱形、三角形、圓、曲線、螺旋。 注意：在填充陣列使用前必須已經(jīng)存在可用于填充的曲線，否則再做此特征時(shí)就要進(jìn)入草繪環(huán)境草繪一條（內(nèi)部草繪）曲線 95 Creo復(fù)制特征 復(fù)制特征 ?復(fù)制特征 ? 新參照 — 制定新的特征參考 ? 相同參考 — 保留相同的特征參考 ? 鏡像 — 將特征相對(duì)于平面或基準(zhǔn)平面鏡像 ? 移動(dòng) — 指定旋轉(zhuǎn)或平移 ?復(fù)制命令 ? 操作 — 特征操作 — 復(fù)制 96 Creo復(fù)制特征 復(fù)制特征 ?復(fù)制特征 97 Creo復(fù)制特征 復(fù)制特征 ?復(fù)制特征從屬關(guān)系 ? 獨(dú)立 ? 從屬 ? 可使用“修改” — 使獨(dú)立選項(xiàng)來(lái)斷其從屬關(guān)系 ?選擇要復(fù)制的特征 ? 單擊 ? 全部特征 ? 不同模型 ? 不同版本
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