pcb干膜詳細(xì)資料(編輯修改稿)
2025-01-16 02:28 本頁面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 素：溫度壓力速度壓轆的狀態(tài)基板的狀態(tài)貼膜PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u溫度進(jìn)板溫度 : 20 50 ℃ 壓轆溫度 : 100 125 ℃ 出板溫度 : O/L 43 60 ℃ I / L 63 71 ℃進(jìn)、出板溫是指距壓轆 前、后 3“ 位置處板面的溫度。 貼膜PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u壓轆溫度太高 壓膜折皺、起泡 掩孔能力變?nèi)?產(chǎn)生熱聚作用貼膜u 壓轆溫度太低壓轆溫度太低 附著力變差附著力變差 填覆性變差填覆性變差 線路鋸齒線路鋸齒 滲鍍滲鍍PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u壓力根據(jù)所用設(shè)備類型而定u手動(dòng)貼膜機(jī)： 30 60 psiu自動(dòng)貼膜機(jī)： 30 102 psi壓力過大 = 貼膜折皺、掩孔能力變差壓力過小 = 附著力變差 、 填覆性變差 、 線路鋸齒 、 滲鍍 貼膜PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u速度會(huì)影響干膜的流動(dòng)性及出板溫度根據(jù)所用設(shè)備類型而定u手動(dòng)貼膜機(jī)： m/minu自動(dòng)貼膜機(jī)： m/min速度 過慢 = 貼膜折皺、掩孔能力變差速度 過快 = 附著力變差 、 填覆性變差 、 線路鋸齒 、 滲鍍 貼膜PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制 貼膜速度對(duì)干膜填覆性的影響 : L/S=8/10 mils , Depth=6umSpeed=1m/min Speed=PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u壓轆的狀態(tài)壓轆的狀態(tài)是影響壓膜質(zhì)量的重要因素應(yīng)隨時(shí)注意檢查壓轆的表觀質(zhì)量貼膜膜碎 劃痕 凹陷壓轆PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u壓轆的狀態(tài) 壓痕寬度試驗(yàn) 可以幫助檢查壓力在壓轆上分布的均勻性。貼膜壓轆兩邊位置壓力偏小壓力在壓轆上分布均勻壓轆中間位置壓力偏小PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u基板的狀態(tài) 基板的熱傳質(zhì)情況影響出板溫度u 板厚 u 銅厚u 進(jìn)板溫度貼膜 基板的表面質(zhì)量基板的表面質(zhì)量 影響干膜的填覆性與附著力，影響干膜的填覆性與附著力， 且板邊粗糙會(huì)使板且板邊粗糙會(huì)使板 邊留下過多邊留下過多 的膜碎。的膜碎。u 氧化物、水跡、油漬、手印氧化物、水跡、油漬、手印 磨板后控制在磨板后控制在 1hr內(nèi)完成，內(nèi)完成， 并規(guī)范操作并規(guī)范操作u 雜物、碎片、纖維絲雜物、碎片、纖維絲 貼膜前板面過粘塵機(jī)貼膜前板面過粘塵機(jī)PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制膜下膜下的的 碎片碎片貼膜PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u 作用： 在于通過底片和 UV光的照射，使光照射部分產(chǎn)生聚合作用，從而作為后續(xù)工步中的抗蝕層或抗鍍層。曝光PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u 光化學(xué)反應(yīng)過程 光啟始劑吸收 ； 自由基與反應(yīng)單體產(chǎn)生聚合作用； 反應(yīng)單體間不斷產(chǎn)生聚合作用； 自由基消耗完后或因反應(yīng)單體 /聚合物的比例而使反應(yīng)停止。曝光PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制 曝光 粘結(jié)劑聚合物 (黑色 ) 反應(yīng)單體 (紅色 ) 聚合鏈 (紅色與藍(lán)色 )COOHCOOHCOOHCOOHCOOHCOOH 粘結(jié)劑聚合物 (黑色 )和反應(yīng)單體 (紅色 ) 曝光前簡(jiǎn)單的干膜結(jié)構(gòu)示意圖PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運(yùn)用與控制u工作參數(shù)： 曝光能量： 3575 mj/cm2 曝光級(jí)數(shù)： Cu9 Cu11 (Stouffer 21 Step)， 應(yīng)每 4 hrs檢查一次。 抽真空度：良好，應(yīng)輔以同厚度的導(dǎo)氣條及人工起氣， 必要時(shí)還需在底片上開氣窗，幫助抽氣。 u 曝光能量和曝光級(jí)數(shù)的測(cè)量均需通過工作底片的透光區(qū)。u 曝光后停留 15 min后才能進(jìn)行顯影。曝光
外語相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1