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正文內(nèi)容

各種仿真分析及其執(zhí)行方法(編輯修改稿)

2025-08-28 15:15 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 ll Technologies 主要參數(shù): Max Truncation Error:最大截斷誤差。 EastWell Technologies 直流掃描分析 此分析用于檢驗(yàn)電路中的某個獨(dú)立電源在一定范圍按照指定規(guī)律變化時對靜態(tài)工作點(diǎn)的影響。 EastWell Technologies 主要參數(shù): Independent Source: 獨(dú)立源(在列表中選?。? Sweep Range: 掃描范圍及掃描方式選擇。 Analysis Operating Point DC Transfer : EastWell Technologies 獨(dú)立源列表 選中需要進(jìn)行掃描的獨(dú)立源,雙擊之或單擊 OK按鈕或直接。 EastWell Technologies 可以通過四種方式獲取參與運(yùn)算的獨(dú)立源輸出值: Step By: 以 固定步長遞增。 數(shù)據(jù)輸入格式: from 初始值 to 終止值 by 步長 Linear : 按次數(shù) m計算步長。 數(shù)據(jù)輸入格式: from 初始值 to 終止值 in 次數(shù) Log Steps: 按次數(shù) m計算步長。 數(shù)據(jù)輸入格式: from 初始值 to 終止值 in 次數(shù) Log Steps Set Values: 自定義參數(shù)值。 數(shù)據(jù)輸入格式:將指定數(shù)據(jù)添入文本框。 獨(dú)立源輸出值獲取方式 EastWell Technologies EastWell Technologies 蒙特卡羅分析 在模型參數(shù)值浮動范圍內(nèi)隨機(jī)取樣(取樣點(diǎn)數(shù)目由用戶設(shè)定),利用取得的參數(shù)值進(jìn)行多次特征分析,檢驗(yàn)器件參數(shù)浮動對電路特性的影響。 EastWell Technologies 浮動參數(shù)隨機(jī)取值 Random() 特征分析 (A A2…) 是否完成規(guī)定次數(shù) End Y N 三個未知數(shù): 浮動參數(shù); 參數(shù)的浮動范圍; 規(guī)定次數(shù)。 確定浮動參數(shù) EastWell Technologies 此窗口用于構(gòu)建分析結(jié)構(gòu) Edit: 確定新加入的分析或嵌套在當(dāng)前分析結(jié)構(gòu)中的位置; Add Loop: 添加嵌套; Add Analysis: 添加分析。 利用分析按鈕右側(cè)的下拉菜單也可以調(diào)整分析結(jié)構(gòu) , 如將某個分析提前(Move Up)、 推后( Move Down)、刪除( Delete) 等。 單擊 mc按鈕即可調(diào)出蒙特卡羅分析仿真器。 Analysis Statistical Monte Carlo : EastWell Technologies 主要參數(shù): Runs: 運(yùn)行次數(shù); Seed: 隨機(jī)數(shù)獲取方式; Parameter List: 參數(shù)列表,可通過多種方式選擇進(jìn)行掃描的參數(shù)。 EastWell Technologies All Toplevel Parameters: 所有頂層模型參數(shù); All Parameters: 所有參數(shù); Browse Design: 在參數(shù)列表中選擇需要進(jìn)行分析的信號; Get Parameters from Selected Parts: 追加選擇模式; Append Parameters from Selected Parts :覆蓋選擇模式。 選擇需要進(jìn)行掃描的模型參數(shù)
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