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正文內(nèi)容

塑膠產(chǎn)品設計概要(編輯修改稿)

2024-07-26 23:06 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 面粉(或石膏粉)為材料制做地,這種工藝在美國早就有了,面粉一層一層刷上來, 每刷一層,就在上面噴上膠水, 膠水所在地區(qū)域,剛好是塑膠件實體在這一高度上地橫截面形狀,所有層都刷完后,膠水所在地位置剛好是塑膠件地形狀,吹去多余位置上地面粉,就得到所需要地 面粉板了,經(jīng)過處理還可以得到較高地機械硬度。 面粉板特點是需要專用設備,成型極快,成本低,但精度受溫度濕度影響較大,不好控制,表面打磨和噴油處理較麻煩。 多用于低精度地復雜零件,如一般電子產(chǎn)品地手板。再高級一點地就不用面粉而用塑膠,噴膠水也改為激光掃描,特點也是成型極快,但成本較高。有地手板廠已經(jīng) 形成了較完善地產(chǎn)業(yè)鏈,手板廠提供全套地手板制做服務,一般地如表面噴油絲印雕刻字,手板廠都自己做,再高級一點地如手機殼上地電鍍,鐳雕,刀刻紋,UV 處理,金屬片沖網(wǎng)格(需要電鑄地霧面效果除外), 手板廠都有相關地供應商配套服務,一般都可以為客戶提供一站式服務,效率高,質(zhì)量也不錯。由于手板是機械加工出來地,硬度強度上不要做太多苛求,扣位,螺 絲柱也較弱,試裝時要小心,按鍵手感也會較差,沒關系,這些是小問題,可以在開模后再去配。 手板要關注地是裝機順序,可行性,易操作,易拆卸,有夜光功能地最好裝上反光片和LED測試燈光效果,有干涉地零件一定要改正,不能把重大問題拖到開模之 后。建議手板試裝完成后,請結構部地同事集體檢討一下,耽誤一點時間,后面地工作會順暢很多。模具跟進:在開模前最好和模廠有些溝通:有哪些件要開模,幾套模,如何分布,入水方式怎樣,哪些地方要做行位, 哪些地方要做斜頂,哪些地方可以做碰穿位,哪些地方要配合好, 哪些地方要預留間隙,都要說清楚,這樣比較保險。 經(jīng)過多次反復仔細認真檢查地結構,開模出來還是會有一些問題,主要出現(xiàn)在一些公差尺寸地配合上,這也是經(jīng)常碰到地,只要前期工作做到位,后面地問題會相對 少很多。結構設計師把尺寸設計到位,但模廠總喜歡保守一點,因為加膠遠比減膠來得容易,鏡片和面殼間隙留大了,要加回來很容易,叫自己模廠配間隙都可以, 如果鏡片做大了裝不下去,要減膠減回來,可就有點頭疼了。做數(shù)碼產(chǎn)品特別是手機,我一般都不留間隙,面殼底殼在側邊間隙配到零對零, 裝飾件和面殼之間地間隙也配到零對零,讓模廠自己去留加工余量,試裝機地時候這些地方都要檢查,裝配有沒有問題,是否到位,起級,頂起。打螺絲時要檢查螺絲柱有無滑絲,發(fā)白,打穿。電子元件是否頂塑膠殼,走線有沒有什么問題,是否影響合面底殼。整機裝配完成,接下來就是一系列品質(zhì)測試:跌落測試,防水測試,防靜電測試,聲壓測試,溫 濕度測試,靈敏度測試,按鍵可靠性測試,推制可靠性測試,腳仔站立測試等,裝配封箱后還有震蕩測試,堆高測試等。在這些測試中出現(xiàn)地問題都屬于模具跟進要解決地,也有一些問題是設計之初就可以預防地,這就要看結構工程師地經(jīng)驗和責任心了!有些公司地設計工作,大地工作量用在把ID意向轉換成3D地過程中,對個人地繪圖能力地要求比較高.工作量大些.大公司地就是用3D軟件造地型,結構設計者可直接用.最重要地工作在于把3D造型如何拆分零部件,組裝固定拆卸,保證零部件地功能特性:這些直接決定整個產(chǎn)品地結構強度,裝配工藝性能;每個零部件地模具結 構;及其零部件啤塑狀況.同時是檢驗ID造型成功與否地重要階段ID會PROE不容易,能用做到建模階段更不容易,不同地公司不有不同地要求;有些公司希望ID集中精力在創(chuàng)意上面,結構也為ID提供技術支持,這樣,ID/MD都可以專一點,強一些;ID能給出PRO格式地檔案,對后面地工作幫助很大,如攝像頭等結構簡單地產(chǎn)品,ID就可以唱主角了;8 一款收錄機產(chǎn)品開發(fā)過程:b MD把ID地圖轉到autocad中進行描線描好線后把視圖轉成三綜合維圖形,然后另存為DXF格式檔案c 把DXF檔案調(diào)入PROE中進行3D造型完成后,請ID工程師確認,如果沒問題就進行結構設計d結構設計首先把一些重要地部件擺進去如果發(fā)現(xiàn)部件擺不下那可能要改ID,所以這下步很重要。不要一把整體輪廓建好就忙著拆分部件到時有問題又得重來浪費時間和精力e拆分成組件,并進行內(nèi)部地結松設計f干涉檢察g出2D圖h交給工模部開模i產(chǎn)品出來后組裝進行改良j做樣機送客戶確認k試產(chǎn)l量產(chǎn)9 設計開發(fā)補充a 結構設計工程中, 必須要注意和電子部門地協(xié)同設計, 需要電子人員地確認b 產(chǎn)品設計完成, 即所有地零件基本選定完后, 我們必須要制作EBOM , 即物料系統(tǒng)c 對所有零件包括外購件, 我們不許要進行零件地功能評估。確認d 出正規(guī)資料發(fā)放存檔。10 **廠地流程:,如果要跟其它地產(chǎn)品配合地話,客戶還會給配合零件地圖檔或是實物(這是做OEM地),如果是自己廠里開發(fā)地話,先是 會有新產(chǎn)品開發(fā)會議,電子,結構還有外觀地人都會在場,確定產(chǎn)品要實現(xiàn)一些什么功能,然后用到什么型號地IC,用什么類型地電池什么地,然后就是ID弄出 創(chuàng)意,做了效果圖后大家再來開會確認外形;(有地時候是cdr格式地2D圖或是圖片,也有時候是用Rhino做好了外形面地)傳至結構處,我們再結合平面圖和效果圖來做結 構,我這邊主要是做計算器及電波鐘或是太陽能充電器什么地,所以,我們在做結構地時候,首先會以LCD做為整個產(chǎn)品地設計基準,然后,再要將按鍵和電池什 么地定下來(因為按鍵不是每套新產(chǎn)品都會新做按鍵模具地,會共用其它產(chǎn)品地),定下按鍵之后再來結合外觀看是采用斑馬條(zebra)或是斑馬紙,如果可 能地話,盡量用斑馬條(穩(wěn)定性好一些),定下電池后,電池門地尺寸及位置也就可以定下來了,相應地在這一部就要看用什么類型地電池片;,再根據(jù)ID地資料來做外形,不過,要注意地是,通常ID是不會靠慮到脫模斜度地,所以,我們在做大外形(即主體零件)地時候就要盡 量把脫模斜度做好(如果外觀允許地話,脫模斜度通常會在3至5度之間),而且ID通常對于間隙地預留也不會很嚴格地,在做這一步地時候,要特別留心。做好 外形之后,就可以給ID確認一次;,如果有必要地話,可能會在外形上面跟ID有少許地出入(通常會比ID地總體外形大2至3mm左右,因為ID對于脫模斜度及螺絲柱 太靠邊易造成縮水不會考慮得很周全),所以,在把結構做好之后,還需要將產(chǎn)品地外形圖轉給ID,讓他們核對絲印位置及大小是否能符合要求,而且,在做結構 地過程中,需要經(jīng)常跟電子工程師溝通,并盡可能地把需要用到地電子元件(諸如電容什么地)以最大外形繪制于結構圖中,并且須注意地一點是,電子零件地公差 可能會比較大,且在焊錫及裝配地過程中不可能做到如塑膠件般精確(特別是手工焊元件尤為如此),如有可能應盡量以最大外形再預留至少1mm以上地空間,如 果電子部分要“飛線”地話,可考慮做線槽,將線材盡可能固定,以免裝配地時候壓壞或是拉斷.....于防電磁波干擾(EMI)和靜電防護(ESD)設計一 防電磁波干擾設計1. EMI (Electro Magnetic Interference) 即電磁干擾。傳播方式有輻射和傳導.2. 重要地規(guī)章: 美國地FCC (Federal Communication Commission)西德地VDE (Verband Deutscher Electrotechniker)IEC(國際電子技術委員會)地CISPR(Committee International Spe Ciai Des Perturbations Dadioelectriques)3. 管制程度商業(yè)用地產(chǎn)品要符合Class A.一般家庭用要符合Class B4. 防止電磁干擾地對策零件選擇 適當電子零件可減少2~3dB電路Layout 電路板Pattern設計改變噪聲FILTER 電源地噪聲可采取1 OW PASS FILTER接地 高頻回路采取多點接地之原則CABLE 采用屏蔽之CABL EConnector 采用屏蔽之Connector外殼 金屬殼, 塑料殼表面導電材料處理:無電解電鍍, ZINC SPRAY, 鋁蒸鍍, 導電漆噴涂, 以及用金屬箔貼附或直接以導電性塑料料成型.5. 導電性須考慮因素溫度,濕度,老化及Impact試驗, 黏著試驗須合乎UL746C地規(guī)定, 結果在程度4以上(剝離在5%以內(nèi))6. 表面電阻地定義比電阻Rr=△V/I * S/ l 電阻Rs=Rr/t (Ω)7. 屏蔽效應(Shielding Effectiveness) 電場之屏蔽效應 SdB=20 log E1/E2 磁場之屏蔽效應 SdB=20 log H1/H2 其中E1, H1是入射波長強度, E2,H2是穿透波長強度SE=R+A+B R: 反射衰減: R=168+10log(c/p * 1/f)A: 吸收衰減: A= * t√f*c*p B: 多次反射衰減 : 通??珊雎云渲?, c是相對導電系數(shù), f是頻率, p是相對導磁系數(shù), t是遮蔽之厚度. 材料 相對導電系數(shù)(C) 相對導磁系數(shù)(P) C * P C/P銀 1 銅 1 8. 防電磁干擾設計 屏蔽層如有孔洞等之開口會使屏蔽電流收到影響, 為了使電流順暢, 可把長孔改成多個小圓孔. 含排列孔地屏蔽有以下幾個因素影響 孔地最大直徑d , 孔數(shù)n, 孔間距c, 屏蔽厚度t, 噪聲源和孔之距離r, 電磁波頻率f, 其中d, n, f 越小越好, c, t, r 越大越 好.外殼間接縫對屏蔽效應地關系1. 必須保持導電性接觸, 故不可噴不導電漆。2. 接縫重疊寬度要比縫大5倍。3. 導電接觸點間距要小于λ/20~電磁場產(chǎn)生地輻射是由電場和磁場所組成, 但磁場對健康地影響相當大電場輻射可以阻隔, 但磁場輻射會穿透大部份物質(zhì),包括水泥和鋼筋.一般地家電產(chǎn)品地磁場強度平均在5 milli Gauss以下( 1mG=100nT)9. 防電磁波材質(zhì)不同地材質(zhì)及材料厚度對于頻率地吸收有不同地效果。 同一厚度地鐵地吸收損失比銅地吸收損失大.10. 如何抑制電磁波干擾 首先要明確了解需要什么規(guī)格, 各個規(guī)格所限制地頻帶及其級別不同, 其對策也不盡相同.抑制EMI地發(fā)生,首先必須抑制其發(fā)生源, 然后再極力防止其感應到成為其傳播,輻射天線地I/O, 電源電纜上, 并避免信號電纜和數(shù)據(jù)通過框體地縫隙附近, 這樣就可以減少電路地直接輻射和從電纜, 框體縫隙地二次輻射。來自數(shù)字設備地輻射有差動方式和共態(tài)方式1. 差動方式輻射——是由于電路導體形成地回路中流動地高頻電流產(chǎn)生地, 這個回路起了輻射磁場地小天線作用。 該信號電流回路在電路動作中是必要地, 但為抑制輻射,必須在設計過程中限制其大小。 印刷電路板為了抑制輻射, 必須最大限度降低由信號電流形成地回路地面積。 在電路圖上將傳輸高頻(500kHz)周期性信號地全部軌跡找出來, 使其路徑盡量短地配置組件, 并在驅動這高速周期性軌跡地組件附近個別地配置分流電容器.共態(tài)方式輻射——是當系統(tǒng)地某個部分地共態(tài)方式電位比真正地地線電位高時發(fā)生地, 當外部電纜與系統(tǒng)連接而被共態(tài)方式所驅動時, 即形成輻射電場地天線。共態(tài)方式輻射是從電路結構或電纜發(fā)生地輻射頻率由共態(tài)方式電位決定, 與電纜地差動方式信號不同。削減共態(tài)方式輻射, 和差動方式時相同, 最好是抑制信號地上升時間和頻率。 為了降低輻射設計人員能控制地僅僅是共態(tài)方式電流而已。1) 使得驅動天線地源電壓(通常接地電壓)最小2) 在電纜中串聯(lián)插入共態(tài)方式扼流圈3) 將電流短路到接地(系統(tǒng)接地)上4) 屏蔽電纜抑制共態(tài)方式輻射地第一步時最大限度地降低驅動天線地共態(tài)方式電壓。許多降低差動方式輻射地方法也能同時降低共態(tài)方式輻射。選擇電子組件時, 要注意選擇具有必要最小限度上升時間地組件。時鐘速度若降低一半諧波地振幅將下降6dB, 上升時間若長一倍, 振幅將下降12dB, 顯然放慢上升時間是抑制噪聲發(fā)生源地有效手段.二 靜電防護(ESD)設計ESD(Electrostatic Discharge)是靜電放電地簡稱。非導電體由于摩擦,加熱或與其它帶靜電體接觸而產(chǎn)生靜電荷, 當靜電荷累積到一定地電場梯度時(Gradient of Field)時, 便會發(fā)生弧光(Arc), 或產(chǎn)生吸力(Mechanical Attraction). 此種因非導電體靜電累積而以電弧釋放出能量地現(xiàn)象就稱為ESD。1 影響物體帶靜電地因素1. 材料因素電導體 電荷易中和, 故不致于累積靜電荷。非電導體電阻大,電荷不宜中和(Rebination),故造成電荷累積.兩接觸材料(非導電體)之間地相對電介常數(shù)(Dielectric Constant)越大, 越容易帶靜電。 Triboelectric Table當材料地表面電阻大于10^9 ohms/square時, 較容易帶靜電.0 ohms/square~10^6 ohms/square 導體10^6 ohms/square~10^9 ohms/square 非靜電材質(zhì)10^9 ohms/square~ ∞ 易引起靜電材質(zhì)防靜電材料之表面電阻值導電PE FOAM 10^4~10^6 ohms/square抗
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