有關(guān)有機(jī)半導(dǎo)體鈣鈦礦結(jié)構(gòu)作為發(fā)光層的oled的發(fā)展和分析(編輯修改稿)
2025-07-26 02:33 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 移率。這樣才能使激子復(fù)合區(qū)域遠(yuǎn)離陰極，并提高激子產(chǎn)生的速率。2)有合適的HOMO和LUMO能級。這是為了使電子有最小的注入勢全，減小工作電壓。3)最好同時具有空穴阻擋能力，減少空穴在陰極處的漏電流。具有空穴阻擋能力的電子傳輸材料應(yīng)當(dāng)有大能隙和低HOMO能級()。一般而言，發(fā)光材料應(yīng)具有可見光波段的發(fā)射光譜，突光內(nèi)量子效率越高越好。OLED中的發(fā)光材料根據(jù)分子量大小可分為兩大類：小分子和高分子(或稱聚合物)：1)小分子材料的優(yōu)點是可用于多層器件，在器件結(jié)構(gòu)上根據(jù)需要盡情組合設(shè)計，自由度極高。缺點是制備過程需要真空，工藝相對于旋涂較為復(fù)雜。2)高分子材料的優(yōu)點是可以溶于有機(jī)溶劑旋涂成膜，制備工藝成本低。缺點是只能制備單層器件，無法對載流子復(fù)合區(qū)域進(jìn)行精準(zhǔn)定位，器件結(jié)構(gòu)上幾乎沒有可選擇的余地。OLED的發(fā)光方式可以大致被分為本征發(fā)光、激基復(fù)合物發(fā)光和摻雜系統(tǒng)發(fā)光三種。其中摻雜系統(tǒng)的制備手段有混合共蒸和溶液共溶旋涂兩種，在本文中都會用到。主客體摻雜發(fā)光系統(tǒng)的應(yīng)用是最為廣泛的。因為具有優(yōu)越的電子傳輸和發(fā)光特性的發(fā)光主體材料可以和各種高熒光效率的客體發(fā)光材料相結(jié)合，得到高效率的電致發(fā)光和多種發(fā)光色度。且主客體材料的能級通過人為設(shè)計搭配，可以適應(yīng)各種界面能級，轉(zhuǎn)換成不同功能層，其組合方式擁有無限可能。 ITO基片的清洗和處理本文中的器件都制備于ITO導(dǎo)電玻璃基底上，ITO出廠時已被腐蝕成條狀。ITO玻璃基片均經(jīng)過嚴(yán)格的清洗：①用脫脂棉和洗漆劑擦洗掉基片表面的油污和雜質(zhì)，并用去離子水沖洗，視情況可重復(fù)多次，以清水從表面流過無停頓點為合格。②將基片依次浸入丙酮、無水乙醇和去離子水中用超聲波清洗儀清洗10~15分鐘，去掉表面殘留的難溶有機(jī)物。③在超凈間里用高壓氮?dú)鈱⒒砻娲蹈伞＂茉谕L(fēng)櫥里紫外燈下通入氧氣8~10分鐘，利用臭氧填補(bǔ)表面氧空位，提高陽極功函數(shù)。 薄膜制備方法薄膜的制備方法有三大類：外延法、甩膜法和真空法。只有在生長單晶薄膜時需要用到外延法。用膜法就是用適當(dāng)?shù)娜軇Ⅲ{分子材料(分子量大于1000的材料歸類為高分子)溶解，用滴管把少量溶液滴在旋轉(zhuǎn)的圓盤上，使溶液向四面散開。待溶劑揮發(fā)后，得到厚度均勾的薄膜。這種方法最簡便，成本最低，也可發(fā)展延伸為浸泡、噴涂及印刷等方法。真空法可分為等離子體濺射、電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā)[58]，在本文中都會不同程度的涉及到：，形成等離
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