用tmt處理含銅氨絡合物廢水的設計研究(編輯修改稿)
2025-07-21 04:26 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 α1 (λ= 197。)為輻射源，工作電壓40kV，掃描范圍為2θ＝10176。~90176。，掃描速度為8176。/min。C、H、N、S的分析在Flash EA 1112 Series型元素分析儀上進行。銅濃度的測定在Iris Interpid Ⅱ XSP型電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICPAES)上進行。 試驗方法 殘余銅濃度的測定 在研究影響銅去除效果因素的試驗中，我們配制了含不同銅和氨濃度的溶液各100mL，分別加入一定量的TMT15藥劑，絮凝劑（聚合氯化鋁PAC）和助凝劑（聚丙烯酰胺PAM）后，靜置一定時間，取上清液用ICPAES儀測定其殘余的銅濃度。 沉淀產(chǎn)物的制備 為了較好地研究TMT螯合沉淀法所生成的沉淀，我們結合現(xiàn)場的實際，按下述實驗條件制備了研究所用的沉淀物。我們配制溶液的銅初始濃度為500 mg/L，氨濃度為500 mg/L，按反應（1）的物質(zhì)摩爾比（TMT與Cu的摩爾比為2：3）加入一定量的TMT15后，立即生成紅棕色沉淀，不加入任何絮凝劑與助凝劑，攪拌30分鐘后，將此沉淀過濾，用水和乙醇沖洗數(shù)遍后，先在室溫下干燥，然后放入烘箱在130176。C下干燥6h，即得到我們的研究對象。 沉淀產(chǎn)物的滲濾性實驗 用Mettler Toledo g，放入已裝有50mL去離子水的容量瓶中，室溫條件下在往復式水平振蕩機上連續(xù)振蕩96h，振蕩頻率為110177。10次/min，振幅為40mm，用ICPAES儀測濾液中銅濃度。2結果與討論 影響銅去除效果的因素研究 氨濃度對銅去除效果的影響 我們用CuCl2和氨水配制了四種氨濃度不同的溶液各100mL，其中銅離子濃度均為500mg/L，而NH3的濃度分別為0、50、500和5000mg/L。然后按化學反應摩爾比的劑量（TMT與Cu的反應摩爾比為2：3）加入TMT15，靜置30min后，取上層清液測定剩余銅濃度，結果見表2。從表2中可以看出，在銅的初始濃度與TMT15的加入量都相同的條件下，溶液中絡合劑氨的濃度越高，處理后的殘余銅濃度也越高，銅的去除率下降。對于這種氨濃度較高的銅氨溶液，[4]，我們加大了TMT15的劑量，以便有足夠多的TMT分子來解離穩(wěn)定的銅氨絡合離子，試驗結果也列入表2?？梢姡瑢τ贜H3濃度分別為5
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