潛在缺陷模式以及影響分析(編輯修改稿)
2025-07-15 05:10 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 度，用O(Occurrence)表示部件的發(fā)生概率，用D(Detection)表示缺陷可被發(fā)現(xiàn)的程度，用RPN(Risk Priority Number)表示風險系數(shù)，RPN值可查下表，用RPN值可評價缺陷的影響程度大小。 嚴重性 (Severity)評估標準和排序系統(tǒng)影響影響嚴重性的標準排序無事先預(yù)兆的破壞非常高的嚴重性，當此缺陷模式影響安全操作和(或)輿政府法規(guī)相違背且無預(yù)兆10有預(yù)兆的破壞當此缺陷模式影響安全操作和(或)輿政府法規(guī)相違背且有預(yù)兆，嚴重性很高9很高當操作無法進行，喪失主要功能8高操作可實施，但降低了性能，客戶不滿意7中操作可實施，但舒適輿方便方面有損失，客戶的實踐證實不舒適6低操作功能可實現(xiàn)，但舒適輿方便性能降低，客戶有些不滿意5很低舒適程度不夠，這類缺點被大多數(shù)客戶發(fā)現(xiàn)4非常低舒適度等項目不合適，被部分客戶發(fā)現(xiàn)3罕見舒適度等項目不合適，被個別客戶發(fā)現(xiàn)2極為罕見無影響1 發(fā)生概率(Occurrence)建議評估標準缺陷概率可能不良率CPK(工序能力)排序很高，缺陷幾乎不可避免≧1/2101/3≧9高，重復(fù)發(fā)生的缺陷1/8≧81/20≧7中等，偶然缺陷1/80≧6中等，偶然缺陷1/400≧5低，相對少的缺陷1/2000≧41/15000≧3極低，缺陷基本不會發(fā)生1/150000≧21/1500000≧1 可探測性(Detection)建議評估標準探測性標準：設(shè)計(工序)探測出的可能性排序絕對不可能設(shè)計(工序)控制不能偵測出潛在原因和缺陷模式，或沒有設(shè)計(工序)控制10非常困難設(shè)計(工序) 控制偵測出潛在原因或不良模式的概率微乎其微9困難設(shè)計(工序) 控制偵測出潛在原因或不良模式的概率
數(shù)學(xué)相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1