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光刻技術(shù)簡介ppt課件(編輯修改稿)

2025-06-02 03:51 本頁面

　

【文章內(nèi)容簡介】的感光性有很大影響，每種光刻膠都有自己的吸收峰和吸收范圍，它只對波長在吸收范圍內(nèi)的光才比較敏感，因此選擇的曝光光源必須要滿足光刻膠的感光特性。顯影就是用顯影液溶解掉不需要的光刻膠，將光刻掩模板上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上。顯影液的選擇原則是：對需要去除的那部分光刻膠膜溶解的快，溶解度大；對需要保留的那部分光刻膠膜溶解度極小。堅膜也是一個熱處理步驟。堅膜的目的就是使殘留的光刻膠溶劑全部揮發(fā)，提高光刻膠與襯底之間的粘附性以及光刻膠的抗腐蝕能力。刻蝕就是將涂膠前所沉積的薄膜中沒有被光刻膠覆蓋和保護的那部分去除掉，達(dá)到將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到其下層材料上的目的。刻蝕濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進行腐蝕的技術(shù)。特點： 1：具有優(yōu)良的選擇性。 2：各向同性腐蝕干法

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